説明

Fターム[3K107GG28]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 製造又は処理の条件、雰囲気 (2,639)

Fターム[3K107GG28]に分類される特許

101 - 120 / 2,639


【課題】良好な発光特性を示す有機発光材料、それらを用いた発光デバイスの提供。
【解決手段】下式IまたはIIで表されるジチエノベンゾジチオフェン誘導体発光材料。


〔X及びYは、X−Yとして式Iの化合物から脱離する基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、R〜R10はそれぞれ独立に、水素、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアルキルチオ基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。〕
(もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、電気特性の安定した半導体装置を提供する。とくに、酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接して形成されたソース電極、及びドレイン電極と、を有し、ゲート絶縁膜は、少なくとも酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された酸素放出型の酸化膜と、により構成され、酸素放出型の酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 (もっと読む)


【課題】複数層のポリマー光学装置の形式のために不溶化有機材料層の製造方法を提供する。
【解決手段】第1のタイプの電荷輸送体を注入又は取得することができる第1電極2を含む基板1を提供し、第1電極の上に、架橋性ビニル又はエチニル基のない積層時に溶媒に溶解する第1の半導体材料を積層することによって、溶媒に少なくとも部分的に不溶な第1層4を形成し、溶媒中の溶液から第2半導体材料を積層して、第1層に接触し第2の半導体材料を含む第2層5を形成し、第2層上に、第2のタイプの電荷輸送体を注入又は取得することができる第2電極6を形成し、ここで、第1の半導体材料の積層に続いて、第1層が加熱乾燥処理、真空乾燥処理及び外気乾燥処理の1又は2以上によって、少なくとも部分的に不溶性に変えられる光学装置の形成方法。 (もっと読む)


【課題】不良や故障の発生した有機EL素子を、素子単位で容易に交換する。
【解決手段】有機ELパネル1は、複数の有機EL素子2と、複数の有機EL素子2を被覆可能な2つの被覆部材3とを備え、複数の有機EL素子2が被覆部材3間に挟持され、被覆部材3間が大気圧に対して減圧されている。 (もっと読む)


【課題】曲率を有する基材に被剥離層を貼りつけた半導体装置の作製方法を提供することを課題とする。特に、曲率を有するディスプレイ、具体的には曲率を有する基材に貼りつけられたOLEDを有する発光装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】元々曲率及び弾性を有する支持体に外力を加え、これを基板上に作成された被剥離層に接着する。この後基板を剥離すると、支持体が復元力によって最初の形状に戻るとともに被剥離層も支持体の形状に沿って湾曲する。最後に、元々曲率を有する転写体を被剥離層に接着すれば、所望の曲率を有した装置が完成する。 (もっと読む)


【課題】気密性の優れた封止体の作製方法を提供する。また、当該封止体で封止した発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】低融点ガラスを用いた封止体、発光装置について、ガラス粉末を溶融させガラス層にする加熱工程で、所望の表面形状にするため第3の基板を押付ける。低融点ガラスの表面と対向基板が気密性よく封止されるように、第3の基板の表面形状がなされており、その表面形状が対向基板と溶着するときまで保持できる。よって、気密性の高い封止体および当該封止体で封止した信頼性のある発光装置を作製することが出来る。当該発光装置の作製方法を、特に有機EL素子に適用した場合、信頼性の高い有機EL発光装置が作製できる。 (もっと読む)


【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材1上に水蒸気バリアー層2と保護層3が積層された水蒸気バリアーフィルム10(11)を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第1の塗布液を基材1上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層2を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした時に、蒸発速度が40以下の第一溶媒と、蒸発速度が100以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第2の塗布液を水蒸気バリアー層2上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層3を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム10(11)を作製するようにした。 (もっと読む)


【課題】量産実現性のある酸素濃度・水分濃度環境下におけるウェットプロセスにて、高発光効率且つ長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を安定的に製造する。
【解決手段】陽極と陰極との間に、少なくともリン光発光材料を含有する発光層が挟持され、前記発光層がウェットプロセスで形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、発光層に含有される発光ホスト材料中に分散された、膜の状態での室温におけるリン光寿命が1.4μsec未満であり、且つリン光量子収率が70%以上のリン光発光材料を含む塗布液を調整する工程と、塗布液を、酸素濃度10〜2000ppm、水分濃度10〜2000ppmの不活性ガス雰囲気下で塗布して乾燥させる工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 直接膜封止法であるにもかかわらず有機EL素子の劣化が防止でき、かつ、有機EL素子の長寿命化が可能である有機ELデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板101上に、有機エレクトロルミネッセンス素子110が形成された有機エレクトロルミネッセンスデバイス100であって、有機エレクトロルミネッセンス素子110上にガスバリア層120を有し、ガスバリア層120が、金属および半金属の少なくとも1種を含み、ガスバリア層120が、放電処理がされた放電処理層120bと、放電処理がされていない非放電処理層120aとを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子に混入した異物が高抵抗の異物である場合でも、異物によりリーク性の暗点となる有機発光素子を検出できる有機EL表示パネルの検査方法を提供する。
【解決手段】有機EL表示パネル5の全画素を、第1電流に基づいて発光させるステップS21と、周辺画素の第1発光輝度とは異なる第2発光輝度である画素を注目画素として特定させるステップS24と、注目画素及び周辺画素を、第2電流に基づいて発光させるステップS25と、周辺画素の第3発光輝度及び注目画素の第4発光輝度を算出させるステップS27と、第1輝度比と第2輝度比との差が所定値を超えているかを確認させ、その差が所定値を超えている場合には、注目画素に含まれる有機発光素子はショートしていると判定させるステップS29と、を含む。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、現在実用化されている量産技術からの膜構成、プロセス条件、または生産装置等の変更が少なく、半導体装置に安定した電気特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、を有し、ゲート絶縁膜は、窒化酸化シリコン膜と、窒化酸化シリコン膜上に形成された酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された金属酸化膜と、を含み、金属酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 (もっと読む)


【課題】発光層のホスト材料としても適用し得る重合性材料及びこれを用いた有機EL素子の提供。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子において、下記式(1)又は式(2)で表されるカルバゾール誘導体の重合物を含有しているような構成とする。


(もっと読む)


【課題】 低抵抗かつ高反射率の特性と共に表面粗さが小さく、高い耐硫化性及び耐塩化性を兼ね備えた導電性膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜が、Cu:0.1〜2.5原子%、Sb:0.1〜1.5原子%、Ga:0.5〜3原子%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成されている。この導電性膜は、表面に有機EL素子の透明導電膜が積層され、さらにその上に有機EL層を含む電界発光層が積層される有機EL素子用の反射電極膜として好適である。 (もっと読む)


【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル14の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル14からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル14の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル14から吐出されたダム剤が基板100の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル14の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル14を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル14からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル14の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】有機膜上に、光透過性、導電性が従来より高い透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】
有機膜上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法であって、酸素ガスを含まない雰囲気中に、金属酸化物の粒子を放出させ、有機膜上に到達させ、有機膜上に金属酸化物膜27を形成する金属酸化物膜形成工程と、金属酸化物膜27を酸化又は還元して第一の透明導電膜27’を形成する金属酸化物膜改質工程とを有している。成膜中に有機膜が酸素ガス又は酸素イオン、ラジカルで損傷することがない。また金属酸化物膜27を酸化又は還元させ、その酸素含有量を増減させることにより所望の膜質の透明導電膜27’が得られる。 (もっと読む)


【課題】発光層が1層の白色の有機EL素子において、白色の色純度は維持しつつ、ドーパントの平均濃度を適度に維持することで寿命向上を実現し、電力効率の優れた有機EL素子を提供する。
【解決手段】陽極、陰極に挟まれ、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含む複数の有機層を有する白色有機EL素子において、発光層は、最大発光波長の異なる3種以上のドーパントを含み、最大発光ピーク波長が430〜480nmであるBドーパント、500〜540nmであるGドーパント、520〜560nmであるRドーパントとし、この3分類の中から各々選択された少なくとも3つのドーパントを含む発光層で、発光層内のBドーパントはリン光ドーパントであり、リン光寿命が1.4μsec未満かつリン光量子収率が70%以上となるリン光発光材料で、Rドーパント/Bドーパントの比率が5〜20wt%、発光層全体に対するBドーパントの比率は10〜30wt%。 (もっと読む)


【課題】輝度半減寿命の長い有機EL素子を製造することができる、有機EL素子の製造方法提供すること。
【解決手段】第1の電極と、第2の電極と、該第1の電極と該第2の電極との間に発光層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、支持板と有機層とを有する転写基板の有機層の表面に、有機フッ素化合物を接触及び付着させて得られる、有機フッ素化合物転写面を有する転写板を準備する工程、第1の電極の上又は第1の電極の上に形成された機能層の上に、発光性有機化合物を含む薄膜を形成する工程、該有機フッ素化合物転写面と発光性有機化合物を含む薄膜の第2の電極側の表面とが対向して接触又は近接するように、該転写板を発光性有機化合物を含む薄膜に積層して、積層体を形成する工程、形成された積層体を加熱する工程、及び積層体から転写板を取り除いて発光層を得る工程、を包含する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 量子ドット層製造方法及び量子ドット層を含む量子ドット光電子素子を提供する。
【解決手段】 ソース基板上に自己組織化単層、犠牲層及び量子ドット層を順次に積層し、量子ドット層上にスタンプを位置させてスタンプで犠牲層及び量子ドット層をピックアップし、犠牲層を溶解させる液体で、前記量子ドット層から前記犠牲層を除去する量子ドット層製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れたキャリア注入効率が実現され、従来よりも低駆動電圧で発光輝度が高い有機EL素子及び有機ELディスプレイを提供する。
【解決手段】基板11上に形成した陽極である下部電極12の上に、電子受容材料からなる層と、ホール輸送材料からなる層とを積層形成した後、積層構造体を、ホール輸送材料のガラス転移温度より30℃低い温度から、ホール輸送材料のガラス転移温度より200℃高い温度の範囲で加熱する。これにより、電子受容材料とホール輸送材料との酸化還元反応を生じさせて、電子受容層13aとホール輸送層13bの間に、電荷移動錯体を含む界面領域13cを生成させる。その後、発光層14と陰極である上部電極15とを順次形成する。 (もっと読む)


101 - 120 / 2,639