【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】発光効率が高く、低駆動電圧であり、且つ耐久性が高く、さらには、駆動時の電圧上昇を小さくできたり、経時安定性に優れたりする有機エレクトロルミネッセンス素子材料、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子材料。
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【課題】高い移動度と、優れた安定性を示す電子機器（例えば、薄膜トランジスタ）のための半導体層に使用できる半導体化合物および該化合物を使用した電子機器の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される非対称半導体化合物。


（式中、Ｒ_１およびＲ_２は、それぞれ独立してアルキル、置換アルキル、アルケニル等で、ｐおよびｑは、独立して０または１である。） （もっと読む）

【課題】長波長側のεが向上し、高い耐熱耐久性を実現することができる光電変換素子、光化学電池、及びこれに用いられる色素を提供する。
【解決手段】導電性支持体上側に、色素が吸着された半導体微粒子の層を有する感光体層と、電荷移動体層と、対極とを配設した積層構造をもつ光電変換素子であって、該色素が下記式（１）で表される金属錯体色素である光電変換素子。
Ｍ^１Ｌ^１Ｌ^２Ｚ^１ （１）
［式（１）において、Ｍ^１は金属原子を表し、Ｚ^１は１座の配位子を表す。Ｌ^１は特定の３座の配位子を表す。Ｌ^２は、特定の２座の配位子を表す。］ （もっと読む）

【課題】比較的大きい溶解度等の好ましい特性を有する芳香族重合体を提供する。
【解決手段】式（ＩＶ）で表される縮合多環芳香族部分を２以上有する芳香族重合体：


（Ｇ_１、Ｇ_２、Ａ_１〜Ａ_４は、結合、水素原子、特定の置換基であり、Ｂは、ベンゼン環部分を有する縮合環であり、Ｙはカルコゲンである）。 （もっと読む）

【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】ドープされた状態において高い導電性能を示し、かつ大気安定性を有するチオフェン系重合体のモノマーとして有用であるアルコキチオフェン誘導体を、不安定な中間体を経ずに効率的に合成できる製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシチオフェン化合物の金属化合物又はホウ素化合物と、単環式、縮合多環式又は環集合式のチオフェン誘導体等からなる基を有するヘテロアリーレン化合物のハロゲン化物とを、遷移金属触媒下でクロスカップリング反応することにより、アルコキチオフェン誘導体を高収率で得る。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つ工業的規模での量産が実施可能であり、環境への負荷を可能な限り低減した高収率である２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ置換トリフェニレン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】２価又は３価の鉄イオンを含む化合物の存在下、１，２−ジ置換ベンゼン化合物の３量化反応により、トリフェニレン化合物を製造する方法において、該反応においてカルボン酸エステル類、ラクトン類、炭酸エステル類及び亜硫酸エステル類からなる群から選択される少なくとも１種の反応溶媒を用いることを特徴とする２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ置換トリフェニレン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】抗ガン活性あるいは抗有糸分裂（有糸分裂阻害）活性などの製薬的な活性を有するハリコンドリンＢ類似体を調製する合成法の開発。
【解決手段】ハリコンドリンＢ類似体Ｂ１９３９を調製する合成法およびＢ１９３９を調製するのに有用な合成中間体。
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【課題】比較的大きい溶解度を有する縮合多環芳香族化合物、その合成及び使用方法の提供。
【解決手段】下記ＤＮＴＴを代表とする化合物。
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【課題】比較的大きい溶解度を有する縮合多環芳香族化合物の前駆体に用い得る化合物と合成法の提供。
【解決手段】下記式（ＩＩ）で表される縮合多環芳香族化合物：
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】サーチュインの活性又はレベルを調節し、それによって対象における肥満又は、糖尿病などのインシュリン耐性疾患を治療又は予防するするための方法および組成物の提供。
【解決手段】細胞を、サーチュイン活性化化合物又は阻害性化合物に接触させることで、脂肪蓄積をそれぞれ上昇させる又は減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＡＲＰ阻害活性を有する新規化合物を探索する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物またはその塩。Ｒ^１はハロゲン原子などを示し；Ｒ^２およびＲ^３は水素原子などを示し；Ｒ^４およびＲ^５は水素原子などを示すか、または、Ｒ^４とＲ^５でオキソ基を形成してもよく；Ｒ^ａおよびＲ^ｂは置換基を有してもよい低級アルキル基などを示すか、または、結合して１または複数個のＲ^ｃで置換されてもよい含窒素複素環を形成してもよく；Ｒ^ｃは置換基を有してもよいアリール基などを示し；環Ａはベンゼン環などを示し；ｍは０、１または２を示す。
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【課題】導電性材料または半導性材料として好適に用いることができる架橋性ジチエノピロール化合物およびその重合体を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物およびその重合体。


［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアルコキシ基であり、Ｌは、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、置換基を有してもよいオキシアルキレン基またはこれらの組合せからなる２価の基である。］ （もっと読む）

【課題】酸化還元反応の繰り返しに対して高い安定性を有するとともに、電気的中性の状態で消色し高い透明性を有し、かつ着色時の温度変化に対する色安定性に優れた新規エレクトロクロミック化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式［１］で示されることを特徴とする有機化合物を提供する。


［１］ＡおよびＡ’はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、アリール基から選ばれる。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するラクトン化合物の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物を、還元剤の存在下で還元工程を含む、下記一般式（２）または（３）で示される化合物の製造方法。


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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［式中、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基であって、該環構造中に−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合を有し、該−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合に隣接しない１つ以上の炭素原子の置換基として酸素原子を有する。Ｑ^１は２価の連結基又は単結合であり、Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり、Ａ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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