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Fターム[3K107CC42]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 目的、効果 (41,328) | 表示装置改良 (2,724) | 大画面化 (1,223)

Fターム[3K107CC42]に分類される特許

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【課題】透明性及び導電性に優れた透明電極の製造方法、その製造方法で製造された透明電極を提供する。また、該透明電極を用いた、大面積化にも対応し、低電圧で駆動可能な有機電子素子を提供する。
【解決手段】透明基板上に、金属ナノ粒子より形成された導電性の金属細線パターンと、該金属細線パターン上に少なくともπ共役系導電性高分子とポリ陰イオンとを含んでなる導電性ポリマー含有層とを有する透明電極の製造方法であって、該金属細線パターン上に該導電性ポリマー含有層を形成した後に、フラッシュ光照射により加熱焼成を行うことを特徴とする透明電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】塗布法による薄膜の形成に適し、有機エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供する。
【解決手段】下記式(A)で表わされる重合体。但し、Pは下記式(P)で表わされる化合物に由来する基であり、Y及びYは、それぞれ独立に、架橋性基である。
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【課題】信頼性の高い発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板10と、基板10上に設けられる発光領域20と、基板10上であって、発光領域20の外縁に設けられる非発光領域30と、から構成され、発光領域20には、複数の発光画素21が周期的に配列され、発光画素21が、発光色が異なる複数種類の発光副画素を有し、前記発光副画素が、第一電極23と、有機化合物層24と、第二電極25と、をこの順に有し、非発光領域30には、複数の非発光副画素32を有する非発光画素31が複数配列され、前記発光副画素及び非発光副画素32が、それぞれ素子分離膜15によって区画され、非発光領域30のうち、発光領域20の行方向の外縁に設けられる非発光領域には、当該領域に含まれる非発光画素を区画するスペーサ16が設けられる。 (もっと読む)


【課題】画面が高精細になり、また画面が大画面化した場合でも、各画素の充電期間を充分に確保できるとともに、開口率の低下を抑えることが可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】複数のデータ線と、複数の走査線と、データ線と走査線とが交わる領域に設けられ、発光素子を含む複数の画素領域と、を備え、発光素子を発光させるための画素回路を1つだけ備える画素領域が1行おきに設けられ、1つの画素回路を備える画素領域の間の行に、発光素子を発光させるための画素回路を2つ備える画素領域が1行おきに設けられ、2つの画素回路を備える画素領域は、一方の画素回路で発光素子を発光させている期間に他方の画素回路で該発光素子を発光させるための書き込み処理を実行することを特徴とする、電気光学装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】安定的かつ容易に薄膜を形成、あるいは有機薄膜層の多層化を容易に行うことができ、有機エレクトロニクス素子、特に高分子型有機EL素子の生産性を向上させる上で有用な電子受容性化合物を提供する。
【解決手段】第1の電荷輸送性化合物のカチオン及び/又はカチオンラジカルと、下記一般式(1b)〜(5b)で表されるアニオンのうちの1種とからなる電子受容性化合物。


(式中、Y〜Yは、それぞれ独立に二価の連結基、R〜R16は、それぞれ独立に電子求引性の有機置換基(これらの構造中にさらに置換基、ヘテロ原子をもっていてもよい。)を表す。Eは酸素原子、Eは窒素原子、Eは炭素原子、Eはホウ素原子又はガリウム原子、Eはリン原子又はアンチモン原子を表す。) (もっと読む)


【課題】有機電界発光素子を設けた複数の発光パネルを平面的に接合した構成において、接合部に生じる非発光領域に起因する輝度ムラを防止でき、これにより輝度の面内均一性の向上が図られた面状発光体を提供する。
【解決手段】屈折率n1を有し、面状に配列された複数の透明基板3と、各透明基板3の一主面上に、n2−n1≦0.47となる屈折率n2の透明電極11、有機発光機能層13、および対向電極15をこの順に積層して構成された有機電界発光素子ELと、透明基板3の光取り出し面3aとなる他主面上において、有機電界発光素子EL間に設けられた光取り出し部材9とを備えた面状発光体1-1である。 (もっと読む)


【課題】大量生産上、大型の基板に適している液滴吐出法を用いた製造プロセスを提供す
る。
【解決手段】液滴吐出法で感光性の導電膜材料液を選択的に吐出し、レーザ光で選択的に
露光した後、現像またはエッチングすることによって、レーザ光で露光した領域のみを残
し、吐出後のパターンよりも微細なソース配線およびドレイン配線を実現する。TFTの
ソース配線およびドレイン配線は、島状の半導体層を横断して重ねることを特徴としてい
る。 (もっと読む)


【課題】背景からの透過像がボケない透明ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】行列状に配置された第1金属配線111および第2金属配線112と、表示像を表示するための表示素子120と、隣り合う第1金属配線111および第2金属配線112の間の領域に対応する複数の光透過部130とを有するディスプレイパネル101と、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか一方に設けられた第1光学素子141と、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか他方に設けられた第2光学素子142と、を備え、第1光学素子141および第2光学素子142は、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか一方から入射した平行光が、光透過部130において焦点を結び、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか他方からから平行光として出射するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたボトムゲート型のトランジスタにおいて、高いゲート電圧がゲート電極層に印加される場合、ドレイン電極層の端部近傍(及びソース電極層の端部近傍)に生じる恐れのある電界集中を緩和し、スイッチング特性の劣化を抑え、信頼性が向上された構造を提供する。
【解決手段】チャネル形成領域上に重なる絶縁層の断面形状を、テーパ形状とし、チャネル形成領域上に重なる絶縁層の膜厚は、0.3μm以下、好ましくは5nm以上0.1μm以下とする。チャネル形成領域上に重なる絶縁層の断面形状の下端部のテーパ角θを60°以下、好ましくは45°以下、さらに好ましくは30°以下とする。 (もっと読む)


【課題】大型でも均一な画像が得られる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、画素回路がマトリクス状に配置された画素アレイ部とこれを駆動する駆動部を有し、駆動部は、各画素回路において、第一の補正動作および発光動作を少なくとも行うように構成されており、第一の補正動作の期間は、書込制御線駆動部が、サンプリングトランジスタを導通状態に制御するタイミングに応じて規定され、書込制御線駆動部と電源駆動部とは、画素アレイ部の両側から所定の信号と所定の電源電圧とを供給して各画素回路を駆動し、各画素回路における補正動作期間のばらつきを抑制する。 (もっと読む)


【課題】隔壁により区画された画素領域に対して有機発光媒体材料を溶かしたインクを印刷形成し、画素領域内に有機発光媒体層を平坦に形成することで、発光効率を向上させることができる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子10は、基板11と、基板11上に設けられた格子状隔壁13、13’と、格子状隔壁13、13’により区画された領域内に形成された第一電極12と、第一電極12上に形成された、有機発光材料を含む有機発光媒体層15と、有機発光媒体層15上に形成された第二電極16とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、格子状隔壁13、13’により区画された領域内の中央部で、かつ第一電極12上に平坦化隔壁14を形成したものである。 (もっと読む)


【課題】大面積基板におけるロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に対して、精度良く着弾させることができるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】画素領域外にもインクを着弾させ、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置を認識カメラで認識して、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置からズレ量を算出し、吐出するノズルを切り替えて基板に塗布する。これより、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板200上に形成された第一電極201と、少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟むように前記第一電極201と対向して形成された第二電極204と取り出し端子202を少なくとも備える有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記第一電極201を形成した後、前記発光媒体層のうちの少なくとも1層の有機層203を塗布法により形成し、その後、前記取り出し端子202部分を開口させたマスクを前記基板200上に被せてUVオゾン処理をすることによって、前記取り出し端子202部分の上に形成された有機層203を除去する。 (もっと読む)


【課題】気泡の巻き込みが無く、貼付と剥離が容易であり、大型基板に対応できる転写成膜装置を提供する。
【解決手段】配置台12上に転写リボン34を装着した転写ヘッド151〜153を配置し、透明部材33で転写リボン34を押圧し、転写リボン34表面のインク層42を転写対象物16に接触させて、転写リボン34の裏面にレーザ光を照射し、インク層42の裏面にレーザ光が照射された部分を転写対象物16の表面に転写する。転写リボン34の転写に使用した部分は移動させ、新しい部分を透明部材33で転写対象物16に接触させて、次の転写を行う。細長の転写リボン34を使用しているので、気泡が巻き込まれることはなく、また、大型基板への転写が容易である。 (もっと読む)


【課題】表示装置間の非表示領域の視認が大幅に低減され、画像の連続性が高く、良好な画像を表示可能な配列型表示装置を提供する。
【解決手段】配列型表示装置100は、表示装置10A〜10Dを配列して形成されている。表示装置10A〜10Dは、それぞれ、表示部11A〜11Dの外周側に非表示部12A〜12Dを有し、また、表示部11A〜11Dより観察側に、表示部11A〜11D及び非表示部12A〜12Dを被覆する複数の透明板20A〜20Dを備えている。透明板20A〜20Dは、隣り合う透明板20A〜20Dと接している。表示部11A〜11Dの正面方向から見て非表示部12A〜12Dに対応する周縁部は、外周端の厚みが内側より薄くなるように形成された第1斜面部22A〜22Dとなっており、第1斜面部22A〜22Dから出射した光の少なくとも一部は、表示部11A〜11Dに直交する方向に出射するものとした。 (もっと読む)


【課題】発光層界面の劣化を抑制することにより、長時間の駆動安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】陽極と陰極との間に少なくとも発光層及び電荷輸送層を含む複数層からなる機能層が挟持された有機エレクトロルミネッセンス素子において、機能層には、発光層と電荷輸送層との間に隣接して積層された無機化合物中間層が含まれる。 (もっと読む)


【課題】トランジスタのしきい値電圧の変動を抑制し、表示パネルに実装するドライバI
Cの接点数を削減し、表示装置の低消費電力化を達成し、表示装置の大型化又は高精細化
を達成することを目的とする。
【解決手段】劣化しやすいトランジスタのゲート電極を、第1のスイッチングトランジス
タを介して高電位が供給される配線、及び第2のスイッチングトランジスタを介して低電
位が供給される配線に接続し、第1のスイッチングトランジスタのゲート電極にクロック
信号を入力し、第2のスイッチングトランジスタのゲート電極に反転クロック信号を入力
することで、劣化しやすいトランジスタのゲート電極に高電位、又は低電位を交互に供給
する。 (もっと読む)


【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル55aの始点Psから始端部101Sを形成する部分ではノズル高さNhを基準塗布高さStdHより低くしてノズル55aが移動し、ノズル55aの終点Peまでの終端部101Eを形成する部分では、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより高くしてノズル55aが移動し、始端部101Sが形成される部分および終端部101Eが形成される部分以外の部分ではノズル高さNhを基準塗布高さStdHとしてノズル55aが移動し、さらに、始端部101Sと終端部101Eの少なくとも一部でガラスペーストGpが重なって塗布されるようにノズル55aが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 (もっと読む)


【課題】速い塗布速度で膜の形成を行うことのできる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本実施形態の成膜方法は、基板をステージに載置する工程と、前記ステージに対して一定の間隙を維持して配置され前記ステージに対して相対的に水平に移動可能でかつ表面に膜形成材料を含むインクが供給されるアプリケータと、前記基板との間に前記インクによるメニスカスを形成する工程と、前記メニスカスを形成した状態で前記基板と前記アプリケータとの間に電圧を印加する工程と、前記メニスカスが形成されかつ前記電圧が印加された状態で前記アプリケータを前記ステージに対して相対的に移動させて前記基板上に前記インクの膜を形成する工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】結晶性の優れた酸化物半導体層を形成して電気特性の優れたトランジスタを製造
可能とし、大型の表示装置や高性能の半導体装置等の実用化を図ることを目的の一つとす
る。
【解決手段】第1の加熱処理で第1の酸化物半導体層を結晶化し、その上部に第2の酸化
物半導体層を形成し、温度と雰囲気の異なる条件で段階的に行われる第2の加熱処理によ
って表面と略垂直な方向にc軸が配向する結晶領域を有する酸化物半導体層の形成と酸素
欠損の補填を効率良く行い、酸化物半導体層上に接する酸化物絶縁層を形成し、第3の加
熱処理を行うことにより、酸化物半導体層に再度酸素を供給し、酸化物絶縁層上に、水素
を含む窒化物絶縁層を形成し、第4の加熱処理を行うことにより、少なくとも酸化物半導
体層と酸化物絶縁層の界面に水素を供給する。 (もっと読む)


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