【課題】応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。１つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および／または移動可能層の使用を通じて得られる。 （もっと読む）

【課題】高感度化、製造効率の改善、低コスト化、高信頼性化の少なくとも１つを実現した物理量センサー素子、物理量センサー素子を備える物理量センサー、および、物理量センサー素子を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の物理量センサー素子１は、絶縁基板２と、絶縁基板２の上方に設けられている可動部３３と、可動部３３に設けられている可動電極指３６１〜３６５、３７１〜３７５と、絶縁基板２上に設けられ、且つ可動電極指３６１〜３６５、３７１〜３７５に対向して配置された固定電極指３８１〜３８８、３９１〜３９８と、を含み、絶縁基板２には、配線４１、４２、４３を有する凹部２２、２３、２４が設けられ、平面視で配線４１、４２、４３と重なる位置の素子片３に凸部４７１、４７２、４８１、４８２、５０が設けられ、配線４１、４２、４３と凸部４７１、４７２、４８１、４８２、５０とが接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い信頼性を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係る電子デバイス１００は、基体１０と、基体１０上に載置されている機能素子１０２と、基体１０上に機能素子１０２を覆って載置されているシリコンの蓋体２０と、を含み、蓋体２０には、貫通孔４０と、貫通孔４０を塞ぐ封止部材６０と、が設けられ、貫通孔６０は、基体１０側の第１開口４１の面積よりも、第１開口４１と反対側の第２開口４２の面積の方が大きく、貫通孔４０の体積に対する封止部材６０の体積の比率は、３５％以上８７％以下である。 （もっと読む）

【課題】駆動時間に依存して共振周波数が低下することを防止可能な光スキャナと、その光スキャナの製造方法とを提供すること。
【解決手段】第１軸線を中心として揺動可能な揺動部分と、揺動部分の両側に連結される一対の捩れ梁部分と、一対の捩れ梁部分の他端に連結される本体部分と、を有する平板状の構造体と、揺動部分を揺動可能に構成される駆動部と、構造体と別体に形成され、入射した光を反射する反射面を有し、揺動部分の一方の面に固定されるミラー部と、を備える光スキャナである。揺動部分は、揺動部分と一対の捩れ梁部分との接続位置に設けられ、揺動部分から第１軸線に沿って延出し、構造体を含む面に平行且つ第１軸線に沿う方向に交差する第２方向の長さが、一対の捩れ梁部分よりも大きく構成され、ミラー部と揺動部分との固定位置における応力を緩和する応力緩和構造を含む。 （もっと読む）

【課題】梁部の損傷が抑制されたＭＥＭＳデバイスを提供する。
【解決手段】支持基板（１１）と、該支持基板（１１）から高さ方向に浮いた浮遊部（１５）と、該浮遊部（１５）と支持基板（１１）とを連結するアンカー（３０）と、を有するＭＥＭＳデバイスであって、浮遊部（１５）は、錘部（１７）、及び、該錘部（１７）とアンカー（３０）とを連結する梁部（２０）を有し、梁部（２０）は、錘部（１７）の端部と連結される第１部位（２１）、アンカー（３０）と連結される第２部位（２２）、及び、第１部位（２１）と第２部位（２２）とを連結する２つの連結部（２３）を有し、平面形状が環状を成しており、連結部（２３）は、平面形状が弧状を成し、２つの端部の内の一方が、第１部位（２１）の端部と連結され、残りもう一つの端部が、第２部位（２２）の端部と連結されている。 （もっと読む）

【課題】圧電アクチュエータの力を効率よく利用してミラーの回転方向に大きな変位を得るとともに、垂直方向の並進運動を大幅に抑制する。
【解決手段】ミラー部（12）を挟んで両側に一対の圧電アクチュエータ部（14）が配置される。圧電アクチュエータ部（14）の一端（14A）は連結部（16）を介してミラー部（12）の端部（12A）に接続され、圧電アクチュエータ部（14）の他端（14B）は固定部（30）に固定支持される。また、ミラー部（12）は、垂直方向への並進運動する抑制する垂直移動抑制構造(32)を介して固定部（30）に接続されている。回転軸（18）付近に接続されるトーションバー（20）とトーションバー（20）の基端部を支持するトーションバー支持部（22）とにより垂直移動抑制構造（32）を構成できる。 （もっと読む）

【課題】可動ミラーの傾斜に伴う可動ミラーの変形の発生が防止された光偏向器を提供する。
【解決手段】光偏向器１００は、可動ミラー１１０と、可動ミラー１１０を第一の軸１８１まわりに傾斜可能に支持する一対のヒンジ１２０と、ヒンジ１２０をそれぞれ支持する一対の固定部１３０とを有している。可動ミラー１１０とヒンジ１２０と固定部１３０は、第一の軸１８１に直交する第二の軸１８２に沿って整列している。光偏向器１００はさらに、可動ミラー１１０を第一の軸１８１まわりに傾斜させる駆動素子たとえば一対の駆動電極１６０を有している。光偏向器１００はさらに、可動ミラー１１０の傾斜により可動ミラー１１０に生じる変形を緩衝する緩衝部１４０を有している。 （もっと読む）

【課題】改良された画像品質、低消費電力および低電圧駆動可能な直視型ディスプレイを提供する。
【解決手段】直視型ディスプレイ７００はＭＥＭＳ光変調器のアレイ７０２と制御マトリクスとアレイ内の各光変調器の状態を制御するためのコントローラ７０４とを含み、制御マトリクス７１０、７０８はデータおよび作動電圧をアレイに伝え、コントローラはプロセッサとメモリと出力とを含み、表示のために画像フレームを符号化した画像データを受信する。プロセッサは画像データから複数のサブフレームデータセットを導き出し各サブフレームデータセットはアレイの複数行および複数列内の光変調器の所望の状態を示し、メモリは複数のサブフレームデータセットを記憶し、出力は光変調器をサブフレームデータセット内で示された状態にするために出力シーケンスに従って複数のサブフレームデータセットを出力する。 （もっと読む）

【課題】高速、かつ低電圧で駆動されることが可能な、透明基板上に構築された直視型ディスプレイを提供する。
【解決手段】少なくとも二つの位置を有する遮光素子のアレイと、少なくとも一つの光源と、遮光素子の位置を制御するとともに、少なくとも一つの光源の照明を制御し、画像フレームに対応する複数のサブフレームデータセットをメモリから取得し、サブフレームデータセットに示されている位置に遮光素子を移動させるために、出力シーケンスに従ってサブフレームデータセットを処理し、サブフレームデータセットに従って画像を形成するために、少なくとも一つの光源を駆動するコントローラと、画像を変えるために出力シーケンスの変更を決定するためのシーケンスパラメータ計算モジュールと、を備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイを動作させる方法を提供する。
【解決手段】ディスプレイを動作させる方法であって、データローディング段階中に画素のアレイにおける画素の複数の行内の画素に画像データをロードするステップと、更新段階中に複数の行内の画素を作動させるステップと、ランプ照明段階中に少なくとも１つのランプを照明させて作動された画素を照明し、ディスプレイ上に画像を形成するステップとを含み、更新段階が、ローディング段階および照明段階の少なくとも一方と時間が部分的に重畳する方法。 （もっと読む）

【課題】容量性トランスデューサとその製造及び動作方法を提供する。
【解決手段】第１ドーピング領域２０と、該第１ドーピング領域２０と反対の型のドーピング領域であり、第１振動部分３２を含む第２ドーピング領域３０と、該第１ドーピング領域と該第１振動部分３２との間に備えられた、空間６０と、を備えるトランスデューサ。第１及び第２ドーピング領域２０，３０は、一体である。第１振動部分は複数の貫通ホール４０を含み、振動部分上に貫通ホール４０を密封する物質膜５０が備えられる。 （もっと読む）

【課題】良好な特性を有する電子装置を提供する。
【解決手段】電子装置１００は、基板１０と、基板１０の上方に配置された機能素子２０と、機能素子２０が収容された空洞部１を画成する被覆構造体３０と、を含み、被覆構造体３０は、空洞部１に連通する第１貫通孔５２および第１貫通孔５２よりも大きい第２貫通孔５４を有し、かつ空洞部１の上方に配置される第１被覆層５０と、第１被覆層５０の上方に配置され、第１貫通孔５２および第２貫通孔５４を塞ぐ第２被覆層５８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】製造における可動部の形状ばらつきを従来よりも小さくして、可動部の回動時の慣性モーメントを低減することができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー１は、所定の回動中心軸まわりに回動可能な板状の可動板２１と、可動板２１に連結し、かつ可動板２１の回動に伴って捩り変形する連結部２３、２４と、連結部２３、２４を支持する支持部２２と、可動板２１の板面上に設けられた永久磁石４１と、永久磁石４１に作用する磁界を発生させて可動板２１を回動させるコイル４２とを有し、可動板２１は、可動板２１の板厚方向からの平面視にて十字状をなす。 （もっと読む）

【課題】高い周波数精度を有するＭＥＭＳ振動子を提供する。
【解決手段】本発明に係るＭＥＭＳ振動子１００は、基板１０と、基板１０の上方に配置され、開口部２２が形成された第１絶縁層２０と、開口部２２を覆って、第１絶縁層２０の上方に配置された第２絶縁層３０と、第２絶縁層３０の上方に配置された第１電極４０と、第１電極４０との間に空隙を有した状態で配置され、基板１０の厚み方向に静電力によって振動可能となる梁部５２、梁部５２の一端を支持し第２絶縁層３０の上方に配置された第１支持部５４、および梁部５２の他端を支持し第２絶縁層３０の上方に配置された第２支持部５６を有する第２電極５０と、を含み、基板１０の厚み方向からの平面視において、開口部２２の少なくとも一部は、第１支持部５４と第２支持部５６との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】振動系を有する基体上に導体パターンを設けた構成にいて、比較的簡単に、長寿命化を図ることができるアクチュエーター、アクチュエーターの製造方法、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー（アクチュエーター）１の製造方法は、基板をエッチングした後に平坦化処理することにより、所定の軸まわりに回動可能な可動部と、前記可動部に連結された連結部と、前記連結部を支持する支持部とを有する基体を形成する第１の工程と、基体上に絶縁層を形成する第２の工程と、基体の一方の面の絶縁層上に導電性を有する導体部を形成する第３の工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】二つの可動部を有するプレーナ型電磁アクチュエータにおいて、二つの可動部の駆動コイルに通電する（駆動信号を供給する）ための配線の耐久性を向上させる。
【解決手段】プレーナ型電磁アクチュエータ１は、固定部２１と、第１トーションバー２４ａ，２４ｂに揺動可能に支持された第１可動部２２と、第２トーションバー２５ａ，２５ｂに揺動可能に支持された第２可動部２３とを有する。駆動部４は、二つの周波数成分を有する一つの駆動信号を一対の電極端子５ａ，５ｂに入力する。入力された駆動信号は一対の配線１０，１１を介して第１可動部２２の第１駆動コイル８及び第２可動部２３の第２駆動コイル９に供給され、これにより、第１可動部２２と第２可動部２３が異なる周期で揺動する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第２の基板３は、その厚さ方向での位置が異なる２つの面を可動部２１側に有し、２つの面のうち、一方に駆動電極３３が設けられ、他方に検出電極４０が設けられており、検出電極４０と可動部２１との間の静電容量に基づいて、駆動電極３３と可動部２１の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるとともに、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】光干渉ＭＥＭＳディスプレイ素子を備えている光干渉変調器ディスプレイを提供する。
【解決手段】第一の電極７０２と可動物質７１４の間にかけられた電圧でＭＥＭＳデバイスが電気的に動作される。第一の電極から離れているラッチ電極７３０ａ、７３０ｂによってデバイスが動作状態に維持されうる。 （もっと読む）

【課題】導電性が皆無又はほとんど無い活性層を必要とする構造を低コストで製造可能なＭＥＭＳ構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロシステム又はナノシステム型デバイスは、可動部分１２０を有する第１基板１００と、第２基板２００と、第１基板及び第２基板の間に配置されている第１電極１０２及び誘電層１０１とを備えている。第１基板１００が、第１電極１０２に対して当接している導電性材料により充填されている貫通状態の縦導電経路１１１を有する。 （もっと読む）

【課題】ミラー面の鏡面性と製造歩留りに優れたＭＥＭＳ走査型ミラーの製造方法を提供する。
【解決手段】空洞HOが形成されるハンドル層Hと表面が鏡面仕上げされたデバイス層B、Ｔとがシリコン酸化膜を介して接合されたウエハを準備する工程、デバイス層にＭＥＭＳ走査型ミラーの下層構成要素に対応しかつデバイス層に形成すべき下層構造体を形成する工程、下層構造体形成後のウエハのデバイス層にシリコン酸化膜を介して上層のデバイス層を形成するためのウエハを接合する工程、上層のウエハを加工して所定厚さの上層のデバイス層を形成する工程、上層のデバイス層にＭＥＭＳ走査型ミラーの上層構成要素に対応しかつ上層のデバイス層に形成すべき上層構造体を形成する工程、ハンドル層Hに空洞を形成する工程、下層構造体のシリコン酸化膜を除去してＭＥＭＳ走査型ミラーを完成させる工程とからなる。 （もっと読む）