【解決課題】ＰＦＣ含有ガスを低温でも効率よく分解することができ、熱効率に優れたＰＦＣガス処理装置、及び当該ＰＦＣガス処理装置を用いたＰＦＣ分解処理剤の寿命を長くして効率的な処理を可能とする処理方法を提供する。
【解決手段】棒状の内部ヒーター１１と、内部ヒーター１１から所定間隔をおいて、筒状に配された外部ヒーター１２とを具備する装置本体１０からなり、内部ヒーター１１及び外部ヒーター１２との間にＰＦＣ分解処理剤を充填する処理剤配置部１３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】チャンバを形成する筒状壁が高温腐食する現象や、熱分解時に生成された粉体が上記筒状壁の内面に付着堆積する現象などを好適に抑制することが可能な排ガス処理方法、を提供する。
【解決手段】周囲が筒状壁３によって囲まれている排ガス処理用のチャンバ１内に排ガスを導入し、この排ガスを加熱して分解する熱分解工程を有している排ガス処理方法であって、上記熱分解工程時において、チャンバ１内にバリア形成用の気体を導入させて筒状壁３の内面に沿わせて流れさせることにより、筒状壁３の内面を上記気体の流れによって覆う。 （もっと読む）

【課題】
半導体や液晶製造工場から排出されるフッ素化合物を低ランニングコスト，高分解性能で処理できる方法を提供する。
【解決手段】
フッ素化合物を含む被処理ガスを分解するフッ素化合物含有ガスの処理方法であって、前記被処理ガスより酸性ガスまたは固形物の少なくともいずれかを除去する湿式除去工程と、被処理ガス中のフッ素化合物を触媒で分解するフッ素化合物分解工程とを有し、前記湿式除去前の被処理ガスに、もしくは前記湿式除去された被処理ガスに炭化水素を供給する炭化水素供給工程を有するフッ素化合物含有ガスの処理方法とする。つまり、フッ素化合物を触媒式分解法で処理する際、メタン，エチレンに代表される炭化水素を添加し、同時に処理することで低温活性が向上し、また、炭化水素の燃焼熱を利用することで昇温に必要なエネルギーを削減することができるためランイングコストの低減に繋がる。 （もっと読む）

【課題】 大気に放出される排ガス中のフッ素を除去すること
【解決手段】 燃焼装置から排出される排ガスを熱回収し、熱回収した排ガスを脱硝処理し、脱硝処理した排ガスを湿式の脱硫装置で処理して大気に放出する排ガス処理システムにおいて、脱硫装置６の後流側にアルカリ液を吸収剤としてフッ素を除去するベンチュリスクラバー７を配置することにより、脱硫装置６で除去されなかった排ガス中のＨＦ及びＦ_２ガスをベンチュリスクラバー７で除去することができる。 （もっと読む）

【課題】より広いガス条件でプラズマ放電できるプラズマ生成装置を提供すると共に、ＰＦＣなどの有害成分の除去効率を向上させるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】ガス導入口１ａとガス導出口１ｂを有する円筒状反応容器１に螺旋コイル２を巻回し、この螺旋コイルの２箇所に形成した電極５、６に高周波電源３からの高周波電力を印加して筒状反応容器内でプラズマを発生させ、ガス導入口から導入したガス中の有害成分を分解するプラズマ生成装置であって、螺旋コイルの全巻数が、螺旋コイルの２箇所の電極間の巻数よりも多くされる。ガス導入口側の電極の外側に存在するコイルの巻数をＬとし、２つの電極間のコイルの巻数をＭとしたとき、Ｌ／Ｍが０．３以上である。ガス導出口側の電極の外側に存在するコイルの巻数をＮとし、２つの電極間のコイルの巻数をＭとしたとき、Ｎ／Ｍが０．５以上である。 （もっと読む）

【課題】
高濃度ＨＦガスを処理するのにＣａ塩を使用し、効率よく除去するとともに、高純度のＣａＦ₂ を回収し、排水量の少ない過弗化物分解排ガスの処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】
半導体製造装置又は、液晶製造装置，太陽電池製造装置から排出された過弗化物を含む排ガスを過弗化物分解装置１で分解し、分解で生成した高濃度のＨＦガスを第一酸性ガス除去装置２，第二酸性ガス除去装置３で除去を行う。ＨＦガスにはＣａ塩を用い、第二酸性ガス除去装置４で低濃度ＨＦとＣａ塩を反応させ、反応でできた低純度のＣａＦ₂ を含むＣａ塩を第一酸性ガス除去装置２に供給し、高濃度のＨＦガスと反応させることで高純度のＣａＦ₂ を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】電磁波でエネルギーを供給してプラズマを発生させ、プラズマに気体または液体状態の水素または炭化水素燃料を供給して高温のプラズマ火炎を発生させ、これを用いてフッ化ガスを除去するフッ化ガス除去装置および除去方法を提供する。
【解決手段】電磁波を発振するマグネトロン１０と、マグネトロン１０に反射される反射波を吸収する循環器３０と、電磁波の強さを入射波と反射波でモニタリングする方向性結合器４０と、インピーダンスを整合させるスタブチューナー５０と、スタブチューナーから伝送される電磁波が入力される導波管６０と、導波管を通して入力される電磁波及び外部から注入される渦流ガスによってプラズマを生成する放電管７０と、放電管に渦流ガスを供給する渦流ガス供給部８０と、放電管内にプラズマ発生のための初期電子を供給する点火部９０と、放電管内のプラズマに燃料及び廃ガスを供給する燃料・廃ガス供給部１００とを含む。 （もっと読む）

【課題】塩素を含む処理対象ガスを、アルカリ薬剤などを用いることなく確実に無害化できるのはもとより、処理効率が極めて高く、しかも経済性に優れたガス処理方法およびその装置を提供する。
【解決手段】電熱ヒーター18で加熱した反応器16内に塩素を含む処理対象ガスEを導入して熱分解するガス処理方法において、反応器16内に理論空気量或いはそれ以下の空気を混合した低級飽和炭化水素ガスFを導入すると共に、反応器16内を低級飽和炭化水素ガスFの着火点以上の温度に保持して処理対象ガスEを熱分解し、次いで、熱分解により発生した排ガスGを水洗することを特徴とする。かかる構成により、排ガスG中の塩素を塩化水素に転換することができ、これを水洗することによって排ガス中から塩素成分を簡単且つ確実に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】トラップ手段で捕捉した排気物を確実に除去することにより再生を確実に行うことが可能なトラップ装置を用いた処理システムを提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対して処理を行う処理室１０からの排気ガスを排出する排気路２２に設けられ、前記排気ガス中から排気物を捕捉するためのトラップ装置において、前記排気路に介設される筐体４２と、前記筐体内に設けられて前記排気物を捕捉するトラップ手段４８と、前記トラップ手段を加熱するトラップ加熱手段５４と、前記筐体内へ冷媒を導入する冷媒導入手段６０と、前記冷媒を排出するための冷媒排出部６２と、前記トラップ手段で捕捉した前記排出物を除去するために前記トラップ加熱手段により前記トラップ手段を加熱した状態で前記冷媒導入手段より前記冷媒を導入するように制御する制御部８８とを備えたことを特徴とするトラップ装置である。 （もっと読む）

【課題】
半導体製造装置または液晶製造装置が設置されるクリーンルームを小型化できる。
【解決手段】
触媒層１７が設けられて過弗化物を含む排ガスが供給され、前記過弗化物を分解する過弗化物分解装置９と、前記過弗化物分解装置９から排出された前記排ガスに含まれた酸性物質がＣａ塩と反応して生成される第１反応生成物を除去する酸性物除去装置２２とを備えていることを特徴とする過弗化物処理装置。半導体製造装置または液晶製造装置が設置されるクリーンルーム２内にＰＦＣ分解装置９を設置するスペースを確保する必要がなくなり、クリーンルームを小型化できる。 （もっと読む）

【課題】油分洗浄液等から蒸発した排ガスをその中の有害成分を人体に影響のない濃度して浄化した上で大気に放出する。
【解決手段】有害成分を含む排ガスを発生させる排ガス発生槽（１３）と、排ガス発生槽（１３）から排ガスを圧送するための導管（１４）と、導管（１４）に連結されており、排ガス発生槽（１３）から圧送された排ガス中の有害成分を吸着するための活性炭を充填した活性炭槽（１５）と、活性炭によって有害成分が吸着処理された排ガスを大気に排気するための排気手段（１６）とを備えた有害成分含有排ガスの処理装置（１２）であって、その処理装置（１２）を移動可能にするための移動手段（１７）を備えた、移動式排ガス処理装置、並びに有害成分含有排ガスの処理方法。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系ガスを高効率かつ選択的に除害できるゼオライトからなる除害剤及びそれを用いたハロゲン系ガスの除害方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３モル比が２．０〜２．３のフォージャサイト型ゼオライト、カチオンとしてアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を少なくとも１種を含有するハロゲン系ガス除害剤を用いる。バインダー含有量が１０％以下の成形体が好ましく、特にバインダーレス剤であることが好ましい。カチオンはＮａ及び／又はＫからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
半導体や液晶製造分野の市場成長に伴い、ＰＦＣ分解装置に流入するＰＦＣ量が増加傾向にある。触媒により多流量のＰＦＣを分解する場合、触媒中の活性点を有効に使用しなければ性能も低く、耐久性能も低くなる。
【解決手段】
触媒層を通過するガスの線速度を大きくすることで触媒の細孔内部にまでガスが拡散し、触媒中の活性点が有効に使われる。そのため、各活性点の反応負荷も小さくなり、ＰＦＣ分解性能、及び触媒の耐久性能を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】窒素を作動ガスとして使用する大気圧プラズマを用いて、窒素酸化物を副生することなく処理対象ガスを熱分解することのできるガス処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマＰおよび大気圧プラズマＰに向けて供給される処理対象ガスＦを囲繞し、その内部にて処理対象ガスＦの熱分解を行う反応器２２を有し、窒素ガスを作動ガスＧとして使用するプラズマ分解機１２に対して、プラズマ分解機１２から排出された処理対象ガスＦと作動ガスＧとを含む排ガスＲに酸素および水分が混入しない状態で、排ガスＲを少なくとも窒素酸化物が生成しない温度まで冷却する冷却部１３を設けることにより、上記課題を解決したガス処理装置１０とすることができる。 （もっと読む）

【課題】安定したガス処理能力と、高いガス処理能力に加え、高速流におけるガス処理能力の低下を防ぐ。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に対し直交する方向に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。これらハニカム構造体４のうち処理対象ガスＧＳの通過方向に対して直交する方向の一端に配置されるハニカム構造体４−１の外側に第１の電極８を配置し、他端に配置されるハニカム構造体４−４の外側に第２の電極９を配置し、第１の電極８と第２の電極９との間に高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】反応管の径を大きくすることにより、排ガスの処理量を増大させるとともに、水膜を必要とせずにプラズマの発生状態を安定化させ、プラズマ長を伸ばすことで除害性能を高めることができる排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】排ガスＧを導入する反応管１と、反応管１の上部側で気中に配設された上部電極２と、反応管１の下部側に配設された下部電極３と、上部電極２と下部電極３の間に電解質溶液Ｄを噴霧する噴霧ノズル４とを備え、上部電極２と下部電極３の間に電解質溶液Ｄを噴霧することにより、電極２、３間に電流の経路を形成して、反応管１内にプラズマＰを発生させる。 （もっと読む）

【課題】 フッ化水素、塩化水素及び五フッ化リンを含む混合ガスから、再利用可能な純度と濃度で、効率良く、安全に塩化水素を分別・回収する塩化水素の回収方法を提供する。
【解決手段】 本発明の塩化水素の回収方法は、フッ化水素、塩化水素及び五フッ化リンを含む混合ガスから、塩化水素を分離して回収する塩化水素の回収方法であって、前記フッ化水素及び五フッ化リンが溶解性を示す第１吸収液に、前記混合ガスを接触させることにより、該第１吸収液に前記フッ化水素及び五フッ化リンを吸収させて塩化水素を分離する第１吸収工程と、前記塩化水素が溶解性を示す第２吸収液に、前記第１吸収工程で分離された塩化水素を接触させ、吸収させることにより、塩酸として回収する第２吸収工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定したガス処理能力と高いガス処理能力を得る。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。ハニカム構造体４−１と４−２を第１のハニカム構造体群とし、ハニカム構造体４−１の外側に第１の電極として電極８を、ハニカム構造体４−２の外側に第２の電極として電極９を配置する。ハニカム構造体４−３と４−４を第２のハニカム構造体群とし、ハニカム構造体４−３の外側に第１の電極として電極９を、ハニカム構造体４−４の外側に第２の電極として電極１０を配置する。電極８と９との間、電極９と１０との間に異なる値の高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】安定したガス処理能力と高いガス処理能力を得る。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。このハニカム構造体４のうち最も上流に配置されるハニカム構造体４−１の上流側に上流側電極８を配置し、最も下流に配置されるハニカム構造体４−４の下流側に下流側電極９を配置し、上流側電極８と下流側電極９との間に高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

燃焼性ガス、例えば水素又は炭化水素ガスを含有するガス流を処理するための装置が記載される。該ガス流を液体環状ポンプ18に運び、そこにガス状酸化剤及び水を供給する。該水及びガス流をポンプ18から排出し、排出したガス流を続いて該液体から分離し、燃焼性ガス及び酸化剤を熱分解するための熱分解装置42に運ぶ。該ガス流内の全ての全ての粒子及び酸性化学種が水によって液体環状ポンプ内に保持され、熱分解装置42の腐食又は閉塞を抑制する。フィルター又は他の装置40も提供され、熱分解装置42に入る前に水を該ガス流から除去する。 （もっと読む）