【課題】 パーフルオロコンパウンド（ＰＦＣ）ガスを、シリコンやタングステンのクリーニングまたはエッチングに使用したときに排出される、ＰＦＣ排出ガスの除去において、除去剤の交換頻度を少なくし、更に消費電力量を低減できる乾式除去装置を提供する。
【解決手段】 ＰＦＣ排ガスを処理する、除去剤が充填されている除去筒を具備する乾式除去装置において、該排ガスを導入する導入口と処理されたガスを排出する排出口を有する、フッ化物ガスを除去するために水酸化カルシウムを主成分とする除去剤が充填されている前処理筒と、該排出口から排出されるガスを導入する導入口と処理されたガスを排出する排出口を有する、ＰＦＣガスを除去するためにアルカリ土類金属化合物を主成分とする除去剤が充填され且つ加熱手段を有する除去筒と、前処理筒の排出口からのガスを除去筒の導入口に導入する経路を具備することを特徴とする、乾式除去装置。 （もっと読む）

【課題】発明は、ディスプレイ又は半導体の製造工程中に低圧工程チャンバで発生する汚染物質を除去するプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】本発明に係る汚染物質除去用プラズマ反応器２１０は、互いに距離をおいて位置する第１接地電極２１及び第２接地電極２２と、第１接地電極２１と第２接地電極２２との間に固定される誘電体３０と、第１接地電極２１及び第２接地電極２２と距離をおいて誘電体３０の外面に位置して交流電源部４０と連結し、これから駆動電圧の印加を受ける少なくとも１つの駆動電極５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】排ガス処理装置全体の消費電力を低減することができる排ガス処理方法及び排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】剤充填筒１２の外壁面温度を測定する外壁面温度測定手段，反応除去剤の温度を測定する反応除去剤温度測定手段の少なくともいずれか一方の温度測定手段を剤充填筒のガス流れ方向の３箇所以上に設ける。剤充填筒１２の外壁面を加熱する外壁面加熱手段，反応除去剤を加熱する反応除去剤加熱手段の少なくともいずれか一方の加熱手段を剤充填筒１２のガス流れ方向の３箇所以上に設ける。各温度測定手段にて測定した温度に基づいて剤充填筒内の反応帯の位置を検知し、該反応帯の位置に基づいて各加熱手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】吸着剤の発火を抑制し、ハロゲン系ガスの処理能力が高く、使用済み吸着剤の臭気及び固形廃棄物の発生を低減した、ハロゲン系ガスの除去方法を提供する。
【解決手段】一次粒子の平均粒子径１０〜５００μｍの炭酸水素塩を造粒し、炭酸水素塩（ただし炭酸水素ナトリウムを除く）を７０質量％以上含有する得られた造粒物を、温度５０℃以上かつ８０℃未満において、前記ハロゲン系ガスに接触させて除去する。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣｓ分解ガスから乾式除害により高純度のＣaＦ_２を安定的に回収することのできるフッ素回収方法およびその装置を提供する。
【解決手段】カルシウム塩化合物からなる第１フッ素回収薬剤と、ナトリウム塩化合物からなる第２フッ素回収薬剤とに分解生成ガスを直列に通過させて反応させ、両薬剤の重量変化を測定検出し、その合計重量変化の変曲点を検出した時点を反応終了時期として、分解生成ガスの供給を停止するとともに、フッ素回収薬剤からフッ素成分を回収する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、フッ化ヨウ素を効率的に除害できる方法を提供することである。
【解決手段】アルカリ金属酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属水酸化物、またはアルカリ土類金属水酸化物を合計で５質量％以上１００質量％以下含有する反応剤を０℃以上５４０℃以下の温度で、一般式：ＩＦｘで表されるフッ化ヨウ素（ただし、ｘは１、３、５、７のいずれか一つを示す。）を１０ｖｏｌ％以下の濃度で含有するガスと接触させて反応させることにより、ヨウ素成分およびフッ素成分を該反応剤に固定することを特徴とするフッ化ヨウ素の除害方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】スケールアップした実機でも失活せずにＰＦＣガスを効率よく分解することができ、耐久性に優れた排ガスの処理方法と装置を提供する。
【解決手段】難分解性のパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解し、分解ガス４をＡｌ（ＯＨ）_３とＣａ（ＯＨ）_２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤７（パーフルオロ化合物処理剤）を充填した反応槽５に通したものであり、ＰＦＣ処理剤は、平均粒子径（メディアン径）５５μｍ以上１６０μｍ以下のＡｌ（ＯＨ）_３と、Ｃａ（ＯＨ）_２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を成形して乾燥し、４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成して得ることができ、また、反応槽は、５００℃以上に加熱されるのがよい。 （もっと読む）

【課題】 珪素やタングステンのクリーニングやエッチングにおいて使用され排出されるガス中のハロゲンガスの除去において、単位質量当たりの処理量を大きくする除去剤を提供する。
【解決手段】 ハロゲンガスの除去剤において、水酸化カルシウムを主成分とする固体アルカリと、珪素が含有されていることを特徴とするハロゲンガスの除去剤を提供する。または、含有される珪素の表面に銅が添着されていることを特徴とするハロゲンガスの除去剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】エネルギの消費量を著しく増大させたり、処理の絶対量を低下させることなく、簡易な方法及び構造で、プラズマによって行う排ガスの処理効率を向上することができるようにした排ガス処理装置における磁場によるプラズマの制御方法及びそれを用いた排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】反応管１内に導入した排ガスを、反応管１内に発生させたプラズマにより分解し処理する排ガス処理装置において、反応管１内に磁場を発生させることにより、反応管１内に発生したプラズマの状態を制御する。 （もっと読む）

【課題】大容量の高電圧電源を用いることなく、高いガス処理能力を得る。
【解決手段】高電圧印加手段２０を設ける。ハニカム構造体４の第１の電極８を高電圧印加手段２０の正電圧供給端子Ｔ１に接続する。ハニカム構造体４の第２の電極９を高電圧印加手段２０の負電圧供給端子Ｔ２に接続する。制御部ＣＮＴよりスイッチング用集積回路ＩＣ１，ＩＣ２に対して駆動パルスＰＳ１，ＰＳ２を出力し、第１の電極８に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧＋Ｖ１を、第２の電極９に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−Ｖ２を、交互に切り換えて印加する。この際、駆動パルスＰＳ１のオンタイミングに対して駆動パルスＰＳ２のオンタイミングをＴＣ時間遅延させることにより、この遅延時間ＴＣの間、第１の電極８と第２の電極９との間に、正電圧＋Ｖ１と負電圧−Ｖ２との差電圧Ｖ１＋Ｖ２（高電圧）を印加させる。 （もっと読む）

加工システム内で廃物を処理する方法及び装置を開示する。いくつかの実施形態では、廃物を処理するためのシステムが、加工容量を有するプロセスチャンバと、プロセスチャンバに結合されて加工容量から廃物を除去する排出管と、排出管に結合され、排出管に反応種を注入して廃物を処理する反応種生成器とを含み、反応種生成器が、一重項水素、水素イオン又は水素ラジカルのうちの少なくとも１つを含む反応種を生成する。いくつかの実施形態では、廃物を処理する方法が、加工システムの加工容量からの廃物を、加工容量に流体結合した排出管を通じて流すステップと、排出管内の廃物を、一重項水素、水素イオン又は水素ラジカルのうちの少なくとも１つを含む反応種で処理するステップと、処理した廃物を除害システムに流すステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】排ガスの有する熱を有効利用する排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供する。
【解決手段】排ガス処理装置１０ａは、被処理ガスを処理する第１の処理剤５１が充填された第１の処理槽１１と、２重管構造の処理槽であって、内側に配置された内筒２２と外側に配置された外筒２３で第１の空間ａが形成され、内筒２２の内側に第２の空間ｂが形成され、内筒２２は第１の空間ａと第２の空間ｂとの間で熱交換する熱交換器を構成し、第１の空間ａと第２の空間ｂのうち一方に第１の処理剤５１とは異なる第２の処理剤５２が充填された第２の処理槽２１とを備える。さらに、第１の空間ａと第２の空間ｂのうち他方を通過した排ガスを第１の処理槽１１に送る第１の配管４２とを備える。また、第１の処理槽１１は排ガス排出口１２を有し、排ガス排出口１２は第２の処理剤５２が充填された空間と連通するように該空間に接続される。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体製造装置から排出される排ガスを処理する装置や工程を簡略化する。
【解決手段】排ガス処理装置１０は、複数の半導体製造装置２０から排出される排ガスを処理する排ガス処理装置１０であって、複数の半導体製造装置２０から排出されるそれぞれの排ガスを集めて混合し収容するガス収容部４０と、ガス収容部４０で混合された混合ガスを希釈ガスで希釈する希釈部５０と、混合ガスを除害する除害部５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】集中配管接続方式の構造を生かして、排ガス処理装置の処理剤の処理能力を可能な限り使い切ることができるようにする。
【解決手段】処理槽４０をそれぞれ備えた複数の排ガス処理装置１４ａ〜１４ｄと、複数の排ガス処理装置に供給される排ガスが流入する共通入口ダクト３０と、排ガス処理装置で処理された処理済ガスを排出する出口ダクト３２と、各排ガス処理装置の運転条件を制御する集中制御部５６を備え、各排ガス処理装置の下流にそれぞれ設置されて各排ガス処理装置の排ガス処理能力を検知する手段４２と、各排ガス処理装置から延びて出口ダクト３２に繋がる各処理済ガス流出ライン２４に設置された出口バルブ４４と、出口バルブの上流側で処理済ガス流出ラインから分岐して共通入口ダクトに合流する処理済ガス戻りライン４６とを有する。 （もっと読む）

【課題】テトラクロロエチレンのようなハロゲン化有機化合物を活性炭を用いて吸脱着を繰り替えし行う場合に、活性炭上に残留する塩素量を低減して活性炭の長寿命化を図るようにする。
【解決手段】活性炭をシランカップリング剤であるビニルトリメトキシシラン水溶液で処理し、濾過、乾燥して処理活性炭を得る。該処理活性炭は、１０回のトリクロロエチレンの吸脱着を繰返したときの塩化水素残留量が、未処理活性炭に比して１／５０以下とすることができる。 （もっと読む）

いくつかの実施形態において、本発明は、排ガス流を水溶液と接触させる工程、二酸化炭素および／または追加の成分を排ガス流から除去する工程、および、二酸化炭素および／または追加の成分を１種以上の形態で、組成物中に含有させる工程を含む、排ガス流の二酸化炭素および／または追加の成分を除去するためのシステムおよび方法を提供する。いくつかの実施形態において、組成物は、炭酸塩、重炭酸塩、または、炭酸塩および重炭酸塩を含む沈殿物質である。いくつかの実施形態において、組成物は、ＳＯｘ、ＮＯｘ、粒状物質および／または一定の金属の共処理からもたらされる炭酸塩および／または重炭酸塩共生成物をさらに含む。液体、固体または多相性廃棄物流などの追加の廃棄物流もまた処理され得る。
（もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、半導体製造、液晶製造、または太陽電池製造に関する装置のクリーニングに用いられるＮＦ_３を、安価で、温室効果の高いガスの生成を抑制し、且つ、工業的に分解する方法、さらには、安価でランニングコストの安いＮＦ_３の分解装置または検出器を提供することである。
【解決手段】 ＮＦ_３と、金属、金属酸化物、金属フッ化物、または金属フッ化物の水和物とを化学反応させることによりＮＦ_３を分解させることを特徴とするＮＦ_３の分解方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フロンガス類等のハロゲン化合物を分解処理した際に発生する酸性ガスやゴミ焼却炉から排出される酸性ガス等の各種酸性ガスを中和して無害化するための酸性ガスの中和処理方法及びその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】中和塔１１内に、炭酸カルシウム、酸化カルシウム又は酸化カルシウムと炭酸カルシウムの混合物からなる中和剤１２を充填し、該中和塔１１内を中和剤１２と接触するように酸性ガスを通過させることによって、酸性ガスを中和処理する酸性ガスの中和処理方法と、中和剤１２を充填してなる中和塔１１と、該中和塔１１に酸性ガスを供給する手段と、酸性ガスを中和剤１２に接触させて排出する手段を有する酸性ガスの中和処理装置を基本として提供する。 （もっと読む）

【課題】固体吸着剤の融着を防止する。
【解決手段】ガス処理システム１０は、化学吸着装置２０とスライドバルブ１１０とを備えている。化学吸着装置２０は、ハロゲン成分及び／又は硫黄成分を中和反応により吸着可能な固体吸着剤Ａが充填された反応室２２を有し、該反応室２２に第１及び第２ガス通過口２４，２８が設けられている。スライドバルブ１１０は、第１ガス通過口２４に未処理ガスを供給し、反応室２２を通過した処理済みガスを第２ガス通過口２８から排出する順方向状態か、第２ガス通過口２８に未処理ガスを供給し、反応室２２を通過した処理済みガスを第１ガス通過口２４から排出する逆方向状態かを切り替える。このように順方向状態と逆方向状態とを適宜切り替えることが可能であるため、反応室２２内の固体吸着剤Ａが溶着するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】ベンチュリスクラバの吸収液スプレノズルの配置を適切なものとし、高効率で水銀成分やフッ素成分などの微量成分も吸収除去できかつ低動力なベンチュリスクラバを持つ湿式二段脱硫装置を得ること。
【解決手段】ボイラを含む燃焼装置から排出される排ガスの流路に設けた吸収液を噴霧するアドバンスドベンチュリスクラバ（ＡＶＳ）２に排ガスの流れ方向に沿って下向きに排ガスを流通させる流路を有し、該流路の中で他の流路より狭い流路からなるスロート部Ｓを設け、該スロート部Ｓの壁面に排ガス流れ方向に沿って吸収液を噴霧するスプレノズル（以下ノズル）３を複数段状に配置し、かつ隣接するノズル３を互いに千鳥状に配置して設け、該複数段のノズル３の中の下段側のノズル３を上段側のノズル３より下向きに吸収液が噴霧するように配置し、ＡＶＳ２の下流側の排ガス流路に設けた吸収液を噴霧するノズル３を有する吸収塔１とを備えた排ガス中の硫黄酸化物を処理する湿式二段脱硫装置である。 （もっと読む）