【課題】 本発明は、その中で大気圧プラズマを生成させる絶縁管を冷却するシステムを提供する。
【解決手段】 半導体プロセス機器の排出口から再生ラインに使用済みプロセス流体を通流させ、前記半導体プロセス機器の排出口から前記使用済みプロセス流体を再生し、 前記再生ラインに接続された流体センサで前記使用済みプロセス流体の状態を測定し、前記流体センサから制御器へ前記プロセス流体の状態を表わす信号を送るとともに、該信号が所定範囲内にあることを設定し、前記信号が前記所定範囲内に入る場合は前記半導体プロセス機器に前記使用済みプロセス流体を回収し、また前記信号が前記所定範囲から外れる場合は前記使用済みプロセス流体の少なくとも一部をシステムドレインに流す。 （もっと読む）

【課題】
ＰＦＣ分解排ガス中の酸性ガス除去及び排ガス冷却に必要な用水量を低減し、環境負荷低減を図る。
【解決手段】
ＰＦＣを含む被処理ガス中の水溶性ガスを除去する湿式除去工程と、湿式除去工程の後段で、前記ＰＦＣガスを分解するガス分解工程と、ガス分解工程の後段で、ＰＦＣの分解により生成する酸性ガスを除去する酸性ガス除去工程と、を備えた排ガス処理方法において、前記酸性ガス除去工程の前段に、被処理ガス中の水分を凝縮させる水分凝縮工程を備えることを特徴とする排ガス処理方法。ＰＦＣ分解排ガス中の水蒸気を凝縮させ、凝縮水中にガス中に含まれる酸性ガスを溶解させ、その後、排ガス中に中和剤を添加して酸性ガスを完全除去する。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造工程等から排出される排ガスに含まれるフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、フッ化硫黄等のフッ素化合物の分解処理において、フッ素化合物を分解処理剤により効率よく分解処理するとともに、フッ素化合物の分解処理剤が破過した際に、これを容易に検知することが可能な分解処理システムを提供する。
【解決手段】 分解処理剤の下流側に酸化アルミニウムを有効成分として含む処理剤、さらに該処理剤の下流側にフッ化水素の検知手段を配置し、該上流側の分解処理剤を破過したフッ素化合物が下流側に流出する場合に、該フッ素化合物が、水蒸気の存在下、該下流側の処理剤に含まれる酸化アルミニウムと接触することにより生成するフッ化水素を、該検知手段により検知して該分解処理剤の破過を検知する分解処理システムとする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置から排出された後、加熱処理された排ガス中に含まれる粉塵およびフッ化水素等の除去効率が高く、かつ、フッ化水素等との反応に用いられる消石灰を無駄なく反応させることのできる濾過式集塵機を提供する。
【解決手段】排ガス加熱装置１２からの排ガスＦを受け入れ、この排ガスＦを乾式処理した後、排気ファン１６に導出する本体部２０と、フィルタ２８で濾過された後の排ガスＦの一部をケーシング２４の上部空間２４ｃから下部空間２４ｄに循環排ガスＣＦとして循環させる循環部２２とを有する濾過式集塵機１４において、ケーシング２４の下部空間２４ｄに循環排ガスＣＦを導入する循環用排ガス導入ダクト４６をケーシング２４の底部２４ｂに接続することにより、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】ボイラの低負荷運転時においても、排ガス中の煤塵や微量成分の除塵・吸収性能を高く維持でき、ベンチュリスクラバ後流側の脱硫吸収塔に飛散するミスト飛散量の増加を防ぐ湿式二段排煙脱硫装置の提供である。
【解決手段】燃焼装置から排出される排ガス中の硫黄酸化物を吸収する脱硫吸収塔２の排ガス流路の上流側に、排ガス中の煤塵を吸収除去して捕集するスロート部５と該スロート部５により捕集した煤塵を含むミストを除去するミストエリミネータ８とを有するベンチュリスクラバ１を設けた湿式二段排煙脱硫装置とし、ベンチュリスクラバ１を複数台並列に設置し、燃焼装置の運転負荷の低下時には排ガスを導入するベンチュリスクラバ１の運転台数を所定負荷時よりも減らす。ベンチュリスクラバ１を並列に複数設置すること、低負荷時にはその運転台数を減らすことで、低負荷時でもスロート部５の高ガス流速を保ち、高い除塵・吸収性能を維持できる。 （もっと読む）

【課題】 フッ素含有ガスの分解処理において、高い分解処理能力を長時間にわたって維持することができるとともに、分解処理後の分解処理剤をフッ素原料として再利用に適した形態で回収可能な分解処理剤を提供する。
【解決手段】 フッ素含有ガスを加熱下で分解する分解処理剤であって、水酸化アルミニウムと水酸化カルシウムと炭酸カルシウムとからなる分解処理剤２である。脱水反応によって表面が酸化アルミニウムおよび酸化カルシウムとなり、これらと炭酸カルシウムと、脱水反応によって生じる水（水蒸気）とがフッ素含有ガスと反応することによって、高い分解処理能力を長時間にわたって維持できる。また、分解処理能力の向上により分解処理剤２の交換頻度が減少し、分解処理装置１の稼働効率を向上させることができる。また、分解処理後の分解処理剤２をフッ素原料として再利用に適した形態で回収することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明のプラズマスクラバーは、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去する。
【解決手段】本発明のプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第１反応炉１０、前記第１反応炉１０内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第１反応炉１０との放電によって前記第１反応炉１０との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極４０、前記第１反応炉１０に連結装着され、前記プラズマが前記電極４０に付着して（anchoring）連続的なアークジェットを形成する第２反応炉２０、及び前記第２反応炉２０に連結装着され、前記第２反応炉２０で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第３反応炉３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】吸収塔の前流側に配置されるガス洗浄塔において排ガス中の微量成分の除去率を高めることができる排煙処理装置を提供すること。
【解決手段】ボイラなどの燃焼装置から排出される排ガス中のＳＯｘを除去する吸収塔７の上流側の比較的大きな容量の空塔室１ａに流入し、その後、下向きの排ガス流れを形成するための狭い流路からなる喉部１ｂを通り、その下側に設けられた比較的大きな容量の循環タンク１ｃに供給される。喉部１ｂの下流側にある循環タンク１ｃのガス流路拡大部に液再分散板６を設け、液再分散板６から再分散された液は容易に塔壁に衝突せず、循環タンク１ｃの下方の吸収液溜めに落下するまでの間に排ガスと十分に接触することで、ガス状物質の水銀やフッ素は吸収液に高効率で除去される。また、前記循環タンク１ｃ内の塔拡大部ではガス流速も低下し、ガス流れの圧力損失が低くなる。その結果、排ガス中の煤塵除去と微量成分除去が同時に達成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】表面処理、改質に使用されたガスにより装置が損傷することを抑止できる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置１００は、希釈ガスを供給する希釈ガス供給装置１と、フッ素ガスを供給するフッ素ガス供給装置２と、前記希釈ガスと、前記フッ素ガスとを混合し、混合ガスを発生させる混合器５と、前記混合ガスを被処理物に接触させる反応器６とを備えた表面処理装置１００であって、前記反応器内から排気ガスを排出する排気装置７と、前記反応器６と前記排気装置７との間に設けられており、前記排気ガスを流通させる複数の流路１９、２０、２１、２２と、前記複数の流路の各々に設けられている複数の弁２３、２４、２５、２６とをさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】排ガス分解装置において、その反応部の外径および装置全体を大きくすることなく、分解対象ガスを効率良く分解、除去できるようにすることにある。
【解決手段】分解対象ガスを導入して熱分解する反応炉Ａを備え、反応炉Ａ内に蓄熱性充填材６を充填する。蓄熱性充填材には塊状のアルミナなどが用いられる。反応炉の内容積に占める蓄熱性充填材の容積の割合を６０％以下とすることが好ましく、反応炉内の蓄熱性充填材の充填高さｌと反応炉内径ｄとの比（ｌ／ｄ）を０．８〜２．０とすることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】
半導体や液晶製造工場から排出されるフッ素化合物を含む排ガスの処理装置の耐久性の向上，メンテナンスの簡便化を図る。
【解決手段】
被処理ガス中のミスト形成ガスとミスト付着ガスとを分離するガス分離手段と、前記ガス分離手段を通過した被処理ガスに含まれる酸性ガスまたはケイ素化合物の少なくともいずれかを除去する湿式除去装置と、湿式除去装置を通過した被処理ガスに含まれるフッ素化合物を分解する触媒を備えたフッ素化合物分解装置とを有することを特徴とする排ガス処理装置にある。上記装置により、触媒反応層前段の前処理工程において、ＳＯ₃とＳｉＦ₄を分離し、ＳｉＦ₄は乾式除去装置後段に設置した湿式除去装置で除去する。排ガス中に含まれるＳＯ₃とＳｉＦ₄を分離し、フッ素化合物分解触媒の寿命延命化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ガス中のＣｌＯ_３Ｆを除去できる安価な除去方法を提供することである。
【解決手段】 ＣｌＯ_３Ｆを不純物として含むガスを還元剤と反応させることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ_３Ｆを安価に除去することが可能となる。または、水溶液中の標準電極電位が−０．０９２Ｖ以下である還元剤を用いるか、 還元剤を水溶液の状態で反応に用いることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ_３Ｆを安価に除去することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣｓ，ＨＦＣｓ，ＨＣＦＣｓ及びＣＦＣｓなどのハロゲンを含む化合物を効率良くしかも比較的低温で分解でき、且つその分解生成物である有害物質も無害化でき、また除害装置と組み合わせることにより、長期間にわたり運転が可能で、ガス中のハロゲン化合物の濃度に関係無く連続的に処理できるハロゲン化ガス処理剤を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物及びアルカリ金属フッ化物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有し、窒素雰囲気下で焼成することによって調製した酸化カルシウムまたは酸化マグネシウムからなる、ハロゲン化ガス処理剤。 （もっと読む）

【課題】複数のガス処理装置における除害効率を実使用条件で監視し、ガス中に多量に存在する水分やダストの影響を排除し、高精度の分析を行うことにより、処理装置によるフッ素系ガスの除害効率を正確かつ低コストで求める。
【解決手段】排ガス中の有害成分を除害処理して排出し処理前の排ガスを被測定ガスＡ、処理後のガスを被測定ガスＢとして導出する複数のガス処理装置１Ａと、第１のガス分析計３と、複数のガス処理装置からの複数の被測定ガスＡまたは複数の被測定ガスＢから選択的に１種のガスを採取して第１のガス分析計に送給するサンプリング装置２と、第１のガス分析計のための校正ガスを供給する校正ガス供給装置４と、サンプリング装置での複数の被測定ガスＡと被測定ガスＢの選択的採取を制御する制御部５と、ガス分析計からの測定値に基づいてガス処理装置での除害効率を算出する演算部６を備えたガス処理装置の監視装置。 （もっと読む）

【課題】連続して稼働しても、排出する排ガスにおける水溶性ガスの濃度を低く維持することのできる排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】半導体製造装置から排出された排ガスを熱分解処理する反応器、前記反応器で熱分解された処理済みの前記排ガスに洗浄水を噴射するスプレーノズルを有する出口スクラバー、および前記出口スクラバーに供給する前記洗浄水を貯留するとともに、前記出口スクラバーから排出された前記洗浄水を回収する水槽を備える排ガス処理装置の出口スクラバーに、洗浄される前の前記排ガスを冷却する冷却器を設けることにより、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】
半導体，液晶製造装置からの排ガスを効率よく処理することができる。
【解決手段】
ＣＶＤ装置５０からの排出ガスをモノシラン除去工程５１に導入して排出ガス中から少なくともモノシランを除去し、エッチング装置５２からの排出ガスをＰＦＣ分解工程５３に導入して排出ガス中から少なくともＰＦＣを除去した後に、少なくともモノシラン除去工程５１及びＰＦＣ分解工程６３からの排出ガスを混合し、その混合ガスをＮＯｘ除去工程５４に導入して排出ガス中から少なくともＮＯｘを除去する。 （もっと読む）

【課題】半導体または液晶製造プロセスで使用後のパーフルオロカーボンガスの再利用を可能とするパーフルオロカーボンガスの精製方法を提供する。
【解決手段】パーフルオロカーボンガスに対して不純分として窒素ガスを含有する処理対象ガスから、上記不純分である窒素ガスをゼオライト４Ａに吸着させることにより、パーフルオロカーボンガスを分離精製することにより、不純分である窒素を効果的に吸着除去し、９９．９９９％以上の高純度のパーフルオロカーボンガスを分離精製することが可能となった。これにより、例えば半導体または液晶製造プロセスなどから排出されたパーフルオロカーボンガスの高純度化による有効な再利用が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣおよびＣＯを含む化合物ガスの処理を室温で簡便に行ない、無害で安全なガスとして排出するようにする。
【解決手段】ガス導入管１４および排気管１５を備えた容器１１の内部に、ＰＦＣ吸着剤１２およびＣＯ酸化触媒１３が充填されている。ガス導入管１４から容器１１内に導入された、ＰＦＣおよびＣＯを含む排ガスは、ＰＦＣ吸着剤１２およびＣＯ酸化触媒１３を流通することによって、排気管１５を通じて無害で安全なガスとして容器１１から排出される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ガス中の不純物であるＣｌＯ_３Ｆを除去できる安価な方法を提供することである。
【解決手段】 ＣｌＯ_３Ｆを不純物として含むガスに、活性アルミナを反応させることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ_３Ｆを安価に除去することが可能となる。または、予め０．５〜１５質量％の質量減少を起こすまで脱水処理を施した活性アルミナを、ＣｌＯ_３Ｆを不純物として含むガスに反応させることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ_３Ｆを安価に除去することが可能となる。
（もっと読む）

【解決課題】ＰＦＣ含有ガスを低温でも効率よく分解することができ、熱効率に優れたＰＦＣガス処理装置、及び当該ＰＦＣガス処理装置を用いたＰＦＣ分解処理剤の寿命を長くして効率的な処理を可能とする処理方法を提供する。
【解決手段】棒状の内部ヒーター１１と、内部ヒーター１１から所定間隔をおいて、筒状に配された外部ヒーター１２とを具備する装置本体１０からなり、内部ヒーター１１及び外部ヒーター１２との間にＰＦＣ分解処理剤を充填する処理剤配置部１３が形成されている。 （もっと読む）