【課題】
ＰＦＣ分解ガスの洗浄後のガスを排気する排気ラインの腐食を抑制する。
【解決手段】
ＰＦＣの分解ガスを洗浄する洗浄塔の後段にミスト分離装置を設ける。洗浄ガス中からミストを除去することにより、排気ラインの腐食を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】被処理ガス中に微量含有するフッ素化合物を効率良く除去する。
【解決手段】被処理ガスに微量含まれるフッ素化合物を吸着材によって濃縮し、吸着材の吸着能力が飽和に達した時点で脱離させ、後段に設置したフッ素化合物処理装置でフッ素化合物を処理する。吸着塔の下流部にはフッ素化合物の検知装置を設置し、吸着材で吸着しきれずに破過したフッ素化合物濃度をモニタリングし、フッ素化合物の破過が確認された後にフッ素化合物処理装置及びフッ素化合物を脱離させるために流入するガスを加熱するガス加熱装置の加熱を開始する。加熱時間を制御することによって過剰なランニングコストを削減できる。また、ガス加熱装置は急速加熱することを特徴とし、吸着したフッ素化合物を急速加熱により迅速に脱離させることで吸着・脱離のサイクルを加速し、充填吸着材量を少なくできるため、装置のコンパクト化が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 含フッ素乳化剤を効率よく回収する方法を提供する。
【解決手段】 Ｒ^ｆＯ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍＣＦ_２ＣＯＯＡ（式中、Ｒ^ｆは炭素原子数２〜４のパーフルオロアルキル基、Ａは水素原子、アルカリ金属またはＮＨ_４、ｍは１〜３の整数である。）で表される含フッ素乳化剤の濃度が１質量ｐｐｍ〜１質量％の水性液（Ａ）を、圧力１００ｋＰａ以下、温度１００℃以下で減圧濃縮して得られる、該含フッ素乳化剤の濃度が高濃度化された水性液（Ｂ）から該含フッ素乳化剤を回収する、または該含フッ素乳化剤の濃度が１質量ｐｐｍ〜５質量％の水性液（Ｃ）を、陰イオン交換樹脂に接触させて該含フッ素乳化剤を吸着させ、次にアルカリ性水溶液で該含フッ素乳化剤を脱着させて得られる、該含フッ素乳化剤の濃度が高濃度化された水性液（Ｄ）から該含フッ素乳化剤を回収する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与するフッ素系溶剤の回収方法及び回収システムを提供すること。
【解決手段】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収方法であって、揮発した前記フッ素系溶剤を誘導路２０により、回収槽３０内のフッ素系捕捉溶剤３１内に移送する移送工程と、揮発した前記フッ素系溶剤を前記フッ素系捕捉溶剤３１に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収工程と、を含むフッ素系溶剤の回収方法である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与するフッ素系溶剤の回収に用いられるフッ素系捕捉溶剤を提供すること。
【解決手段】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収するためのフッ素系捕捉溶剤であって、前記フッ素系溶剤に対して相溶性を有し、その沸点が前記フッ素系溶剤の沸点と同等あるいはそれ以上であるフッ素系捕捉溶剤である。例えば、フルオロアルキルアミン、炭素原子数４〜１０のフッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物の中から選ばれる少なくとも１種であるフッ素系捕捉溶剤を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣガスを他の排ガスから分離し、分解処理を少ないエネルギー量で行なうことができるアルミ精錬ＰＦＣガスの分解処理方法および装置を提供する。
【解決手段】アルミ精錬ＰＦＣガスの分解処理方法は、アルミ精錬過程より発生する排ガスよりＰＦＣガスをＰＦＣガス回収装置２０で分離し、分離したＰＦＣガスをＰＦＣガス分解装置３０で分解処理する。ＰＦＣガスを分離する前処理として、排ガス中に存在する固形分、粉塵および／または酸性ガスを排ガス処理装置１０で除去することが好ましい。ＰＦＣガスの分離は、例えば選択吸着法によりＰＦＣガスを分離して行なわれ、ＰＦＣガスの分解処理は、例えば触媒方式により行われる。 （もっと読む）

【課題】地球温暖化対策に配慮しつつ、優れた絶縁性能を確保したガス絶縁電気機器を提供する。
【解決手段】ガス絶縁電気機器は、ガス区分用スペーサ２によりガス区画された母線側断路器１ａ、計器用変成器１ｂ、遮断器１ｃ、線路側断路器１ｄ及びケーブルヘッド１ｅからなる。各構成ユニット１ａ〜１ｅからは、内部の絶縁ガスを流通させる配管３を引き出し、この配管３をバルブ４及びポンプ５を介して絶縁ガス保守管理部１０に接続する。絶縁ガス保守管理部１０は、分解ガス濃度監視部１２、分解ガス吸着部１１及び絶縁ガス濃度監視部１３から構成され、配管３はこの絶縁ガス保守管理部１０の各部分へと接続した後、バルブ４を介して各構成ユニット１ａ〜１ｅへと再接続する。絶縁ガス中に分解ガスが含まれていた場合、分解ガス吸着部１１により分解ガスは除去できるため、運転中のガス絶縁電気機器であっても高電圧絶縁性能の低下を回復できる。 （もっと読む）

【課題】有機フッ素化合物を効果的に微生物分解できる排水処理方法および排水処理装置を提供する。
【解決手段】バブル発生槽３において、生物処理水と急速濾過器２で濾過した有機フッ素化合物含有排水とを混合した被処理水にマイクロナノバブル発生装置１０によりマイクロナノバブルを導入して微生物を活性化させ、微生物を活性化した被処理水を活性炭が充填された活性炭吸着塔４に供給して活性炭に有機物を吸着させるとともに、活性炭に吸着された有機物をマイクロナノバブルで活性化した微生物により分解する。 （もっと読む）

【課題】有機フッ素化合物を効果的に微生物分解できる排水処理方法および排水処理装置を提供する。
【解決手段】貯留する被処理水にマイクロナノバブルを導入するマイクロナノバブル発生装置５を備えるバブル発生槽１と、活性炭が充填され、バブル発生槽１に貯留した被処理水が通水される活性炭吸着塔２と、活性炭吸着塔２から流出する被処理水を一旦貯留してから流出させる中継槽３と、洗浄水を貯留してマイクロナノバブルを導入する水槽部１６、および、水槽部１６の上方に設けられ、排ガスが挿通され、排ガスに洗浄水を散水する散水部１７からなる排ガス処理塔４とを有する排水処理装置において、活性炭吸着塔２から流出する被処理水の一部をバブル発生槽１に環流させ、バブル発生槽１および中継槽３において被処理水から放出される排ガスを、排ガス処理塔４の散水部１７に導入する。 （もっと読む）

【課題】除害塔に充填した除害剤を無駄なく使用することができ、除害剤の破過が迅速に検知可能であって、かつ除害処理の連続的な実施が可能であるとともに、安価で装置の小型化を図ることのできる有害ガスの除害方法およびこれを実現する除害装置を提供する。
【解決手段】有害ガスとの接触によって変色する検知剤３０が装填される検知剤容器２３と、検知剤３０の前記変色を観察するための覗窓２２とを備える検知窓２０が設けられ、前記有害ガスを吸着して除害する除害剤４１が充填される少なくとも二式以上の除害塔４０ａ，４０ｂが直列配置され、導入された有害ガスを前記二式以上の除害塔を通過させて除害する除害装置１０であって、前記検知窓２０が、それぞれの除害塔に対し、前記通過する有害ガスの流れ方向の上流側に設けられていることを特徴とする除害装置１０。 （もっと読む）

【課題】有機物(例えば有機フッ素化合物等の有機化合物)を効率よく分解できる排水処理方法および排水処理システムを提供する。
【解決手段】この排水処理システムによれば、処理水槽１において、マイクロナノバブルで活性化した微生物が排水が含有する有機化合物(例えば有機フッ素化合物等)を分解する。この有機化合物の分解で生じた排ガスは、排ガス処理装置１５に導入され、マイクロナノバブルを含有する洗浄水で処理される。 （もっと読む）

廃棄物を熱分解により処理する装置と方法において、処理ごみは、再利用可能物質を熱分解用チャンバ（２４）内で捕捉するために、火格子（１８）を通して洗い流される。熱分解は、４００〜７００℃の温度で実施され、また、オフガスは、水路に放流するためにスクラバ（１３）の溶媒に溶解される。水は、処理物質を洗い流すとともに、チャンバを洗浄にするために、配管を通り過熱蒸気としてチャンバに導入される。再利用可能ごみは、再利用不可ごみを熱分解し、処理した再利用不可ごみを、液体排出口（８）を介して洗い流すことにより再利用不可ごみから分離される。装置は、モジュール式の独立型ユニットとして作製され、電源、給水口及び下水システム（１６）に接続するためのプラグを有し、また、容量が０．０１〜０．５ｍ^３の範囲のチャンバを備える。
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【課題】半導体装置の製造設備から排出される排ガスに含まれる有害ガス成分を高効率で反応除去するカルシウム化合物の特徴を生かしたまま、カルシウム化合物下流側でのトラブルを生じない排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造設備１から排出される排ガスに含まれる有害ガス成分を除去する装置において、多孔板３４および空隙３５を挟んで、ガス流れ方向の上流側から順に、水分含有量が５ｗｔ％以上の酸化カルシウムを充填した充填層３１１と、水分含有量が１ｗｔ％以下の酸化カルシウムを充填した充填層３１２を有する反応処理部３１を用いる。 （もっと読む）

【課題】フッ化水素による水冷室の腐食を防止できる除害装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスを含む被処理ガスＧを、燃焼分解部２にて燃焼分解する。燃焼分解した被処理ガスＧに水シャワー36から水Ｗを噴射して冷却する金属製の水冷室３の内面を、ＥＴＦＥ43によりライニングする。ＰＦＣガスの燃焼分解により発生したフッ素と水冷室３にて水シャワー36から噴射した水Ｗとが反応してフッ化水素が生成しても、フッ化水素による水冷室３の内面の腐食を防止できる。 （もっと読む）

本発明は、反応器から流出する流出物を破壊する方法であって、第１の化学種を生成し、次いで、第１の化学種は、第２の気体、液体或いは固体化学種に、これら第２の化学種の乾式或いは湿式精製手段との相互作用以前に、変換されることを目的として、前記流出物は、フッ素とＰＦＣ若しくはＨＦＣタイプの分子の他の元素との間の少なくとも１部の結合を破壊することのできる、プラズマ手段へ向けて、少なくとも１つのポンプにより、移送されるものに関する。本発明によれば、生成される第１の化学種と反応することを目的として、少なくとも１つの還元剤が、プラズマの上流及び/又は下流であるが精製手段の上流で投入される。
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【課題】難分解物質であるフロンの分解処理と同時にアスベスト及び／又はアスベスト含有物質を分解することで、フロン分解のみならずアスベストの分解処理を高効率，低コストで実現可能なアスベストの分解処理方法と装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被分解処理物１０としてのアスベスト及び／又はアスベスト含有物質を所定の温度に加熱された処理炉１に投入して、該処理炉１内にフロンガスと過熱蒸気を所定の反応時間通過させることにより、フロンとともに被分解処理物１０を分解処理するようにしたアスベストの分解処理方法とその装置を基本手段としている。上記処理炉１から排出されるガスを排ガス洗浄器７に導いて洗浄液で洗浄してからフィルタ８を通してブロワ９で吸引して系外に放散する。前記処理炉１は７００℃〜８００℃の温度範囲で加熱する。 （もっと読む）

【課題】フッ素含有化合物およびCOを同時に且つ効率的に処理することができ、ランニングコストが廉価で、装置材料に対する負荷が低く装置コストを低減でき、有害ガスの排出のない排ガスの処理方法を提供する。
【解決手段】フッ素含有化合物及びCOを含む排ガスの処理方法において、前記排ガス中に含まれる粉体成分または水溶性成分または加水分解性成分を除去する前処理と、前処理された排ガスはミストセパレータ２６を通過し、ミストセパレータ２６を通過した排ガスを加熱酸化分解する加熱酸化分解処理と、加熱酸化分解処理後の酸性ガスを除去し、処理済の排ガスを無害化する後処理とを行う。 （もっと読む）

本方法は、ガス流を処理するための減少装置の効率制御のために記述される、その中でガス流の一部は、ガス流からのペルフルオロ種の除去のためのプラズマ減少装置から分流され、及び真空ポンプのためのパージガスとして減少装置から上流のガス流に戻される。これにより減少装置のエネルギー要求及びパージガスを補うためにガス流に加えられる不活性ガスの量、の両方とも減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置等のガス使用設備から排出される排ガス中のハロゲン含有化合物などの被除去化合物をプラズマ処理などの処理によって除去する際に、排ガス中に含まれる被除去化合物の種類、濃度などが変動しても、排ガス中に含まれるハロゲン含有化合物などの被除去化合物を完全に除去できるようにする。
【解決手段】ガス使用設備１にガス供給装置２から供給されるガスの種類、流量および供給時間が入力され、これらパラメータに基づいて、排ガスに添加する添加ガスの種類、流量および添加時間とプラズマ処理における印加電力とを算出する演算処理部３５と、この演算処理部３５からの指示信号に基づいて前記添加ガスの種類、流量および添加時間を制御して添加する添加ガス供給部３３と、前記演算処理部３５からの指示信号に基づいて印加電力を制御して印加する電源部３４３を備えた排ガスの処理装置。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程またはＬＣＤ製造工程などから発生する排ガスに含まれた難分解性過フッ化化合物などを８００℃の以下で除去することができるようにし、触媒の充填量に応じて大容量及び／または高濃度の過フッ化化合物を含有した排ガスを処理することができる、半導体製造工程から発生する排ガスの処理装置及び方法の提供。
【解決手段】本発明の排ガス処理装置は、排ガスが流入される排ガス流入口と、前記排ガス流入口に連設され、空気を供給する空気注入口と、前記排ガス流入口に連設され、排ガス流入口を介して流入された排ガスを吸着処理する吸着層が備えられた吸着反応部と、前記吸着反応部に連設され、前記吸着反応部から排出されて流入された排ガスを触媒処理する触媒層が備えられた触媒反応部と、前記触媒反応部に流入される排ガスの移動経路に連設され、水を供給する水注入口とを含む。 （もっと読む）