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Fターム[3C081BA44]の内容

マイクロマシン (28,028) | 形状、構成 (11,743) | 可動部 (6,256) | 可撓性を有するもの (4,428) | 複数支持梁 (1,165)

Fターム[3C081BA44]に分類される特許

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【課題】振動系を有する基体上に導体パターンを設けた構成において、比較的簡単に、長寿命化を図ることができるアクチュエーターの製造方法、アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1の製造方法は、基板をエッチングした後に平坦化処理することにより、所定の軸まわりに回動可能な可動部、可動部に連結された連結部、連結部を支持する支持部、可動部および連結部に対して基板を貫通する貫通孔225を介して離間するとともに支持部に対して構造的な強度が前記支持部よりも弱い脆弱部を介して接続された除去可能な除去部26、を含む基体302を形成する第1の工程と、基体302の上方に導体パターン8を形成する第2の工程と、除去部26を除去する第3の工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】ミラー面の鏡面性と製造歩留りに優れたMEMS走査型ミラーの製造方法を提供する。
【解決手段】空洞HOが形成されるハンドル層Hと表面が鏡面仕上げされたデバイス層B、Tとがシリコン酸化膜を介して接合されたウエハを準備する工程、デバイス層にMEMS走査型ミラーの下層構成要素に対応しかつデバイス層に形成すべき下層構造体を形成する工程、下層構造体形成後のウエハのデバイス層にシリコン酸化膜を介して上層のデバイス層を形成するためのウエハを接合する工程、上層のウエハを加工して所定厚さの上層のデバイス層を形成する工程、上層のデバイス層にMEMS走査型ミラーの上層構成要素に対応しかつ上層のデバイス層に形成すべき上層構造体を形成する工程、ハンドル層Hに空洞を形成する工程、下層構造体のシリコン酸化膜を除去してMEMS走査型ミラーを完成させる工程とからなる。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板と絶縁基板とを接合した時に形成される密閉空間部の圧力を調整することの可能なMEMSセンサを得る。
【解決手段】シリコン基板4と、シリコン基板4の上下両面4a、4bに接合される一対の絶縁基板2、3と、シリコン基板4と絶縁基板2、3とを接合した時に形成される密閉空間部6とを備えたMEMSセンサ1において、絶縁基板2、3またはシリコン基板4の露出した外表面3bに、密閉空間部6と連通する貫通孔7を設ける。 (もっと読む)


【課題】全体の大形化を抑えながらも、外部応力に起因する可動電極部の変形を効果的に防止する。
【解決手段】支持基板2上に絶縁層3を介して設けられた単結晶シリコン層4に溝を形成することにより、可動電極部6及び固定電極部7,8からなるセンサエレメント5を設ける。可動電極部6は、錘部6aから櫛歯状に延びる可動電極6dを有し、錘部6aの前後両端部に梁部6bを有すると共に、前端側に第1のアンカ部6cを有している。アンカ部6cの上面に、アルミ製の電極パッド9を設ける。アンカ部6cに、応力遮断用の2本のスリット12を単結晶シリコン層4全体が除去される深さで形成する。各スリット12は、アンカ部6cの左右の両側縁部から、電極パッド9の左右両端縁部を延ばした仮想延長線を横切る位置まで内側に延びている。スリット幅寸法cを5μm以上とする。 (もっと読む)


【課題】マイクロシステムおよび/またはナノシステムタイプの新規作製方法、ならびに新規構造体を提供すること。
【解決手段】下部電極と呼ばれる少なくとも1つの電極(102)、および少なくとも1つの誘電体層(103)を含む第1の基板(100)と、
可動部分(210)を含めた、デバイスのメイン平面と呼ばれる平面全体に延在する中間基板(200’)と、
中間基板(200’)に付着された上部基板(300)であって、前記可動部分が下部電極と上部基板との間を移動することができる、上部基板と
を含む、マイクロシステムおよび/またはナノシステムタイプのデバイスについて記載されている。 (もっと読む)


【課題】画像品質の改良と、電力消費の削減とのために、高速に、かつ低電圧で駆動されることが可能な、機械的に作動させられるディスプレイを提供する。
【解決手段】シャッタベースの光変調器を組み込んだディスプレイ装置が、そのような装置を製造する方法とともに開示される。本方法は、当業界で周知の薄膜製造プロセスと互換性があり、より低い消費電力を有するディスプレイをもたらす。 (もっと読む)


【課題】複数の埋設表面フィーチャを備えたフロント光ガイドパネルを提供する。
【解決手段】フロント光パネルは、フロント光パネルの一方の側に配置されている人工光源から、フロント光ガイドの背面に配置されているディスプレイエレメントのアレイに一様な照明を引き渡し、かつ、光ガイドパネルを通って伝搬する周辺照明からの照明のオプションを許容するように構成されている。表面埋設表面レリーフフィーチャによって光ガイドパネル内に空気ポケットが生成される。光ガイドの側面に入射した光は、空気ポケットの一方の空気/光材料ガイド界面に衝突するまで光ガイドを通って伝搬する。光は、次に、大きい角度で内部全反射して方向転換し、ディスプレイエレメントのアレイの前面に配置された射出面から射出する。 (もっと読む)


【課題】低コスト化および小型化を図りつつ、質量部を互いに直交する2軸のそれぞれの軸まわりに回動させることができるアクチュエータ、光スキャナ、および画像形成装置を提供すること。
【解決手段】電源回路5は、第1の周波数で周期的に変化する第1の電圧V11、V12を発生する第1の電圧発生部51と、第1の周波数と異なる第2の周波数で周期的に変化する第2の電圧V21、V22を発生する第2の電圧発生部52と、第1の電圧V11、V12と第2の電圧V21、V22とを重畳する電圧重畳部53とを備え、電圧重畳部53で重畳された電圧を各圧電素子41、42、43、44に印加することにより、質量部をこれを支持する1対の弾性部に沿った第1の軸線まわりに第1の周波数で回動させつつ第1の軸線に直交する第2の軸線まわりに第2の周波数で回動させるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】入出力特性の悪化を招くことなく、振動子と半導体基板との間に、ギャップを精度良く形成する。
【解決手段】共振器は、半導体基板1の上に形成された第1の犠牲膜2A,2Bと、第1の犠牲膜2A,2Bの上に形成された第2の犠牲膜4A,4Bと、第2の犠牲膜4A,4Bの上に形成された固定電極6A,6Bと、振動子3Xとを備えている。振動子3Xと第2の犠牲膜4A,4B及び固定電極6A,6Bとの間には、第1のギャップ7A,7Bが形成されている。振動子3Xと半導体基板1との間には、第2のギャップ8が形成されている。第1の犠牲膜2A,2Bの端面は第2のギャップ8に露出し、且つ、第2の犠牲膜4A,4Bの端面は第1のギャップ7A,7Bに露出している。 (もっと読む)


【課題】 従来に比べて、小型で且つ、高い感度を得ることが可能なMEMSセンサを提供することを目的としている。
【解決手段】 可動電極部は、X1−X2方向に間隔を空けて配置された複数本の可動支持部50と、各可動支持部50の側部から延出し、各可動支持部50にてY1−Y2方向に間隔を空けて配置された複数本の可動電極子60と、を有する。固定電極部は、X1−X2方向に間隔を空けて配置された複数本の可動支持部50と、各固定支持部51の側部から延出し、各固定支持部51にてY1−Y2方向に間隔を空けて配置された複数本の固定電極子62と、を有する。複数本の可動支持部と複数本の固定支持部とがX1−X2方向に交互に配列されており、隣り合う可動支持部と固定支持部とが組66にされて、各組の可動支持部と固定支持部の間にて可動電極子60と固定電極子62とが交互に配列されている。 (もっと読む)


【課題】変位量が温度変動に影響されない静電アクチュエータを提供する。
【解決手段】静電アクチュエータ130は基本駆動素子111a1を備えている。基本駆動素子111a1は、櫛歯電極105aと、櫛歯電極106aと、櫛歯電極105aを保持している電極ポスト107aと、櫛歯電極106aを保持している電極ポスト108aと、電極ポスト107aを保持しているたわみばね102,104と、電極ポスト108aを保持しているたわみばね103から構成されている。櫛歯電極105aと櫛歯電極106aは、それらの櫛歯部が互いに対向するように配置されている。櫛歯電極105aは電極ポスト107aを介してたわみばね102,104と電気的に接続され、櫛歯電極106aは電極ポスト108aを介してたわみばね103と電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】高周波数で動作する振動子の振動検出が容易な機械共振器を提供する。
【解決手段】機械共振器は、基板上に形成されたドレイン1と、基板上に形成されたソース2と、一端がドレイン1に接続され、他端がソース2に接続された伝導部3と、伝導部3と対向するように配置され、伝導部3の伝導度を電界効果により制御するゲート6,7とを備える。伝導部3とゲート6,7のうち少なくとも一方は、基板から浮いた状態で支持される。ゲート6,7に一定のバイアス電圧が印加された状態で、伝導部3とゲート6,7のうち少なくとも一方が振動子として振動したときに、伝導部3とゲート6,7との距離が変化することにより、ドレイン1とソース2間の出力電圧が変調される。 (もっと読む)


【課題】リサージュ走査であっても効果的な画像重複や走査解像度を有するスキャナ用偏向装置を提供する。
【解決手段】少なくとも2つの偏向軸において振動すると共に、フレームと、懸架搭載部によって可動式に配置したミラープレート4とを有するマイクロミラー1と、少なくとも2つの偏向軸においてマイクロミラーの共鳴動作に対する制御信号を生成する制御装置と、を含み、ミラープレートの懸架搭載部が少なくとも1つのバネを有し、バネの一端をミラープレートに接続し、バネの他端を固定したフレームに接続し、マイクロミラーの共鳴動作に対する制御信号の周波数が、少なくとも2つの偏向軸において実質的に等しく、そのレベルを、所定の走査解像度と所定の走査反復率によって決定するが、それらが少なくとも所定の走査反復率に関して異なること、を特徴とするリサージュ走査を行うスキャナ用偏向装置。 (もっと読む)


【課題】設計の自由度を向上させるとともに、印加電圧を少なくして偏向角を大きくする。
【解決手段】光スキャナOSは、外枠となる固定枠1と、主軸トーションバー3と、主軸トーションバー3の直交方向に長尺となるよう配設されるとともに、一端を主軸トーションバー3に接続し、他端を固定枠1に固定した片持ち梁構造の保持部41と、保持部41を変形させるための力を電圧印加に応じて生じさせる圧電素子42と、主軸トーションバー3を基準に揺動するミラー部21とを含む。駆動回路から圧電素子42に対して印加される電圧は、光スキャナOS自身の固有振動数に近似または一致するとともに、保持部41に、当該の保持部41の短手方向に対し交差する節を少なくとも1つ発生させる周波数である。保持部41は、前記短手方向におけるミラー部21側の部分のみで、主軸トーションバー3に接続される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ミラースキャナの構造及び製造方法に係り、共振周波数の精度良い調整を行うことにある。
【解決手段】ミラースキャナ10は、フレーム12と、光源からの光を反射するミラー部14と、フレーム12とミラー部14とを連結して該ミラー部14を該フレーム12に対して支持するトーションバー16a,16bと、トーションバー16a,16bに平行に設けられてフレーム12とミラー部14とを連結する複数本の溶断可能なバーからなる棒部材18a,18bと、を設ける。 (もっと読む)


【課題】小型で信頼性の高いセンサーデバイス、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】センサーデバイス1は、第1の面10aに第1の電極11を有する半導体装置としてのICチップ10と、基部21、前記基部21から延伸された振動部を有し、第1の面10aと対向する第2の面20aに第2の電極としての引き出し電極29を有する振動片としての振動ジャイロ素子20と、を備えている。第1の面10aには、絶縁樹脂からなり第1の電極11と配線36を介して電気的に接続された第3の電極37の少なくとも一部を露出させる開口部32aを有する筒状支持部32が設けられ、第1の面10aおよび開口部32aにより形成された凹部に導電性接着剤98が埋設され、引き出し電極29に設けられたバンプ12が凹部内に配置されている。 (もっと読む)


【課題】専用装置を必要とせず、製造スループットを低下させることなく端子上のパッシベーション膜を除去した表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の表示装置は、基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及びスイッチング素子によって駆動されるMEMSシャッターを有する複数の画素と、基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、
を含む。MEMSシャッターは、開口部を有するシャッター、シャッターに接続された第1バネ、第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び第2バネに接続された第2アンカーを有し、シャッター、第1バネ、第2バネ、第1アンカー及び第2アンカーの基板の表面に対して垂直方向の面に絶縁膜を有し、複数の端子の表面、並びにシャッター、第1バネ、第2バネ、第1アンカー及び第2アンカーの基板の表面に対して平行方向であり且つ基板に対面する側と反対側の面には、絶縁膜がない。 (もっと読む)


【課題】駆動部の共振周波数がばらついても変動部をスキャンさせる。
【解決手段】光スキャナOSは、所定方向に揺動可能な可動部2と、電圧の印加により変形し、互いに協働して可動部2を揺動させる複数の駆動部4とを備える。可動部2の共振周波数fsmと、駆動部4の共振周波数fsuとはfsm < fsuを満たす。 (もっと読む)


【課題】支持基板の側面から電位を取出可能としたセンサとその他のセンサとを小型集積化させることのできるMEMSデバイスを得る。
【解決手段】MEMSデバイスDは、支持基板2aの側面2eに露出させた貫通電極22a〜22eの断面部を、可動電極4、5および固定電極20a〜21bの電位取出口として利用可能とした加速度センサ(第1のセンサ)S1と、この加速度センサS1に支持基板2aを介して積層されるセンサ基板1Aを有した圧力センサ(第2のセンサ)S2とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は三次元構造体の製造効率の低下を招くことなく、電極パッドをシリコン基板に形成可能な三次元構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の三次元構造体の製造方法は、シリコン基板T、B、Hを用いて形成された三次元微細構造体の電極パッド16P3、16P4の形成領域16P3’、16P4’に金Auを堆積させる金属堆積工程と、シリコン基板T、B、Hを熱により酸化させて金Auの形成領域以外の表面にシリコンの酸化膜SiO2を形成する酸化膜形成工程とを含む。 (もっと読む)


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