【課題】可動状態に形成した可動部に、破損を抑制した状態で様々な処理が行えるようにする。
【解決手段】デバイスウエハ１０１とマスクウエハ１０３とを位置合わせして貼り合わせた後、ＭＥＭＳ素子１０２に対してマスクウエハ１０３の開口部１０４を介した選択的なドライ処理を行う。例えば、ＭＥＭＳ素子１０２の可動部（不図示）に対し、物理的気相堆積または化学的気相堆積などのドライ処理により金属などの膜を選択的に形成する。一例として、ＭＥＭＳ素子１０２に対して選択的に金からなる金属膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】層がその上に作製される基板に対して実質的に垂直な側面を有するＡｌＮ層を作製する方法を提案する。
【解決手段】基板（２）の表面（２’）に対して実質的に垂直な側面を有するＡｌＮ層を作製する方法において、基板（２）上にＡｌＮ成長層（４，４’）を形成する段階と、少なくとも前記成長層上にＡｌＮ層（３１）を堆積する段階と、その少なくとも１つの縁部が、前記基板（２）の表面（２’）または前記成長層（４）の表面（４’）に実質的に垂直な平面において少なくとも１つの縁部（１０，１２，１４）または前記成長層（４，４’）の側面（１０ａ，１０ｂ）と整列されるように、ＡｌＮ層を覆ってマスク層（４０，４０’）を形成する段階と、を有する方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】外力の大きさ及び方向、並びに加速度を検出することができ、低コストに製造することのできる力学量センサ及び力学量センサの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る力学量センサは、基板と、前記基板上に配置された複数の固定部と、前記複数の固定部にそれぞれ一端部が支持されて前記基板から離隔して各々が所定の間隙を空けて配置された複数の可動電極と、前記複数の可動電極の他端部に各々隣接して力学量の検出方向に配置された固定電極と、前記複数の固定部に各々電気的に接続された複数の第１端子と、前記固定電極に電気的に接続された第２端子と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一性の高い離型層をテンプレート表面に形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にＯＨ基を分布させる工程と、前記ＯＨ基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。これらの処理は、アミンが所定濃度以下に管理された環境で行われる。 （もっと読む）

【課題】特性の良い機能素子を有する電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子装置１００の製造方法は、基板１０の上方に機能素子２０を形成する工程と、機能素子２０を覆う絶縁層３０，３２，３４を形成する工程と、絶縁層３０，３２，３４をエッチングして、機能素子２０の周囲に空洞部１を形成する工程と、空洞部１を封止するように、空洞部１の上方に封止層５０，５４を形成する工程と、絶縁層３０，３２，３４の上方に樹脂層６０を形成する工程と、基板１０の下方側から基板１０をエッチングして、空洞部１と連通する開口部３を形成する工程と、空洞部１を封止するように、気相成長法によって、開口部３の内面に被覆層８０を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を克服できるマイクロ流体チップデバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体チップデバイスが提供される。マイクロ流体チップデバイスは、基板層（２）とマイクロ流体層（３）を含むマイクロ流体チップデバイスとする。基板層（２）は、形状記憶高分子により形成され、記憶された形状と一時的な形状の間で変形する際に体積変動が生じる変形可能部分（２１）を含む。マイクロ流体層（３）は、基板層（２）にラミネートされており、変形可能部分（２１）と流体連通されたマイクロチャンネル（３１）を有する。変形可能部分（２１）は、記憶された形状と一時的な形状の間で変形する際に、マイクロチャンネル（３１）内に流体駆動圧を発生させる。マイクロ流体チップデバイスの製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】微小な傾斜構造体を製造することを課題とする。
【解決手段】傾斜構造体の製造方法は、基板部１３ａの上に軸部１３ｂを形成し、軸部の上面が露出し、且つ軸部の上面と接続する上面を有する犠牲膜を基板部１３ａの上に形成し、軸部の上面及び犠牲膜の上面に傾斜構造体膜７を形成し、軸部の上面と軸部の側面によって構成される角部の上に位置する傾斜構造体膜７の膜厚を薄く加工することにより、傾斜構造体膜に前記角部の上に位置する薄膜部１１を形成し、傾斜構造体膜７と基板部１３ａとの間の犠牲膜を除去し、傾斜構造体膜と基板部との間に液体１８を供給し、液体１８を除去することにより、ステッキングを発生させ、傾斜構造体膜を薄膜部１１で曲げ、傾斜構造体膜の端部を基板部に接合することで、基板部と傾斜構造体膜によって鋭角を構成する。 （もっと読む）

【課題】圧電素子に確実にワイヤーボンディングを行うことが可能な光走査装置を提供する。
【解決手段】光走査装置１の固定台座３０に、走査ユニット２０の圧電素子２２が設けられる領域に対応して、前記圧電素子２２の下方を支持する支持部材４０を挿入可能な固定孔３７を設けた。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、樹脂材料により製造され、表面にマイクロチャンネルを有するマイクロチップ基板とフィルムの接合方法において、熱プレスや超音波溶着による熱圧着、または接着剤を用いる接合では、接合できない、もしくは接合力の弱い材料に対して、より効果的にマイクロチップ基板とフィルムを接合する方法を提供するものである。
【解決手段】
樹脂部材を貼り合わせて作製するマイクロ流路チップであって、二つ以上の樹脂部材の表面を表面酸化処理により親水化処理し処理面を向かい合わせて熱圧着にて接合させることによりマイクロ流路チップを得た。 （もっと読む）

【課題】薬物がマイクロニードルの先端部分（貫入部）に集中したマイクロニードルシートの製造方法を提供する。
【解決手段】スタンパ６の第１の表面Ｓｔから、当該第１の表面Ｓｔに対向する第２の表面Ｓｂに向かって、第１の所定長だけ先細りに延在する錐状の凹部７に、第１のマイクロニードル原料２１を充填し；前記凹部７に充填された第１のマイクロニードル原料２１を、６０％以上９９％以下である、所定の相対湿度の環境下で乾燥させて、前記第１の所定長より短い第２の所定長だけ延在するニードル先端層２５ｂを形成し；前記ニードル先端層２５ｂの上に、第２のマイクロニードル原料２４を充填し；前記充填された第２のマイクロニードル原料２４を乾燥させて、前記ニードル先端層２５ｂに連続するシート基体２７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ加工技術を立体サンプルに拡張する際に、均一な光照射を
サンプル基板平面に施す露光方法では、レジスト膜厚の不均一と界面反射の問題に対処で
きないため、露光エネルギ密度が立体上に用意されるレジストに対して適切な値から外れ、
場所によるオーバードーズやアンダードーズからなる露光ムラや、反射光による異常パタ
ーンが生じる課題があった。
【解決手段】 液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上の
レジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面
上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確
実に低減できる。 （もっと読む）

【課題】密着膜を備え、配向の揃った圧電体膜の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）Ｓｉ基板１１上方に、酸化シリコンの絶縁膜１２、Ｔｉ層１４、その上にＰｔ層１６を堆積し、（ｂ）Ｔｉ層１４、Ｐｔ層１６を堆積した基板１１をプラズマ気相堆積装置に搬入し、（ｃ）プラズマ気相堆積装置内において、基板１１を不活性ガス雰囲気中で、圧電体膜堆積温度まで加熱し、（ｄ）プラズマ気相堆積装置内において、加熱した基板１１上に、プラズマ気相堆積により、酸化物圧電体膜１８を堆積する。さらに圧電体膜１８上にＰｔ等の上部電極２０が形成される。 （もっと読む）

【課題】共振型のＭＥＭＳデバイスの共振周波数を好適に設定することが可能なＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ミラーを支持して共振状態で揺動させる構造体と、構造体に接着される台座とを有するＭＥＭＳデバイスの製造方法であって、測定工程と、補正量決定工程と、接着条件決定工程と、接着工程とを含む。測定工程では、構造体の寸法が測定される。補正量決定工程では、測定工程で測定された構造体の寸法から、測定工程で測定対象であった一の構造体を有するＭＥＭＳデバイスの共振周波数を、基準とする共振周波数にするまたは近似させるための補正量が決定される。接着条件決定工程では、補正量決定工程で決定された補正量から、一の構造体と台座とを接着するための接着条件が決定される。接着工程では、接着条件決定工程で決定された接着条件で、一の構造体と台座とが接着される。 （もっと読む）

【課題】 光フィルターの製造時にはオゾンまたは紫外線から反射膜を保護して、反射膜が劣化することを抑制することができる光フィルターの製造方法並びに分析機器及び光機器を提供すること。
【解決手段】 光フィルター１０の製造方法は、第１反射膜４０が形成された第１基板２０を準備し、第２反射膜５０が形成された第２基板３０を準備し、第１基板の第１接合領域に第１接合膜１００を形成し、第２基板の第２接合領域に第２接合膜１１０を形成し、第１マスク部材を用いて第１接合膜に、オゾンまたは紫外線を照射し、第２マスク部材を用いて第２接合膜にオゾンまたは紫外線を照射し、第１接合膜と第２接合膜とを接合して第１基板と第２基板とを貼り合わせることを含む。 （もっと読む）

【課題】品質を低下させることなくマイクロマシンデバイスを製造することができるマイクロマシンデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロマシンデバイスの製造方法であって、複数のマイクロマシンデバイスが形成される前の基板に対して格子状に設定されたストリートに対応する領域に基板の破断起点となる加工を施す破断起点形成工程と、破断起点形成工程が実施された基板の表面における該ストリートに対応する領域によって区画された複数の領域にマイクロマシンデバイスを形成するデバイス形成工程と、デバイス形成工程が実施された基板に外力を付与して基板を破断起点が形成されたストリートに対応する領域に沿って破断し、個々のマイクロマシンデバイスに分割する基板破断工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 光フィルターの製造時又実使用時にはオゾンまたは紫外線から一対の反射膜を保護して、光フィルター特性を劣化させることがない光フィルター及びその製造方法並びに分析機器及び光機器を提供すること。
【解決手段】 光フィルター１０は、対向する第１，第２基板２０，３０と、第１，第２基板に設けられた第１，第２反射膜４０，５０と、第１，第２基板に設けられた第１，第２接合膜１００，１１０と、第１，第２反射膜の表面に形成された第１，第２バリア膜１２０，１３０とを有する。第１バリア膜はオゾンまたは紫外線の透過率が第１反射膜よりも低く、第２バリア膜はオゾンまたは紫外線の透過率が第２反射膜よりも低い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マイクロエレクトロメカニカルシステムにおける可動機械部分の浮遊を伴う製造方法を提供するものである。
【解決手段】本方法は、多孔質ゾーンが半導体材料の第１ウェハの前面上で形成されていることに特徴づけられている。マイクロエレクトロメカニカルシステムの可動機械部を構成するのに適した材料のパターンは、犠牲層内で覆われ、多孔質ゾーンのレベルに位置する第１ウェハの前面上に形成される。さらに犠牲層用の溶液によるアタックに耐える材料である層が形成される。可動機械部の浮遊は、犠牲層用の溶液の助けで多孔質ゾーンを通って第１ウェハの裏面より行われる。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳデバイスの製造方法において、陽極接合の際の空気の逃げ道を確保しつつ、陽極接合に必要な電圧を小さく抑える。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの製造方法は、ＳＯＩ基板を用意する工程Ｓ１と、第１シリコン層を、複数の基本パターンに分割されつつ全てがブリッジ部によって接続されて全体が一体物となった形状にパターニングする工程Ｓ２と、中間絶縁層をエッチング除去することによって上記ブリッジ部の各両側の空間を連通させる工程Ｓ３と、基材と上記ＳＯＩ基板とを貼り合わせる工程Ｓ４と、電圧を印加することによって陽極接合させる工程Ｓ５と、第２シリコン層をパターニングして高架シリコン層を形成するとともに上記ブリッジ部を露出させる工程Ｓ６と、上記高架シリコン層をマスクとして上記第１シリコン層から基礎シリコン層を形成しつつ上記ブリッジ部を除去する工程Ｓ７とを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、ハードマスク層は基板に対してエッチング選択比が高い材料であるため、形成する３次元構造パターンに対応するハードマスク層の段差は、所望する３次元構造パターンよりも、深さを小さくすることが出来る。また、ハードマスク層に段差を形成するにあたり、ハードマスク層を基板表面を覆うように残存させることにより、複数段のパターン形成において、基板の帯電（チャージアップ）を抑制することが出来る。 （もっと読む）

【課題】所望する光反射面を有するマイクロミラーアレイを製造すること。
【解決手段】基板３に支持部４を介して傾動可能に支持される可動板５の上面側に、光反射面２が設けられる金属柱２０を形成する際、可動板５の上面側を露出させる開口４０ａを有する保護膜４０を形成し、その開口４０ａ内に銀メッキを施して銀製の金属柱２０を形成した後、その金属柱２０の上端面２０ａに鏡面加工を施して光反射面２を形成することとした。 （もっと読む）