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Fターム[4D075CA48]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 保護及び特殊効果 (11,570) | 塗布作業性 (2,481) | 平滑性を含む塗布層品質に関するもの (1,282)

Fターム[4D075CA48]に分類される特許

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【課題】連続搬送される支持体上に塗布液を塗布して形成した塗膜中の溶媒を蒸発除去する際、より高品質で、より高生産率の機能性膜を作製する塗膜乾燥方法を提供
【解決手段】連続搬送される帯状プラスチックフィルム支持体上に、溶媒中に固形分を溶解又は分散した塗布液を塗布して塗膜を形成した後、前記塗膜を有する前記帯状プラスチックフィルム支持体を搬送しながら前記塗膜中の溶媒を蒸発させて機能性膜を得る塗膜乾燥方法において、前記塗膜中の固形分濃度が80体積%以下の間は、前記帯状プラスチックフィルム支持体の表面の幅手平滑度を前記機能性膜の塗膜の厚さの100%以下とすることを特徴とする塗膜乾燥方法。 (もっと読む)


【課題】塗布ヘッドの吐出安定性を正確に判定する。
【解決手段】液滴を吐出する吐出口を有する塗布ヘッド4の吐出不良を検出する吐出不良検出装置8は、塗布ヘッド4の吐出口から液滴が吐出される空間を撮像する撮像部8aと、その撮像部8aにより撮像された画像を処理し、その画像中に点状の画像があるか否かを判断し、画像中に点状の画像があると判断した場合、塗布ヘッド4の吐出が安定していないと判定する判定部8fとを備える。 (もっと読む)


【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット(ACT)40では、ステージ80の上に基板Gを載置して、レジスト液供給機構86およびノズル移動機構88を動作させると、長尺ノズル82の塗布走査により基板G上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜100が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜100が基板Gの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜76と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜76によって面状レジスト塗布膜100の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 (もっと読む)


【課題】従来の駆動電圧設定方法では、描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】液状体を吐出する複数のノズルの前記ノズルごとに設けられた駆動素子を駆動するための駆動電圧を設定する駆動電圧設定方法であって、前記複数のノズルの前記ノズル間における液状体の吐出量のばらつきを軽減する前記駆動電圧を、複数の吐出パターンの前記吐出パターンごとに設定する第1ステップと、前記第1ステップの後に、前記吐出パターン間の前記吐出量の差を軽減する前記駆動電圧を設定する第2ステップと、を含む、ことを特徴とする駆動電圧設定方法。 (もっと読む)


【課題】立体構造物に均一なコーティング剤の皮膜を形成する立体構造物のコーティング装置およびコーティング方法を提供する。
【解決手段】収容室21にコーティング剤を供給して半導体装置40を浸漬した後、収容室21からコーティング剤を回収して半導体装置40コーティング剤を塗布する。その後、回転駆動部38によりコーティング剤を塗布した半導体装置40を所望のコーティング剤の膜厚ごとに予め設定されている回転数で収容タンク11とともに回転駆動する。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性に優れ、表面に微細な凹凸が形成され難い、塗布精度の良い塗工用ロッド、及び塗布液の塗布方法、並びに塗工用ロッドの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】外周面に周方向の凹部25Aと周方向の凸部25Bが軸方向に交互に形成された実質的に円柱状の母材20と、母材20の最表面にホロカソード方式により施された表面層26と、母材20と表面層26との間に420℃以上500℃以下で施されたチッ化処理によるチッ化層27と、を有し、表面層26とチッ化層27は研磨処理されていないようにする。 (もっと読む)


【課題】コーターパン内のピックアップロール周辺で発生する気泡を効率的に除去することができ、外観特性に優れた塗膜を有する基材を得ることができるロール塗布装置、および、ロール塗布方法を提供する。
【解決手段】コーターパン7内の塗布液を汲み上げるロール4を備え、連続的に走行する基材に対して塗布液を塗布するロール塗布装置100において、コーターパン7中の塗布液面付近の所定の位置に、塗布液と気体とを同時に吸引する吸引口を設け、コーターパン7内の気泡を効率的に除去する。 (もっと読む)


【課題】製造工程において、溶媒を除去するために高温下で乾燥させた場合であっても、表面欠陥が顕著に低減されたプリプレグ(樹脂含浸繊維シート)や樹脂フィルムを製造し得る液晶ポリエステル含有液状組成物を提供すること。
【解決手段】液晶ポリエステルと、有機溶媒と、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリマー及びポリエステル変性ポリジメチルシロキサンからなる群より選択される1種以上からなるレベリング剤とを含み、前記レベリング剤の含有量が、前記液晶ポリエステルと前記有機溶媒との合計100質量部に対して、0.001〜2.0質量部であることを特徴とする液晶ポリエステル含有液状組成物;前記記載の液晶ポリエステル含有液状組成物を支持体上に塗布した後、50℃以上で該支持体上の液晶ポリエステル含有液状組成物から溶媒を除去することを特徴とする樹脂フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】塗布膜を基板の面内に均一に形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の表面にノズルから基板の中心部に塗布膜を形成するための塗布液を供給すると共に、第1の回転速度で基板を回転させて、塗布液を基板の周縁部に遠心力によって広げ、次いで、前記塗布液の供給を続けたまま、当該基板の中心部側の液膜を周縁部側の液膜に比べて盛り上げて、液溜まりを形成するために、前記第1の回転速度よりも小さい第2の回転速度で基板を回転させた状態で塗布液の供給位置を基板の中心位置から前記偏心位置に向けて移動させ、次いで、液溜まりの厚さを大きくして、ノズルの液切れ時に当該液溜まりに垂れる液滴を馴染ませるために、基板の回転速度を前記第2の回転速度よりも小さい第3の回転速度に減速させた状態で、ノズルから前記偏心位置への塗布液の供給を停止する。 (もっと読む)


【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部にだけインクINKを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧(常圧)に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部にインクINKを塗布する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に塗布液を塗布しこれを光硬化させることにより所定のパターンを形成するパターン形成技術において、品質の良好なパターンを効率よく形成する。
【解決手段】吐出ノズル先端の吐出口521から基板Wに向けて塗布液を吐出するとともに、基板Wに塗布された直後の塗布液Pに対して第1の照射光源551,552から波長365nmのUV光L1を照射する。これにより塗布液の表面が硬化する。続いて、第2の照射光源561,562から、より長波長(例えば385nmまたは395nm)のUV光L2を、先のUV光L1の照射を受けた塗布液に照射する。長波長の光L2はより塗布液の内部まで浸透するので、内部の硬化が促進される。 (もっと読む)


【課題】絶縁被膜に局所的な発泡領域を発生させないように絶縁塗料を塗布するためのエナメル線用の塗装ダイスを提供する。
【解決手段】本発明に係るエナメル線用の塗装ダイスは、導体線の周囲に絶縁塗料を塗布するための塗装ダイスであって、ダイス本体と前記ダイス本体に設けられ前記導体線を挿通させるダイス孔とを有し、前記ダイス孔は、前記導体線が挿通される方向に沿って、開口径が単調減少していく導入部と、前記開口径が一定である領域を有する塗布部とから構成され、前記塗布部の内表面には、前記ダイス孔の中心軸に向かって突出する4つ以上の突起が前記内表面の周方向に等間隔で設けられており、前記突起は、前記導入部と前記塗布部との境界の位置から前記導体線が挿通される方向に沿って、高さが徐々に高くなる領域を有していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】バー塗布において、塗布液の流動が不安定になり、渦流の発生により塗布ムラが発生するのを防止する。
【解決手段】バー16に接触して走行するポリマーフィルム12の接触部直前に液溜り部30を形成し、該液溜り部30には、前記ポリマーフィルム12に対して平行に整流板40が備えられた、塗布液を前記ポリマーフィルム12に塗布するバー塗布装置10であって、前記整流板40には、該整流板40が撓るのを抑制するために、前記ポリマーフィルム12の幅方向の厚みLが3mm以下の支柱を1以上備えるようにする。 (もっと読む)


【課題】シート材に液状剤を塗布した際、シート材上に発生する泡を確実に取り除くことが可能な塗工装置、及び塗工方法を提供する。
【解決手段】搬送中のフィルムFに液状材を塗布する塗工装置であって、フィルムFの搬送方向と垂直な幅方向に沿って形成された吐出口21を有するダイヘッド2と、このダイヘッド2を挟んで搬送方向の下流側に配置され、フィルムFに空気を吹き付ける空気供給具と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】1回の塗装でボイドなどの欠陥を抑制しつつ厚膜を簡易且つ低コストで形成し得る粉体塗装方法を提供する。
【解決手段】粉体塗料と共に液体塗料を被塗装物に塗装する粉体塗装方法であって、前記液体塗料の120℃におけるゲルタイムが10秒以上3分以下、前記液体塗料の25℃における粘度が200mPa・s以上5000mPa・s以下、前記液体塗料の塗装量が前記粉体塗料の20体積%以上100体積%以下であることを特徴とする粉体塗装方法とする。 (もっと読む)


【課題】焼結磁石体への希土類化合物含有液の付着量を制御し、希土類焼結磁石の製造コストの増加を抑制すること。
【解決手段】希土類化合物を含有する希土類化合物含有液3に、焼結磁石体2を所定の深さで浸漬して、希土類化合物含有液3を焼結磁石体2の端面に付着させるとともに端面側の焼結磁石体2の側面に付着させる付着工程と、焼結磁石体2の側面に付着させた希土類化合物含有液3の一部を第1ブレード6、6により掻き取る側面掻き取り工程と、焼結磁石体2の端面に付着させた希土類化合物含有液3の一部を第2ブレード9により掻き取る端面掻き取り工程と、を含む希土類化合物付着方法により解決できる。 (もっと読む)


【課題】基材表面の凹凸を平滑化し、200℃〜350℃の雰囲気においても耐えることができる皮膜形成用無溶媒塗布液を提供する。
【解決手段】フェニルトリアルコキシシランの部分加水分解・縮合反応物であって、その分子量分布のピークが200〜350の範囲と750〜1500の範囲に各々あり、分子量200〜350の範囲のピーク値と分子量750〜1500の範囲のピーク値との比(以下、「分子量ピーク値比という。」)が0.5〜4.0の範囲内であり、その粘度が3〜30mPa・sであることを特徴とする皮膜形成用無溶媒塗布液。 (もっと読む)


【課題】水系塗料による鋼材の厚膜塗装において、塗膜を速やかに乾燥させることで塗装を短時間で効率的に行い、且つ欠陥のない高品質の乾燥塗膜を得る。
【解決手段】鋼材の表面に固形分が30〜70mass%の水系塗料を150μm以上の厚さに塗布した後、その塗膜を乾燥させる方法であり、鋼材の表面に水系塗料を塗布した後、塗膜の水分量が塗布直後の水分量の60mass%以下になるまで10〜40℃の雰囲気温度で自然乾燥させ、次いで、インダクションヒータにより鋼材を[雰囲気温度+1℃]〜[雰囲気温度+20℃]で且つ80℃以下の温度であって、塗膜の膜厚方向での温度勾配(塗膜表層側温度<塗膜下層側温度)が5〜140℃/mmとなるように加熱して、塗膜を乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置は、基板(W)の周縁を保持する保持プレート(30)と、基板を下方から支持するリフトピン(22)を有するリフトピンプレート(20)と、保持プレートを回転させる回転駆動部(39)と、保持プレートおよびリフトピンプレートの貫通穴を通る処理流体供給管(40)と、基板の下面に処理流体を吐出するノズル(60)と、処理流体供給管、ノズルおよびリフトピンプレートを連動させて昇降させる昇降機構(44,46,50,52)を備える。ノズルは、基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列されている複数の吐出口(61)を有する。 (もっと読む)


【課題】平坦性が高く、耐白化性、耐水性、耐薬品性等に優れた透明被膜を形成するための塗布液および該透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】マトリックス形成成分と金属酸化物微粒子と溶媒とからなる透明被膜形成用塗布液であって、レベリング剤として平均分子量が5,000〜30,000の範囲にあるアクリルシリコン系樹脂を含み、かつレベリング剤の含有量が固形分として、0.001〜7.2重量%の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。基材と、基材上に形成された透明被膜とからなり、該透明被膜がマトリックス成分と金属酸化物微粒子とからなり、さらに平均分子量が5,000〜30,000の範囲にあるアクリルシリコン系樹脂をレベリング剤として含んでなり、該マトリックス成分の含有量が固形分として20〜99.5重量%の範囲にあり、該金属酸化物微粒子の含有量が固形分として0.5〜80重量%の範囲にある透明被膜付基材。 (もっと読む)


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