【課題】本発明の目的は、防汚性に優れ、低屈折率化と高い鉛筆硬度を両立した反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、それを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】透明支持体上にハードコート層を設け、該ハードコート層上に直接または高屈折率層を介して低屈折率層を設けてなる反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層は空隙を有するシリカ微粒子を含有する二酸化珪素ポリマーを主成分とする膜であり、本発明で規定するマジック耐性が複数回であり、かつ該反射防止フィルムは４０℃の条件下に３日間置かれると、該マジック耐性でマジック拭き取り不可能となった箇所が再び拭き取りが可能な回数が複数回となることを特徴とする反射防止フィルム。 （もっと読む）

高分子基材の少なくとも片面に、カルボキシル基含有重合体層と多価金属化合物含有層とが隣接して配置された層構成を有する積層体であって、多価金属化合物含有層が、多価金属化合物粒子、バインダー樹脂、及び界面活性剤を含有する積層体、並びにその製造方法。
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【課題】位相差値の経時変化が小さく、斜め方向についても優れた特性を有する、広帯域かつ広視野角の光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、およびそのような方法で得られた光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の表面に配向処理を施す工程と、該基材の該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する工程と、該液晶組成物中の液晶材料を該基材の配向方向に応じて配向させて、第１の複屈折層を形成する工程と、該第１の複屈折層を、（該液晶材料の液晶転移温度＋２０℃）以上の温度で０．５時間以上エージングする工程と、該基材表面に形成された該第１の複屈折層を透明保護フィルム（Ｔ）の表面に転写する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】耐チッピング性の高い複層塗膜を得る。
【解決手段】耐チッピング性複層塗膜の形成方法は、鱗片状のチタン酸顔料を含有するベース塗料を中塗塗膜１０上あるいは着色ベース塗膜上に塗布してベース塗膜１２を形成するベース塗膜形成工程と、ベース塗膜１２上にクリア塗膜１４を形成するクリア塗膜形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】塗膜厚さにばらつきが無く、同日施工可能な無溶剤型の二液性エポキシ樹脂塗料による既設配管内部のライニング方法を提供する。
【解決手段】既設配管１の一端部側から他端部側までと各分岐された支管毎に塗装区間を区分し、区間毎に第２継手部材の位置を基準にして塗装すべき始端部側からその位置をわずかに越える位置までを要調整領域Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１とし、その領域をわずかに越えて所要膜厚で塗装できる量の塗料を投入し、摺動部材を用いて押し延ばすか、または送気流体により変成スラグ流の状態を維持できるところまで流動させて要調整領域に一次塗装の塗膜を形成する。該塗装が指触乾燥状態になったところで、所定量の塗料を一括して投入し送気流体により変成スラグ流から順次環状流に吹き延ばして二次塗装の塗膜を形成することにより始端部側から終端部側まで塗料の分布量を略均等にし、全体としてバランスの良い厚さの塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚分布の少ない被膜を有するセンサー用固体基板の製造方法、及び膜厚分布の少ない被膜を有するセンサー用固体基板を提供すること。
【解決手段】 スピンコート塗布において、被製膜基板表面を塗布液で被覆し、続いて被製膜基板を密閉構造を有する容器内に導入し、実質的に回転しない状態で１０秒以上４０００秒以内の時間保持した後、被製膜基板を回転して基板上に薄膜を製膜することを特徴とする、表面に被膜を有するセンサー用固体基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 一度開封し使用して缶体内に残存している一液型硬化性組成物を簡単な操作及び器具の利用で大気中の水分や酸素から遮断して再度使用することができるように保存する方法、及び保存した一液型硬化性組成物を使用（有効利用）するシーリング方法を提供する。
【解決手段】 缶体内に使用後残存している一液型硬化性組成物を、実質的に外気にさらすことなく、排出口を備えた容器に移し替えたのち、この排出口に栓を設置して密封し、一定期間維持する、使用後残存一液型硬化性組成物の保存方法である。また、この保存一液型硬化性組成物を目地に充填するシーリング方法である。 （もっと読む）

【課題】コンクリートの打ちっ放しや錆びた鋼材等の外観を呈する意匠は、従来は、熟練した職人が手作業で一品製作していたため、コスト高になるだけでなく、職人の腕前に意匠の出来ばえが左右されてしまっていた。
【解決手段】素材板１にベースコートとして塗料３を施す工程と、ベースコートの上に蒸発可能な液滴５（例えば水滴）を分散した状態で載せる工程と、液滴５を載せた後にアッパーコートとして別の塗料９を施す工程と、液滴５を蒸発・除去させて、複数の塗料３，９の表出により意匠を形成する工程とに実施することにより、２種以上の塗料のランダムな表出により所望の意匠が施された内外装用ボードを、工業的大量生産可能に製造できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、塗布法により形成される有機半導体層のキャリア移動度の向上させることであり、また、有機半導体層薄膜の繰り返し使用（測定）時の特性変動抑制、又閾値の低下、更には基板上における有機半導体薄膜の成膜性の向上にある。
【解決手段】 基板上に有機半導体材料を含有する溶液を供給した後、有機半導体材料を含有する該溶液を冷却することにより、基板表面に有機半導体材料を析出させることを特徴とする有機半導体層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程（ａ）と、工程（ａ）において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程（ｂ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】 端面の塗装の良好な仕上がりを維持しながら、製造コストを削減できる多層板の塗装方法を提供する。
【解決手段】 多層板１の塗装方法では、塗料４を準備し、多数の空隙を有する中層部１ａと、この中層部１ａの空隙より小さな空隙を有し、中層部１ａを挟むように設けられた２つの表層部１ｂ，１ｂとを端面１ｃに備える多層板１を準備し、この多層板１の端面１ｃに中層部１ａを覆うようにテープ３を貼り付け、このテープ３を貼り付けた端面１ｃ全体に塗料４を塗る。 （もっと読む）

【課題】 ウエット状態の第１水性塗料が塗装されている部材に、第２水性塗料を塗装しても、これらの間で混層が生じることを防止でき、良好な仕上りを確保することができるようにするための、塗装評価方法を提供すること。
【解決手段】 ３コート１ベーク方式の塗装方法において、中塗水性塗料の塗装の良否を次の方法で算出する水溶出率で評価し、中塗工程を管理する。１）中塗水性塗料を成膜して第１塗膜を形成し、１次加熱後に重量Ｗ１を測定。２）１次加熱後の第１塗膜を、２次加熱して重量Ｗ２を測定。３）中塗水性塗料を成膜して第２塗膜を形成して、１次加熱後に重量Ｗ３を測定。４）１次加熱後の第２塗膜を水に浸漬後、２次加熱して重量Ｗ４を測定。５）固形分重量ＷＳ＝Ｗ３×Ｗ２／Ｗ１算出。６）水溶出重量ＷＰ＝Ｗ３×Ｗ２／Ｗ１―Ｗ４算出。７）水溶出率＝ＷＰ／ＷＳ×１００（％）算出。 （もっと読む）

【課題】 自動車ボディを構成する部材を、水性塗料を用いて、効率的に塗装することができながら、しかも、部材の外側面の外観不良を低減することのできる、塗装方法を提供すること。
【解決手段】 ３コート１ベーク方式、２コート１ベーク方式または１コート１ベーク方式の塗装方法において、部材の内側面を塗装した後、２０分以内に外側面を塗装する。または、部材の外側面を塗装した後、内側面を塗装する。または、部材の外側面のみを塗装する。 （もっと読む）

【課題】 基板に塗布された塗布液の乾燥を基板の塗布された領域内で均一にすることを可能にして、塗布物のムラを防止するとともに、乾燥後の塗布物の形状を効果的に均一にすることのできる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】 溶質と溶媒とを含む塗布液を基板上の所定領域に塗布して溶媒を揮発させ、溶質の固化物を前記基板上に形成するにあたり、前記基板上の所定領域への塗布を終えるまで、前記基板上の塗布された領域近傍の雰囲気を、前記溶媒の揮発を抑制する雰囲気に保持する。 （もっと読む）

本発明は、種々の基板表面上で薄膜被膜として用いることができる金属酸化物被膜材料に関するものである。本発明は、スピンオン堆積のような液相スピンオン堆積により基板上に堆積させうる水相で安定な金属酸化物材料の形成方法にも関するものである。これら新規な材料は、リソグラフ処理により又はリソグラフ処理によらずパターン化することができ、反射防止層、ＩＣ用の高ｋ値中間層及びゲート酸化膜構造体、エッチング停止層、ＣＭＰ停止層、太陽電池、ＯＬＥＤパッケージ、光学薄膜フィルタ、光学回析格子用途及びハイブリッド薄膜回析格子構造体のような種々の電子及び光電子装置構造体の形成に適用することができる。
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（１）少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンから成ることを特徴とする絶縁膜。
（２）２３０℃以下の温度で任意の粘度に調整したペースト状の前駆体の後、２００℃〜５００℃の温度で熱硬化することを特徴とする（１）記載の絶縁膜。
（３）前記前駆体と前記絶縁膜は、少なくとも一回、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする（１）記載の絶縁膜。
（４）少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンを２３０℃以下の温度で数ｃｐｓから数万ｃｐｓの間で任意の粘度に調整する工程および２００℃〜５００℃の温度で熱硬化させる工程を実施することを特徴とする絶縁膜の形成方法。
（５）前記絶縁膜を形成する工程において、少なくとも一回は、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする絶縁膜の形成方法。
（６）真空加熱処理は、２３０℃以下の温度で行うことを特徴とする（４）又は（５）記載の絶縁膜の形成方法。
以上により、層間割れや,ひび割れ,反り、剥離等が無く、絶縁性が良好で所望の膜厚を有する絶縁膜を提供すると共に基板上に、所望の膜厚を有しかつ、高抵抗で絶縁性良好な絶縁膜および絶縁膜を容易に形成できる。 （もっと読む）

水性液体ベースコートおよびトップコートでコーティングされた基材を乾燥させ硬化させるための多段プロセスであって、（ａ）水性液体ベースコーティング組成物を基材表面に塗布する工程と、（ｂ）ベースコーティング組成物を、温度が周囲から約４０℃の範囲の空気に約３０秒の時間曝して、液体ベースコーティング組成物から揮発性材料の少なくとも一部を揮発させる工程であって、ベースコーティング組成物の表面における空気の速度が毎秒約０．３から約１メートルである工程と、（ｃ）ベースコーティング組成物に、約３０から約４５秒の範囲の時間、加熱された空気を吹き付ける工程であって、ベースコーティング組成物の表面における空気の速度が毎秒約１．５から１５メートルの範囲であり、空気の温度が約３０℃から約９０℃の範囲である工程と、（ｄ）ベースコーティング組成物に、約３０から４５秒の範囲の時間、赤外線の照射と加熱された空気の吹き付けを同時に行う工程であって、ベースコーティングの表面における空気の速度が毎秒約１．５から５メートルの範囲であり、空気の温度が約３０℃から約６０℃の範囲であり、これによって、十分に乾燥されたベースコートが基材の表面上に形成されるようにする工程と、（ｅ）トップコーティング組成物をベースコートの上に塗布する工程と、（ｆ）ベースコーティング組成物およびトップコーティング組成物をともに同時に硬化させる工程と、を含むことを特徴とする多段プロセス。

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