説明

Fターム[4D002AA22]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 被処理成分 (6,599) | ハロゲン、ハロゲン化合物 (1,331) | フッ素(F2)、フッ化物 (400)

Fターム[4D002AA22]の下位に属するFターム

Fターム[4D002AA22]に分類される特許

81 - 100 / 276


【課題】流体中に含まれる難分解性化合物を効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】難分解性化合物を含むPFCガス31が導入される処理槽19と、処理槽19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54と、処理槽19内のナノバブル含有水中にPFCガス31を含むマイクロナノバブルを発生させるマイクロナノバブル発生部79とを備える、難分解性化合物を含む流体を処理するための処理装置20を提供する。 (もっと読む)


特徴は、ポートを通じるガスの流れを制御するよう動作可能な、流動液体を含むバルブを含む。特定の特徴は、ガスを反応させるよう動作可能なチャンバを含み、一部の特徴において、ガスは、流動液体から成る外皮内に実質的に閉じ込められる。特定の実施態様は、ポートを通じるガス流を制御する流動液体から成るバルブでチャンバ内へのガスの進入を制御する。相当な量の固形反応生成物を生むガスを反応させるよう動作可能な反応チャンバを含むシステムを含む、様々なガスアベートメントシステムが記載される。ガス流を制御するための方法が開示される。システム及び方法は、湿式スクラビングし、反応させ、選択的にガス流を更に湿式スクラビングするという順次的なステップを含む。
(もっと読む)


【課題】被処理ガスの吸着熱による除去剤の発熱の抑制、および処理後の固形廃棄物の発生の低減が可能で、低濃度の本ハロゲン系ガスを含む被処理ガスにも用いることができ、本ハロゲン系ガスの除去効率により優れた除去方法、および除去剤を提供する。また、該除去方法を用いた半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン系ガスを含有する被処理ガスと、造粒物からなる除去剤とを接触させて前記ハロゲン系ガスを除去する方法であって、前記造粒物が、アルカリ金属の炭酸水素塩および/または炭酸塩と、炭素質材料と、アルカリ土類金属の水酸化物と、アルカリ土類金属のハロゲン化物の水和物とを含有するハロゲン系ガスの除去方法。また、前記造粒物からなる除去剤。また、前記除去方法を利用した半導体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置からの排ガスを燃焼式除害装置、集塵装置、ガス洗浄装置に順次送り込んで処理する際に、ガス洗浄装置においてその内部に固形物が付着、堆積することを防止し、ガス洗浄装置の閉塞などの不都合が生じないようする。
【解決手段】半導体製造装置1からの排ガスを燃焼式除害装置3に導入し、ついで集塵装置4に送り、さらにガス洗浄装置に送り込んで処理する際、前記ガス洗浄装置を2段構成とし、第1段ガス洗浄装置6Aで水を洗浄液としてガス洗浄し、ついで、第2段ガス洗浄装置6Bでアルカリ水溶液を洗浄液としてガス洗浄する。 (もっと読む)


【課題】工場などから排出される液体及び気体に含まれる難分解性化合物を、容易かつ効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は、液体を処理する液体処理部20と、第1の気体、及び上記液体を処理することによって発生した第2の気体を処理する気体処理手段とを備えており、液体処理部20は、活性炭26を内部に有し、上記液体が導入される液体分解装置19と、液体分解装置19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54とを備えており、上記気体処理手段は、第1の気体及び第2の気体を混合するPFCガス混合装置32と、PFCガス混合装置32によって混合された混合気体を分解処理するPFCガス分解装置33とを備えているので、工場などから排出される液体及び気体に含まれる難分解性化合物を、容易かつ効率よく除去することができる。 (もっと読む)


【課題】運転開始時のアイドリング運転時間を短縮してエネルギーコストの削減を図ることができる排ガス処理装置及びその運転方法を提供する。
【解決手段】排ガスを加湿する散水手段11と、加湿された排ガス中の不純物を反応室13内でプラズマにより分解するプラズマ処理手段14と、反応室13を冷却するための冷却ジャケット23と、冷却ジャケット23に冷却水を導入する冷却水導入経路25と、冷却ジャケット23で温度上昇した温水を散水手段に11供給する温水経路28とを備え、排ガスの導入を開始する前に、冷却水導入経路から冷却ジャケットへの冷却水の導入を停止した状態で装置のアイドリング運転を行い、第1温度検出手段30で検出した冷却ジャケット内の水温が設定温度に上昇したときに冷却ジャケットから散水手段への温水の供給を開始する。 (もっと読む)


【課題】排ガスを除害するための、生成物の処理が容易な三フッ化窒素の分解処理方法および分解処理装置を提供する。
【解決手段】NF3を含む排ガスを排出するCVD装置等の排気系に接続されて前記NF3を分解する分解処理装置20であって、反応室22と、水素原子を含有する気体分子を含む反応ガスを供給されて下流側で反応室22の側部に接続するプラズマ発生室25と、プラズマ発生室25において前記気体分子をプラズマ化するプラズマ源27と、を備えることを特徴とする。プラズマ発生室25において、気体分子はプラズマ化して、含有される水素原子を解離して水素活性種H*とし、反応室22において、前記CVD装置から供給されたNF3は、プラズマ発生室25から流入した前記水素活性種H*と(NF3+6H*→NH3+3HF)のように反応して、NH3とHFとに分解される。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン含有ガスの処理装置において、高効率な処理とユーザニーズに沿った装置構造の実現を可能とするハロゲン含有ガスの処理装置を提供するものである。
【解決手段】ハロゲン系ガスを含有するハロゲン含有ガスを供給するハロゲン含有ガス供給手段から供給されるガス流に対して順次直列に接続された、ハロゲン含有ガスを分解したときに生成される副生成物を除去するための洗浄手段31、ハロゲン含有ガスからハロゲン系ガス以外のガスを分離し、上記ハロゲン系ガスを濃縮するためのガス分離設備321、上記ハロゲン系ガスが濃縮されたガスを分解するガス分解器36、およびガス分解器36で処理され、排出された処理ガスを洗浄手段31に戻す排気ガス循環手段352を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】フッ化物ガスの分解処理温度を低下させることができるフッ化物ガスの分解処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】反応容器10内に、酸化カルシウム、シリコン及びハロゲン化アルカリ金属からなる分解処理剤Aが装填された反応室14を設け、フッ化物を含む被処理ガスを前記反応室に供給するとともに、反応容器の周囲に設置された電気炉17によって反応室を所定温度に加熱することによりフッ化物を分解処理し、処理ガスを排出する。 (もっと読む)


【課題】水溶液中の難分解性化合物を効率よく除去することが可能な水処理技術を提供する。
【解決手段】被処理水中にナノバブル30を発生させるナノバブル発生機16と、ナノバブル30を含んでいる被処理水を貯める分解部19、および、上記ナノバブルを含んでいる上記被処理水を貯める分解部、および、分解部19から発生する気体が導入される空間であり、微細活性炭33が入れられているガス吸着部18により構成される分解吸着槽20と、分解部19に貯められている被処理水を曝気する散気管36とを備えている水処理装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】水溶液中の難分解性化合物を効率よく除去することが可能であり、かつ省スペース化に対応した処理技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る難分解性化合物を含有する液体を処理するための処理装置は、予め低濃度液体として設定された上記難分解性化合物を含む低濃度液体を処理する低濃度液体処理手段を備えている。当該低濃度液体処理手段は、活性炭26を内部に有し、上記低濃度液体が導入される分解吸着処理槽19と、分解吸着処理槽19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54とを備えている。このように、低濃度液体を、高濃度の難分解性化合物を含む高濃度液体とは分離して処理するので、処理の対象となる液体を難分解性化合物の濃度に応じて適切に処理することが可能であり、効率よく難分解性化合物を分解することが可能である。 (もっと読む)


【課題】水溶液中の難分解性化合物を効率よく除去することが可能な難分解性化合物除去装置および難分解性化合物除去方法を提供する。
【解決手段】難分解性化合物含有水を導入する水槽42と、水槽42内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部2と、水槽42内の難分解性化合物含有水の水面上に存在する気体を流動させるために、気流を発生させる送風部17と、気体中に含まれる難分解性化合物の分解物を吸着するための吸着部32・33・34と、を備える。 (もっと読む)


【課題】有機フッ素化合物等の難分解性の化合物を経済的かつ高効率で無害化できる水処理装置および水処理方法を提供する。
【解決手段】この水処理装置では、ナノバブルの酸化力を利用して、前段分解部水槽42での第1ナノバブル発生機2によるナノバブル処理と後段分解部水槽43での第2ナノバブル発生機86によるナノバブル処理との2段階のナノバブル処理でもって、流入水中の有機フッ素化合物を分解し分解物をガス化でき、活性炭76〜78で吸着,除去できる。また、上記有機フッ素化合物をナノバブルの酸化力を利用して分解した分解物としてのガスをファン17による送風でもって水面25から常時除去することにより上記分解をより効率的にすることができる。 (もっと読む)


【課題】 外部の装置からの水蒸気の供給がなくても効率よくフッ素化合物を分解して排出することのできる分解処理剤およびその処理方法を提供する。
【解決手段】 フッ素化合物を加熱下で分解するための分解処理剤であって、水酸化アルミニウムと水酸化カルシウムとからなり、650℃〜750℃の加熱下で、上記水酸化アルミニウムが、水蒸気を供給して主として非晶質の酸化アルミニウムとなり、上記水酸化カルシウムが、水蒸気を供給して酸化カルシウムとなるフッ素化合物の分解処理剤。 (もっと読む)


【課題】有機フッ素化合物濃度が低くて、被処理水の量が多量であっても、低コストで、有機フッ素化合物の分解除去ができる水処理装置および水処理方法を提供すること。
【解決手段】有機フッ素化合物含有水を2段階で処理する。第1段階では、ナノバブルで有機フッ素化合物含有水を分解することによって生成した分解物を、固定された活性炭32,33,34で吸着処理する。第2段階では、第1段階で処理された処理水中の低濃度の有機フッ素化合物をナノバブルで分解して生成した分解物を、流動している活性炭67で吸着処理する。 (もっと読む)


【課題】炭素数が3以上の二重結合を有しないパーフルオロ化合物を高効率で吸着し、除害できる吸着剤及びそれを用いた除害方法を提供する。
【解決手段】二重結合を有しない炭素数3以上のパーフルオロ化合物をLSX型、X型、MOR型及びMFI型のいずれかのゼオライトを含んでなるパーフルオロ化合物の吸着剤で吸着除去する。ゼオライトのカチオン種としては周期表の1A族、2A族元素、或いは遷移金属、Zn、Agなどを含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】様々な供給流路の切り替え中の流体の圧力の変化に特に関連した移行レジームの影響を制限するプラズマ処理システムの提供。
【解決手段】被処理流体の少なくとも1つの流体ソース1、流体分子の化学結合の少なくとも一部を破断させることにより被処理流体からのプラズマの発生を可能にするプラズマ処理手段8、流体ソース1とプラズマ処理手段との間に位置した少なくとも1つの多流路弁4、各多流路弁4を流体ソース1とプラズマ処理手段8との直接的な相互作用のための第1位置又は流体ソース1をプラズマ処理手段8の出口9へと直接接続することを可能にする第2位置に合わせることを可能にする多流路弁4を制御する手段及び多流路弁の第1出口7とプラズマ処理手段の入口及び/又は出口との間か又は多流路弁の第2出口12とプラズマ処理手段の出口9との間の何れかに位置した、流体の流量を制限する少なくとも1つのデバイス14とを具備している。 (もっと読む)


【課題】処理水を系外に排出することなく有効利用し、かつ、洗浄用供給水の使用量を削減できるフッ素含有廃水の循環利用方法の提供。
【解決手段】本発明のフッ素含有排水の循環利用方法は、一実施形態として、洗浄水を用いてフッ素を含む排ガスの洗浄する装置5から排出されるフッ素含有排水とカルシウム化合物とを第1反応槽21で混合してフッ素とカルシウムとを含む凝集物を形成させること、沈殿槽3において凝集物を含む排水を固液分離して上澄み液を処理水として得ること。処理水を排ガスの洗浄に使用する洗浄水として利用するために配管P4を通じて回収することを含む。 (もっと読む)


【課題】半導体や液晶製造工場から排出されるPFCを分解したとき等に生成するHF及びSOx含有排ガスを、乾式法により無害化処理する。
【解決手段】HF及びSOxを含む排ガスを、SOx除去工程にて予めSOxを除去してから、固体のCa(OH)2と接触させる。Ca(OH)2充填塔101はメッシュ板102上にCa(OH)2層110を保持したものとし、下部にHF含有ガスの導入口、上部にHFが除去されたガスの排出口を設ける。また、ガス排出口には充填塔内のガスを吸引排気するブロワ(またはエゼクタ)104を設ける。HF含有ガスにSOxが残留する場合には、Ca(OH)2層の温度を100〜310℃にすることが望ましい。本発明により、水を使用することなくHFを無害化処理できる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造で効果的に電極を冷却し、電極の寿命を大幅に伸ばすことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】電極1間にプラズマを発生させ、被処理物を処理するプラズマ処理装置において、電極1に液体を浸潤するように供給する液体供給機構6を設ける。 (もっと読む)


81 - 100 / 276