【課題】 発熱抵抗体の発熱能力を最大限発揮させることができると共に、リード線の断線や保護管の破損を防止して長時間安定して使用することが可能な電気ヒータを提供する。
【解決手段】 セラミックからなる筒状の保護管１２と、螺旋状に巻回され、保護管１２内に挿入されてなる発熱抵抗体１４と、保護管１２内に流し込まれたキャスタブル１６ａが固化して保護管１２内部を密閉した絶縁層１６とで構成されていることを特徴とする。かかる構成により、発熱抵抗体の絶縁性を確保することができると共に、ヒートショックに起因する保護管の破損を防止することができる。このため、電気ヒータの耐久性を向上させることができる。 （もっと読む）

多結晶シリコンのエッチング処理からの排気ガスを処理する方法が開示され、ガスを処理するために、プラズマ減少装置を使用する。装置は、ガスを受けるガス入口と、ガス出口とを有してなる、ステンレス鋼のガスチャンバを備えている。ガスは、含ハロゲン化合物及び水蒸気を含有するので、チャンバは、チャンバの内部の表面に水が吸着されるのを阻止する温度に加熱され、それにより、ガスチャンバの腐食を阻止する。次に、ガスは、処理のためにガスチャンバに運ばれて、ガスの処理中には、チャンバの温度は、前記温度よりも高温に維持される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理法において、できる限りリアクタ管の腐食及びリアクタ管内の温度を低下させることが可能かつ高効率に処理が可能な、半導体製造装置からの排ガス処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】半導体製造工程における排ガスを、プラズマを発生する高周波放電管に導入し、該高周波放電管用電極に高周波電力を印加することにより前記容器内にプラズマを発生させて半導体プ口セス用排ガスを分解処理する半導体プ口セス用排ガス処理方法において、上記高周波電力をパルス発生器によってパルス変調することを特徴とする半導体プ口セス用排ガス処理方法及び処理装置を提供する。 （もっと読む）

マイクロ波プラズマ反応装置（１０）であって、反応チャンバと、反応チャンバの内部に配置されたマイクロ波共鳴キャビティ（１４）と、マイクロ波放射を共鳴キャビティに導くための導波管（１６）であって、収束性のテーパ部分を有してなる導波管と、共鳴キャビティの内部にプラズマを開始及び持続させるために、マイクロ波放射から、共鳴キャビティの内部に電磁定在波を形成するための手段と、ガス入口及びガス出口を有してなる共鳴キャビティと、ガス入口からガス出口へ流れるガスと共に、共鳴キャビティから運ばれたプラズマを収容すべくガス出口から延びてなる導管手段と、を備えていることを特徴とする反応装置。 （もっと読む）

【課題】 充填筒に充填したガス処理剤を有効に使用しつつ確実に排ガスを処理することができ、充填筒の交換の際にも排ガスを系外に放出することなく充填筒を安全に交換することができる排ガス処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】 ガス処理剤をそれぞれ充填した複数の充填筒１０，２０に排ガスを導入し、該排ガス中の有害成分を除去処理する排ガス処理方法において、前記複数の充填筒の内の一つの充填筒１０に前記排ガスを導入して前記有害成分の除去処理を行い、該充填筒１０から導出した処理ガスを検出手段３０に導入して前記有害成分の有無を検出し、該検出手段から導出される処理ガスを他の充填筒２０を経由して排出するとともに、該検出手段で有害成分を検出したときに、排ガスの導入を他の充填筒２０に切り換えた後、該一つの充填筒１０内の有害成分をパージしてから新たな充填筒に交換する。 （もっと読む）

【課題】 過弗化物を扱う製造プロセス装置から排出される排ガス中の過弗化物を分解処理するにあたって、保守点検時等における排ガス処理能力を維持して、信頼性を向上する。
【解決手段】 処理対象の過弗化物を含む排ガスを処理する１台又は複数台の過弗化物分解装置１，２に対して補助用の過弗化物分解装置３を設け、過弗化物分解装置の少なくとも１台の処理機能が低下したとき、その処理機能が低下した過弗化物分解装置に導入される排ガスの少なくとも一部を補助用の過弗化物分解装置により処理することにより、保守点検時等における排ガス処理能力を維持して、信頼性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ分解反応に不可欠な酸素と水素との供給が簡便に行え、しかもプラズマ分解反応が安定して十分に進行し、ＰＦＣを効率よく分解、除去できるようにする。
【解決手段】ＰＦＣを含んだ排ガスを前処理スクラバー１に導入し散水ノズル４から散水して排ガスに水分を添加し、この排ガスをプラズマ処理部７の反応室９においてプラズマ分解反応する。水分の添加量をプラズマ分解反応に必要な量とするため、散水の温度を調節して、十分な量の水分が添加できるようにする。散水用の水として、水冷ジャケット９２からの冷却水を利用することが好ましい。 （もっと読む）

本発明は実質的に大気圧でガス流出物をプラズマ処理する方法に関し、処理される流出物をプラズマトーチに注入し、プラズマの上流または下流で水蒸気を注入することを含む。 （もっと読む）

【課題】複数成分の特定ガスを含有する被処理ガスから各特定ガスを安価で効率的に分離することができるガス分離方法及びガス分離装置を提供する。
【解決手段】複数成分の特定ガスを含有する被処理ガスを充填材が充填されたカラムに流通させて各特定ガスを分離し、複数のカラムを順次利用して各特定ガスを連続的に分離するガス分離方法及びガス分離装置の分離工程において、被処理ガスをカラムに所定時間供給した後、被処理ガス及びキャリアガスのカラムへの供給を一時的に停止し、被処理ガスをカラム内に一時的に滞留させることにより、各特定ガスを安価で効率的に分離することができる。 （もっと読む）

【課題】複数成分の特定ガスを含有する被処理ガスから特定ガスを安価で効率的に分離することができるガス分離方法及びガス分離装置を提供する。
【解決手段】複数成分の特定ガスを含有する被処理ガスを充填材が充填されたカラムに流通させて各特定ガスを分離し、複数のカラムを順次利用して各特定ガスを連続的に分離するガス分離方法及びガス分離装置において、被処理ガスの各カラムへの供給を各カラムから未分離混合ガスが排出を始めるまでに停止し、かつ、被処理ガスの各カラムへの供給時間を、未分離混合ガスの各カラムからの排出時間以上とすることにより、各特定ガスを安価で効率的に分離することができる。 （もっと読む）

第１の態様では、第１除害装置が提供される。第１除害装置は、半導体デバイス製造チャンバからの流出物の流れを受容するように適合された酸化ユニット（１０８）と、酸化ユニットからの流出物の流れを受容するように適合された第1水スクラバユニット（１１０）と、第1水スクラバユニットからの流出物の流れを受容するように適合された触媒ユニット（１１２）とを含んでいる。これ以外にも様々な態様が提供される。 （もっと読む）

【課題】 ＰＦＣの再結合を防止して、高いＰＦＣ除去率を達成できると共に、励起部下段での配管詰りや機器故障などのトラブルを防止した排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体製造装置１から排出される排ガスに含まれる有害ガス成分を除去する装置であって、有害ガス成分の一部を除去する反応除去部Ａ４１と、有害ガス成分の残部を活性化させる励起部４２と、励起部４２で活性化された有害ガス成分を除去する反応除去部Ｂ４３と、半導体製造装置１及び励起部４２を減圧するための排気ポンプ３，４４をそれぞれ備えた排ガス処理装置１０を用いる。 （もっと読む）

【課題】 ＰＦＣガス等を分解する能力が高い除害装置を提供すること。
【解決手段】 プラズマ式ガス除害装置１０は、プラズマ処理装置２０と、プラズマ処理装置２０に反応ガスを導入するガス導入口１１と、反応ガスをプラズマ処理して生成した除害ガスをプラズマ処理装置２０からスクラバ４０へ排出するガス排出口１３とを備える。プラズマ処理装置２０では、誘電体チューブ２３の内部空間Ｓに表面波励起プラズマを生成させ、常圧下でプラズマ除害処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 各種研究機関から排出される実験廃液を一元的に処理する。
【解決手段】 試験研究機関から排出された有害な実験廃液を無害化処理する。実験廃液は、有機系廃液と、無機系廃液とに分別されたものであり、有機系廃液は、一括噴霧燃焼方式により熱分解し、燃焼ガスを洗浄した洗煙水に含まれるダイオキシン類を除去し、さらに洗煙水のフェライト化処理を行う。無機系廃液については、無機系廃液に固有の前処理系処理を施した後、フェライト化処理を行う。フェライト化処理は、前記燃焼ガスを洗浄した洗煙水及び無機系廃液中に含まれる重金属イオンをマグネタイトの沈降結晶格子中に取り組んで、洗煙水及び無機廃液中から除去する処理である。 （もっと読む）

【課題】
珪素化合物とフッ素化合物を含むガスをフッ素化合物分解触媒により、フッ素化合物を高い分解率で除去する。
【解決手段】
フッ素化合物と珪素化合物を含む被処理ガスを水または水溶液で湿式処理して珪素化合物の大部分を溶解除去する。一部の珪素化合物はミスト状で被処理ガスに同伴されて排出されるので、フッ素化合物分解触媒の前段で除去する。除去方法としては塩基性酸化物による吸収除去或いは活性アルミナを主成分とする捕捉材による加水分解除去がある。珪素化合物除去後の被処理ガスをフッ素化合物分解触媒に通気し、フッ素化合物を分解する。珪素化合物による触媒被毒を抑制でき、フッ素化合物の分解性能が維持できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明によれば、分解により弗化水素のような高腐食性を有する酸性ガスを生成する化合物量を測定し、酸性ガスを除去するための酸性ガス除去剤を酸性ガス処理装置に効率良く供給し、ランニングコストの低減を実現するシステムと方法を提供することができる。
【解決手段】
触媒式ＰＦＣ分解装置上流部にガス分析計を設置し、ＰＦＣ分解装置に流入するPFCs量を測定することにより、ＰＦＣ分解装置出口の高腐食性を有する弗化水素ガスを含む排ガス中の酸性ガス量を算出し、その算出結果から、効率良く酸性ガス除去剤を供給する排ガス処理システム。
余分な酸性ガス除去剤の使用，弗化水素除去により生成する廃棄物量を抑えることができ、ランニングコストの低減が可能である。 （もっと読む）

【課題】半導体プロセスチャンバから排出されるパーフルオロ化合物ガスを処理するための大気圧プラズマ除害装置を長期にわたって安定に駆動させること。
【解決手段】第１の半導体プロセスと第２の半導体プロセスが行われるプロセスチャンバ（１１）からの排ガス排出ライン系統を、第１の半導体プロセスからの排ガスを通過させるライン（Ｌ２）と第２の半導体プロセスからの排ガスを通過させるライン（Ｌ３）とに分け、第２の半導体プロセスからの排ガスライン（Ｌ３）に大気圧プラズマ除害装置（１５）を設け、その上流に、主として第２の半導体プロセスからの排ガス中に残留する第１の半導体プロセスからの排ガスを処理する乾式処理装置（１６）を設ける。 （もっと読む）

【課題】 ＰＦＣｓガスなどの分解処理により生成した高温で高濃度のフッ化水素などの酸性ガスを含む排ガスを処理する際に使用する水量を削減できる過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置を提供する。
【解決手段】 処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器５００と、冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバ６００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる過フッ化物処理装置。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣガス等の難分解性フロンガスを分解温度を必要以上高くすることなく、分解率を向上させて分解する。
【解決手段】生石灰を含む物質の共存下で、難分解性フロンガスをそれよりも低温で分解するフロンガスまたはＳＦ_６ガスと共に約１０００℃〜約１５００℃に加熱して分解を行う。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波プラズマを信頼性高く起動できるようにすること。
【解決手段】半導体製造プロセスツールからの排ガス流を処理するための装置が開示されている。この装置は不活性のイオン化可能なガスからグロー放電を発生させるためのプラズマトーチを含み、ガス流はプラズマを点弧するためのガス放電へ送られる。プラズマを持続させるよう、排ガス流に電磁波ソースによって電磁波が印加される。この装置は特に排ガス流内の過フッ素化化合物およびハイドロフルオロカーボン化合物を処理するのに特に適す。
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