【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層４と保護層５が積層された水蒸気バリアーフィルム１０において、その水蒸気バリアーフィルム１０の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Ｒｂを形成することとした。この低透過領域Ｒｂは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】４００℃以下で作製可能であり、２０ｃｍ^２／Ｖｓ以上の高い電界効果移動度と、ノーマリーオフとなる低いオフ電流を両立する薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ゲート電極１６と、ゲート絶縁膜１５と、Ｉｎ（ａ）Ｇａ（ｂ）Ｚｎ（ｃ）Ｏ（ｄ）（ａ＞０，ｂ＞０，ｃ＞０，ａ＋ｂ＋ｃ＝１，ｄ＞０）で表され、ａ≦３７／６０、ｂ≦９１ａ／７４−１７／４０、ｂ≧３ａ／７−３／１４、ｃ≦３／５を満たす第１の領域Ａ１及びＩｎ（ｐ）Ｇａ（ｑ）Ｚｎ（ｒ）Ｏ（ｓ）（ｑ／（ｐ＋ｑ）＞０．２５０，ｐ＞０，ｑ＞０，ｒ＞０，ｓ＞０）で表され、ゲート電極に対して第１の領域よりも遠くに位置する第２の領域Ａ２を含み、ゲート絶縁膜を介してゲート電極に対向配置されている酸化物半導体層と、酸化物半導体層を介して導通可能なソース電極１３及びドレイン電極１４と、を有する薄膜トランジスタ１。 （もっと読む）

【課題】基板上に隔壁を有する隔壁付基板の開口部にインクが塗布され隔壁内でインクが乾燥する際に、インクを平坦に固化させる手段を提供することを目的とした。
【解決手段】少なくとも、基板上に隔壁１２により仕切られた複数の区画（開口部）１１を形成する工程と、隔壁側面１３のインク１５に対する濡れ性を隔壁頂部近傍で低く基部にかけて高くなるように段階的若しくは連続的に変化させる工程と、インク１５を区画１１内に塗布し乾燥する工程と、を有することを特徴とする隔壁付基板１０に対するインク皮膜１６の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にする。また、材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させる。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させる。
【解決手段】一方の面に、開口部を有する反射層と、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側からレーザ光を照射し、反射層の開口部と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】特に１〜３級アミノ基及び／又は４級アンモニウム基を多く含む樹脂を分散剤として用いた場合に、得られる画素のコントラストを維持又は向上させつつ、粘度の経時安定性に優れ、凝集異物や組成物の増粘による歩留まり低下の抑制、つまり粘度の経時的増粘が小さい顔料分散液及び着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）溶剤及び（Ｄ）分散剤を含む顔料分散液において、該（Ａ）顔料が、カラーインデックスピグメントバイオレット２３を含有し、該（Ｄ）分散剤が、重合体を含有し、該重合体が、１〜３級アミノ基及び／又は４級アンモニウム基を側鎖に有し、該１〜３級アミノ基及び／又は４級アンモニウム基を有する単量体の含有割合が、重合体を構成する単量体組成において、２０モル％以上であり、更に、顔料分散液中の水分量が０．３重量％以上、１．２重量％以下であることを特徴とする、顔料分散液。 （もっと読む）

【課題】比較的優れた品質の有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を搬送部に供給し、該搬送部表面に前記基材の一面側を当接させて前記基材を搬送しつつ、前記搬送部と対向し且つ前記基材に対して近接する位置に配された蒸着源のノズルから、気化された有機ＥＬ膜の構成層形成材料を吐出させて、前記基材における前記搬送部と反対の面側に有機ＥＬ膜の構成層を形成する蒸着工程を含んでなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、回転軸を中心として回転駆動する板状の回転体を有し且つ該回転体に開口部が形成されたシャドーマスクを、前記搬送部に当接した前記基材と前記ノズルとの間にて基材の近傍に介入させ、前記基材の移動に追従するように前記シャドーマスクを回転させつつ、前記開口部を通して気化された前記構成材料を基材側に供給し、前記基材に前記開口部に応じた有機ＥＬ膜の構成層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】様々な有機溶媒や樹脂との相溶性に優れ、無機材料表面に対してケイ素−酸素結合を形成することができ、容易に精製できるトリアリールアミン誘導体、その製造方法、その中間生成物、当該トリアリールアミン誘導体を無機材料表面に結合させてなる無機複合材料、並びに当該無機複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるシラノール基を有するトリアリールアミン誘導体。


（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１１、Ｒ^１４中、少なくとも一つはＳｉＲ^１６Ｒ^１７ＯＨ（式中、Ｒ^１６、Ｒ^１７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、もしくは環状の一価炭化水素基を示す。）で表される置換基である。） （もっと読む）

【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】蒸発源２から蒸発した有機ＥＬ材料の蒸着分子２３が有機ＥＬ表示用基板５に到達する前に上記蒸着分子２３を帯電させる段階と、発光層１６を形成する箇所に対応して位置する画素電極１４の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体２１に、帯電された蒸着分子２３の帯電極性とは異なる極性で且つ有機ＥＬ材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、発光層１６を形成しない箇所に対応して位置する画素電極１４の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体２１に、帯電された蒸着分子２３の帯電極性と同じ極性で且つ有機ＥＬ材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、を行う。 （もっと読む）

【課題】異物の発生や付着の少ない透明複合基板およびかかる透明複合基板を効率よく製造し得る製造方法、および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板の製造方法は、ガラスクロス２と、ガラスクロス２に含浸した樹脂材料３と、を有する透明複合基板１の製造方法であって、ガラスクロス２に樹脂ワニス３０を含浸させ、含浸体１０１を得る工程と、含浸体１０１の両面にシート状の支持部材７１を重ねた後、含浸体１０１の外縁部１２を除く部分（中央部１３）に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、仮硬化体１０２を得る工程と、仮硬化体１０２を支持部材７１から剥離する工程と、仮硬化体１０２の外縁部に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、本硬化体（透明複合基板）を得る工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】素子寿命が長い有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】少なくとも一方が透明又は半透明である陽極及び陰極よりなる一対の電極と、一対の電極間に挾持され、少なくとも一層が一般式（Ｉ）で示される電荷輸送性ポリエステルを１種以上含有する一つまたは複数の有機化合物層とを有する有機電界発光素子である。
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【課題】
本発明は、輝度に優れたカラーフィルタの画素を提供することができ、かつカラーディスプレイ製造工程で要求される耐熱性をも満たす着色樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、このような着色樹脂組成物を用いることにより、画素の色純度及び透過率に優れたカラーフィルタ、並びに高品質の液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
（Ａ）染料、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）バインダー樹脂を含有する着色樹脂組成物であって、更に、特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドが有するインク室構成部材において、製造時の作業性に優れ、かつひずみの少ないインク室構成部材を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドにおいてインクを収容するインク室となる穴を有するインク室構成部材を、プレート１１３Ａ〜１１３Ｃの積層体の熱拡散接合によって接合して形成するにあたり、前記プレートの短手方向に細長く開口する第一の長穴２１０と、長手方向の両端部において長手方向に細長く開口する第二の長穴２２１、２２２とを前記プレートに形成し、これらの長穴に位置決めピンを挿通されている前記プレートの積層体を形成し、位置決めされている状態で前記プレートを熱拡散接合によって接合してインク室構成部材を形成する。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高くて、青色純度が優れており、駆動劣化に伴う色度変化が小さい有機電界発光素子の提供。
【解決手段】基板と、該基板上に配置され、陽極及び陰極を含む一対の電極と、該電極間に配置され、発光層を含む少なくとも一層の有機層とを有し、前記有機層が下記式で表される化合物を含む有機電界発光素子。
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【課題】マスクの強度を低下させずに、大面積の成膜対象物に成膜できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】
マスク３１は、薄膜材料蒸気が通過する複数の通過孔３２が配置された有効領域３３₁〜３３₃と、薄膜材料蒸気を遮蔽する遮蔽領域３４₁〜３４₄とを有し、有効領域３３₁〜３３₃と遮蔽領域３４₁〜３４₃は、長さ方向と、長さ方向と直交する幅方向とを有する四角形状であり、有効領域３３₁〜３３₃と遮蔽領域３４₁〜３４₃とは、有効領域３３₁〜３３₃の幅方向６に沿って互いに隣接して配置され、成膜装置１０ａは、マスク３１と放出装置２１とに対し、成膜対象物４２を、有効領域３３₁〜３３₃と遮蔽領域３４₁〜３４₄とが並ぶ方向に相対的に移動させる第一の移動装置５１を有している。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に配設された第１画素電極と、前記第１画素電極のエッジを覆うように形成され、前記第１画素電極の一部領域を露出させる第１開口部を有する第１バンクと、前記第１画素電極及び前記第１バンクの少なくとも一部領域を覆うように形成された第２画素電極と、前記第２画素電極を覆うように配設された有機発光層と、前記有機発光層を覆うように配設され、前記第１画素電極及び前記第２画素電極と対向するように形成される対向電極と、を備えることを特徴とする有機発光素子である。 （もっと読む）

【課題】緑色〜青色の波長域に発光領域を示す信頼性が高い新規な有機金属錯体を提供する。該有機金属錯体を用いた発光素子、該発光素子を用いた発光装置、電子機器、及び照明装置を提供する。
【解決手段】一般式（Ｇ１）で表される構造を含む有機金属錯体を提供する。一般式（Ｇ１）で表される有機金属錯体は、緑色〜青色の波長域に発光領域を示す信頼性が高い新規な有機金属錯体である。さらに、該有機金属錯体を含む発光素子、該発光素子を用いた発光装置、電子機器、及び照明装置を提供する。
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【課題】陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層を備えた発光素子において、これら複数の発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的または支配的に、長時間に亘って発光させることができる発光素子、表示装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】発光素子１Ｒは、陽極３Ｒと陰極８との間に設けられた青色発光機能層５Ｂと、陽極３Ｒと青色発光機能層５Ｂとの間に設けられた赤色発光機能層５Ｒとを有し、さらに、青色発光機能層５Ｂと、赤色発光機能層５Ｒとの間に、この青色発光機能層５Ｂ側から、正孔輸送層４３と拡散調整層４４と第１電子注入層６１とがこの順で積層された積層体で構成されるキャリア選択層４６を有する。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子、蛍光材料、非線形光学材料などの各種の光学デバイスなどに応用が期待されるアザヘリセン系化合物の新規な製造方法、及び、アザヘリセン系化合物に限定されない螺旋状の構造を有する化合物の製造方法を提供する。
【解決の手段】窒素を含有するハロゲン化アルケニルビアリール化合物を出発原料として銀塩共存下、分子内C-Hアリール化反応によりアザヘリセン系化合物を合成するアザヘリセン系化合物の製造方法、及び、窒素を含有するハロゲン化アルケニルビアリール化合物を酸化した後に、分子内C-Hアリール化反応によりアザヘリセン系化合物を合成するアザヘリセン系化合物の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用いて作製された抵抗素子及び薄膜トランジスタを利用した論理回路、並びに該論理回路を利用した半導体装置を提供する。
【解決手段】抵抗素子３５４に適用される酸化物半導体層９０５上にシラン（ＳｉＨ_４）及びアンモニア（ＮＨ_３）などの水素化合物を含むガスを用いたプラズマＣＶＤ法によって形成された窒化シリコン層９１０が直接接するように設けられ、且つ薄膜トランジスタ３５５に適用される酸化物半導体層９０６には、バリア層として機能する酸化シリコン層９０９を介して、窒化シリコン層９１０が設けられる。そのため、酸化物半導体層９０５には、酸化物半導体層９０６よりも高濃度に水素が導入される。結果として、抵抗素子３５４に適用される酸化物半導体層９０５の抵抗値が、薄膜トランジスタ３５５に適用される酸化物半導体層９０６の抵抗値よりも低くなる。 （もっと読む）

【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板１１上に形成された駆動回路層１２の表面を平坦化する平坦化膜１３と、平坦化膜１３上に積層された上部電極層１４Ｐと、上部電極層１４Ｐ上に形成され上部電極層１４Ｐを画素形成領域ごとに配置された上部電極１４として分離形成するためのパターニングされたレジスト２０とを準備する第１工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り２０Ｎに対し、２６６ｎｍの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り２０Ｎを除去する第２工程と、当該第２工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト２０をマスクとしてエッチングする第３工程とを含む。 （もっと読む）