【課題】第１処理対象物質Ｘの熱分解で生成される中間生成物質が、第２処理対象物質Ｙと爆発的に反応し、かつ、第２処理対象物質は、第１処理対象物質の熱分解によって生成される物質と反応して熱分解されるといった２種類の処理対象物質を安全かつ安定的に継続して効率的に熱分解する熱分解装置を提供する。
【解決手段】熱分解装置１０を、３つの熱分解空間４０、４２、４４と、第１熱分解空間４０および第２熱分解空間４２の上端部を連通する第１連絡路４８と、第２熱分解空間４２の上端部および第３熱分解空間４４の上端部を連通する第２連絡路５０と、第１熱分解空間４０および第３熱分解空間４４に設けられたヒータ２４と、第１処理対象物質導入路５２と、第２処理対象物質Ｙを第２熱分解空間４２の下端部に導入する第２処理対象物質導入路５４とで構成することにより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】回収プロセス中のキセノン濃度を高める改良した減圧スイング吸着（ＶＳＡ）プロセスを与える。
【解決手段】次の工程を含む、Ｘｅ含有供給ガスからキセノンを回収するための方法：吸着材を有する吸着容器を与える工程；上記Ｘｅ含有供給ガスを上記吸着容器に供給する工程；上記吸着容器を、大気圧から大気圧未満の圧力に減圧することで排気する工程であって、上記排気工程は、次の２つを含む工程：（１）ガスの第一部分を排気すること、及び（２）上記大気圧未満の圧力がＰ１に達したときに、第一のキセノン富化ガスを回収すること；上記大気圧未満の圧力がＰ２に達したときに上記吸着容器をパージして、第二のキセノン富化ガスを回収する工程；及び上記第一のキセノン富化ガスと上記第二のキセノン富化ガスとを混合して、初期キセノン濃度より少なくとも２０倍超高い最終キセノン濃度を有する生成ガスを与える工程、ここで、Ｐ１はＰ２以上である。 （もっと読む）

【課題】特別な装置を必要とせずに、対象ガス使用装置からの排気に含まれるフッ素によって、排気システムを構成する樹脂製材料が腐食されること抑制し、排気システムの寿命を延長させること。
【解決手段】本発明は、フッ素ガスまたは反応性の高いフッ素系ガスを排出する対象装置から排出された排気を処理するための処理装置、および、上記対象装置と上記処理装置とを接続する樹脂製部分を含む送気管を備える排気システムであって、少なくとも上記送気管内の樹脂製部分の一部に、フッ素と反応する物質を含有する反応用ガスが供給されることを特徴とする、排気システムである。 （もっと読む）

【課題】 有害成分を含む排ガスを、浄化剤と接触させることにより有害成分を除去するとともに、有害成分による浄化筒の破過を検知剤により検知する浄化筒であって、浄化筒が破過する前の検知剤の変色を一箇所の覗窓で正確に検知することが可能で、有害成分の浄化筒下流側への流出を防止できる浄化筒を提供する。
【解決手段】 浄化筒の内壁面の水平断面と同等の大きさの外形状を有し外周に沿って切欠部を有する仕切板を１枚使用し、該仕切板を浄化筒の内壁に密着して配置するとともに、有害成分の検知剤の充填部及びその覗窓を、仕切板の切欠部の近辺に一箇所設ける。または、前記のような仕切板を２枚使用し、切欠部の位置が互いに反対側となるように、有害成分の浄化剤の予備充填部の最上流部及び最下流部に配置するとともに、有害成分の検知剤の充填部を、上流側の仕切板の切欠部の近辺に設ける。 （もっと読む）

【課題】除害の副産物であるＨＦが水に溶けることによって、アノード電極が腐食され、電極の寿命が短くなることを防止したガス処理装置及びガス処理システムを提供する。
【解決手段】水供給管６１より分岐された中性のＨ₂Ｏは給水孔５９ａ、給水孔５９ｂ、給水孔５９ｃを通りアノード電極２５内部に形成された中央通水溝５７ａ、内側環状通水溝５７ｂ及び外側環状通水溝５７ｃに対し供給される。中央通水溝５７ａ、内側環状通水溝５７ｂ及び外側環状通水溝５７ｃのそれぞれの容積を超えた分のＨ₂Ｏがアノード電極２５の上面より溢れ出る。このとき、内側貯留槽４２に水没されているアノード電極２５の上面には中性のＨ₂Ｏのバリアが形成される。従って、アノード電極２５の上面付近ではＨＦの濃度が薄まり、アノード電極２５がＨＦに晒され難くなる。 （もっと読む）

【課題】電極の長寿命化を図りつつプラズマ中でのガスの酸化を促進することの可能な除害装置及び除害システムを提供する。
【解決手段】給水管３１より給水されたＨ₂Ｏに対しバブル発生装置３３より多数の細かい粒状の気泡３５が混入される。Ｈ₂Ｏはパイプ２３を堰として溢れ、その後、パイプ２３の内側を伝ってほぼ均一に自然落下する。このとき、気泡３５はカソード電極２７の位置する付近ではＨ₂Ｏから外に飛散し難く、一方、パイプ２３の内側を伝って流れるＨ₂Ｏに含まれている空気又はＯ₂は、内側貯留槽４２に至るまでの過程で徐々に外部に飛散する。このとき、プラズマの周囲にプラズマの流れと並行した水膜４１が形成されているため、広範囲に亙ってＯ₂と接触され、ＰＦＣガスが酸化される。 （もっと読む）

【課題】排水処理を必要としない、安価で、ランニングコストの低廉な無排水化吸着塔を提供する。
【解決手段】本発明は、被処理ガス中の有機溶剤の吸着、吸着した有機溶剤の脱離を交互に連続して行う吸着材を備えた複数の吸着塔と、有機溶剤を含む被処理ガスを送風機により吸着塔に送る送風ラインと、キャリアガスを吸着塔に送風するとともに、有機溶剤を吸着材から脱離する脱離手段と、脱離後の有機溶剤を濃縮、分離回収する回収ラインとからなる吸着回収装置において、有機溶剤と共に回収、分離された水相を前記送風ラインに気化するよう戻すリターン手段を設けたことを特徴とする無排水化吸着回収装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、除去剤を加熱してフッ素含有化合物ガスを除去する方法において、フッ素含有化合物ガスの単位処理量を高めたフッ素含有化合物ガスの除去方法を提供することである。
【解決手段】除去剤としてカルシウム化合物とアルミナとを含む混合物を用いてフッ素含有化合物ガスを除去する方法において、少なくとも、該混合物を除去剤として用いる第１除去工程と第２除去工程を有し、さらには、該混合物中のカルシウム原子とアルミニウム原子の和に対するアルミニウム原子の質量比（Ａｌ／（Ａｌ＋Ｃａ））が、第１除去工程の混合物（第１混合物）より第２除去工程の混合物（第２混合物）の方が大きく、
フッ素含有化合物ガスを含有するガスを、第１除去工程で第１混合物と接触させ、次に第２除去工程で第２混合物と接触させることを特徴とする、フッ素含有化合物ガスの除去方法。 （もっと読む）

【課題】従来の代替フロンガスの無害化方法であるロータリーキルン法や接触分解法では、分解した後の分解生成物の二次処理が別途必要であった。
【解決手段】高温下で、フッ素系ガスをカチオン種としてカルシウムを有するゼオライトに接触させて分解し、分解生成物をそのゼオライトに吸着させる。フッ素系ガスとしてはフッ化炭素ガス（Ｃ_ｎＦ_ｌ）またはフッ化炭化水素ガス（Ｃ_ｎＨ_ｍＦ_ｌ）が適用できる。ゼオライトは細孔径が０．５ｎｍ以上であることが好ましく、特にフォージャサイト型ゼオライトが好ましい。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、上流側と下流側のプラズマの発生状態をバランスさせる。
【解決手段】電極９（９−１，９−２）をハニカム構造体４−２および４−３の外側において、このハニカム構造体４−２および４−３の処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側の端部から下流方向へ（２／３）・Ｌ程度の範囲を避けた領域に配置する。これにより、空間１０の上流側部分でのプラズマの発生状態が緩和（低下）され、上流側で発生するプラズマにより失われる水分が抑えられ、その分、下流側でのプラズマの発生状態が強くなり、上流側と下流側のプラズマの発生状態がバランスする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、上流側と下流側のプラズマの発生状態をバランスさせる。
【解決手段】ハニカム構造体４間の空間１０（１０−１，１０−２）を形成する各ハニカム構造体４間の間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）を処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側から下流側に向かって狭める。例えば、ハニカム構造体４−２，４−３を傾斜させて配置することにより、間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）を処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側から下流側に向かって狭める。これにより、間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）がプラズマの発生条件のよい上流側では広くなり、プラズマの発生条件の悪い下流側では狭くなり、上流側と下流側のプラズマの発生状態がバランスする。 （もっと読む）

【課題】隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマを発生させ、全体のガス処理能力を更に高める。部品点数を削減して製造・組立のコスト・時間を削減する
【解決手段】ガス処理ユニットＧＵ１，ＧＵ２のグランド電極９−１，９−２を一体化し共通電極９とする。ガス処理ユニットＧＵ１，ＧＵ２の高圧電極８−１の印加極性を正、高圧電極８−２の印加極性を負、高圧電極１０−１の印加極性を正、高圧電極１０−２の印加極性を負とする。これにより、対向する高圧電極間に大きな電位差が生じ、隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマが発生し、ガス処理が行われるようになる。また、ガス処理ユニット間で、グランド電極が一体化（共通化）され、部品点数が削減される。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン系ガスを室温で簡便に、効率よく、しかも安全に除去する。
【解決手段】 ハロゲン系ガスを、鉄化合物と接触させる工程と、バインダレスＸ型ゼオライトと接触させる工程とを有する除去方法によって、ハロゲン系ガスを吸着除去する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＨ_３Ｆ、ＣＨＦ_３等のハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）を室温で簡便に、効率よく除去する。
【解決手段】 バインダレスＸ型ゼオライトを含む除去剤にＨＦＣを含むガスを接触させることによって、ＨＦＣを吸着除去する。 （もっと読む）

【課題】１つ以上の態様において、工業廃液、例えば、半導体及び液晶表示装置の製造プロセスで生成される廃液を処理するのに用いる熱反応器装置を提供する。
【解決手段】コントローラと、コントローラにより制御されるように用いられる反応チャンバ３２と、反応チャンバへの管と、反応チャンバ内の管の第１の端部に配置されたパイロット１６と、反応チャンバ外の管の第２の端部に配置され、コントローラに結合され、コントローラにパイロットが点灯したかどうかの指示を与えるように用いられるセンサと、管の開閉のために操作可能なアクチュエータとを含むシステムを有する。本発明の数多くのその他の態様が開示されている。 （もっと読む）

【課題】排ガス中に含まれる揮発性有機溶剤の回収装置及び回収方法にあって、吸着剤による吸着能を最大限に発揮して溶剤の吸着効率を向上させる。
【解決手段】粒状の吸着剤( 活性炭10) に対して吸着操作と脱着操作とを交互に繰り返し、排ガス中の揮発性有機溶剤を回収する溶剤回収装置(20)である。層状に配された吸着剤を複数に区画する仕切り(5) を介して分割する。各区画ごとの吸着剤層(11)による吸着後の排ガス中の揮発性有機溶剤含有濃度を検出する濃度検出手段(6) を各区画ごとに配している。更に各区画領域ごとの濃度検出手段(6) により検出される破過濃度に達するまでのそれぞれの破過時間を測定する計時手段(7) が配される。 （もっと読む）

【課題】 炭素数３〜１０のパーフルオロカーボン（ＰＦＣ）を室温で簡便に、効率よく除去する。
【解決手段】 バインダレスＸ型ゼオライトを含む除去剤にＰＦＣを含むガスを接触させることによって、ＰＦＣを吸着除去する。 （もっと読む）

【課題】 三フッ化塩素含有ガスの除害において、安価で閉塞が発生せず、かつＣａＦ_２の回収率が高い三フッ化塩素ガスの除害処理装置を提供する。
【解決手段】除害剤として固体アルカリ剤が充填されている乾式除害筒と除害剤として吸収液を具備している湿式除害塔を有し、
該乾式除害筒は、三フッ化塩素含有ガスを導入する導入口と乾式除害処理後のガスを排出する排出口を有し、該湿式除害塔は、該乾式除害筒の排出口から排出されるガスを導入する導入口と該湿式除害処理後のガスを排出する排出口を有し、
該乾式除害筒の排出口から排出されるガス中のフッ素成分を検出する手段と、該乾式除害筒の排出口から排出されるガスを湿式除害塔に導入する導入管と、を有することを特徴とする、三フッ化塩素含有ガスの除害処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置や液晶製造装置等から排出される有毒ガス中の有害成分を除外、回収する除外装置において、被処理ガスを導水管内に導入、混合する吸気管の詰まりを防止する。
【解決手段】導水管２内に吸気管１３を挿着し、該吸気管の下端１３Ｃから排出される有毒ガスＧと前記導水管内の水Ｗとを混合させる気液混合攪拌装置において、前記吸気管内に可撓性チューブ１８を挿着して該可撓性チューブの下端部１８ｃを前記吸気管の下端部に対向させるとともに、少なくとも前記吸気管の下端部側と前記可撓性チューブの下端部側とを離間させて振動間隙Ａを形成させることにより、気液混合に伴って前記可撓性チューブが振動してその下端部が吸気管内周面に衝突し、前記可撓性チューブ下端に付着した固形物が剥離され、吸気管の詰まりを防止できる。 （もっと読む）

【課題】難分解性のフッ素含有化合物を含むガスを確実に、効率よく無害化することが可能な処理方法、装置およびガス処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】フッ素含有化合物を含むガスを、炭酸カリウムが充填されたフッ素含有化合物反応容器中に加熱しつつ通気してフッ素含有化合物を分解する（フッ素含有化合物分解工程）。このような方法によれば、難分解性のフッ素含有化合物を含むガスを効率よく分解処理することができる。 （もっと読む）