【課題】耐擦傷性が高い硬化被膜が設けられた携帯型情報端末の表示窓保護板として好適な耐擦傷性樹脂板を提供する。
【解決手段】樹脂基板の表面に、ラジカル重合性化合物、α位にヒドロキシ基又はアルコキシ基を有するアルキルフェノン系化合物、及びα位にアミノ基を有するアルキルフェノン系化合物を含む硬化性塗料により、硬化被膜を形成する。ラジカル重合性化合物としては、分子中に少なくとも３個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく用いられ、樹脂基板としては、メタクリル樹脂板が好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】従来の塗装鋼板に比べ、プレス加工性、曲げ加工性、耐食性及び電磁波シールド性を有しつつ、バーリング加工性に優れた塗装鋼板、加工品及び薄型テレビ用パネルを提供する。
【解決手段】鋼板の両面に亜鉛系めっき層及びクロムを含有しない化成皮膜を順次形成し、前記鋼板の一方の面の化成皮膜上に、下塗り塗膜を形成し、該下塗り塗膜上に、上塗り塗膜を形成し、バーリング加工後の下塗り塗膜／化成皮膜の界面近傍に部分的な欠陥を生成させ、該欠陥の生成割合が5〜60％であり、かつ下塗り塗膜と上塗り塗膜の合計膜厚が10μm超え30μm以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に設けられているマークの位置をマーク近傍のみでセンシングする。
【解決手段】基板３に形成されたマーク１２の基板センサ９による検出位置に基づいて、センサ制御部１０による光照射制御と吐出タイミング補正部１１による吐出タイミング補正とを行う。したがって、基板センサ９によって、マーク１２の近傍のみをセンシングすることが可能になる。さらに、マーク１２の近傍のみをセンシングすることによって、描画実行中に着弾液滴等による外乱を防止することが可能になり、光照射による基板表面あるいは着弾液滴の変質や劣化を防いで基板３上のマーク１２の位置を再現よく高精度に検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】処理雰囲気の制御を容易にすることができる成膜装置構成を提供する。
【解決手段】処理室内に配置された基板(100)上に塗布部(113)から液体を塗布することにより基板上に膜を形成する成膜装置を、処理室(107)を区画する壁(107a,107b，107d等)と、塗布部(113)を処理室に搬送する第１搬送部(105)と、基板の載置台(103)と、を有し、上記処理室(107)は、少なくとも上記壁、上記第１搬送部および上記載置台を有する部位により閉空間とされるよう構成する。かかる構成によれば、載置台と塗布部との距離を小さくすることができる。よって、処理室の容量を小さくすることができ、内部雰囲気の制御を容易にすることができる。例えば、その内部を不活性ガスでパージする際、パージに要する時間を低減でき、また、使用する不活性ガス量を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】液状体の安定した吐出状態を実現するノズルの分類方法、液状体の吐出方法、これらの方法を用いたカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法、電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のノズルの分類方法は、Ｎ個の不良ノズルの情報を参照して、不良ノズルのうちから正常ノズルＡを特定する第１の特定工程（ステップＳ１）と、液滴が吐出されない抜けノズルを特定する第２の特定工程（ステップＳ２）と、着弾位置ずれノズルを分類して曲がり変動ノズル、曲がり急増ノズル、定常曲がりノズルＡ，Ｂを特定する第３の特定工程（ステップＳ３〜ステップＳ６）と、上記正常ノズルＡ、上記抜けノズル、上記曲がり変動ノズル、上記曲がり急増ノズル、上記定常曲がりノズルＡ，Ｂを除いた不良ノズルを正常ノズルＢとする第４の特定工程（ステップＳ７）とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 加工時の絞り工程の破断や、かじりによる塗膜剥離の不具合を解消する。
【解決手段】 素材の表面酸化被膜中のＭｇを規制し、高分子樹脂及びワックスからなる塗装皮膜を設けた樹脂被覆アルミニウム板の、該皮膜層中に樹脂層厚みの７０％以下の粒径となるような粒状ワックスが分散しており、かつ表面に同成分のワックスが層状に拡がっている皮膜で、皮膜量が０．１〜３．０ｇ／ｍ^２、皮膜中の粒状ワックス量が皮膜量の１〜５０％、皮膜上の層状ワックス量が皮膜量の１０〜５０％、かつ層状ワックスの皮膜表面に占める面積が２５％以上とする。高分子樹脂がエポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びアクリル樹脂の中の１種または２種以上からなる樹脂であり、かつ、ワックスがポリエチレンワックスであることが好ましい。
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【課題】従来の塗装鋼板に比べ、バーリング加工性に優れた塗装鋼板、加工品及び薄型テレビ用パネルを提供する。
【解決手段】鋼板の両面に亜鉛系めっき層及びクロムを含有しない化成皮膜を順次形成し、前記鋼板の一方の面の化成皮膜上に、下塗り塗膜を形成し、該下塗り塗膜上に、上塗り塗膜を形成し、バーリング加工後の下塗り塗膜／化成皮膜の界面近傍に部分的な欠陥を生成させ、該欠陥の生成割合が5〜60％であり、かつ下塗り塗膜と上塗り塗膜の合計膜厚が10μm以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度を副走査方向において均一とする。
【解決手段】塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１および第１ノズル１４１の副走査方向における基板９の相対移動方向後側（以下、単に「後側」という。）の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。そして、後側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの後側の領域において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの両側における溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、後側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】各種基材表面に紫外線吸収剤を含む層と親水性層を備え、紫外線吸収効果、防曇性、防汚性、水などの速乾燥性及び耐久性に優れた親水性部材を提供する。
【解決手段】基材表面に少なくとも１層の親水性組成物を塗設した親水層を有し、その親水層と基材の間に少なくとも１層の紫外線吸収剤を含む層を有する親水性部材。前記親水性組成物が、（Ａ）親水性ポリマー、（Ｂ）金属アルキシド化合物及び（Ｃ）触媒を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】マット剤や発泡剤を使用せずに非光沢性面が形成された塗装金属板を提供する。
【解決手段】金属基板２と、金属基板２の表面に形成され且つ紫外線硬化型インキの硬化物からなる印刷インキ層３と、印刷インキ層３を覆うように形成されたオーバーコート層５とから形成されており、印刷インキ層３の表面３ａには微細な凹凸が形成されており、且つオーバーコート層５は、その表面に印刷インキ層３の微細な凹凸面が反映される程度の実質上均質な厚みを有しており、オーバーコート層５に形成された凹凸によって非光沢面が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光透過性の低下及び表示装置の画質の低下を抑制し得る電磁波遮蔽フィルム、及びそれを製造するための方法を提供する。
【解決手段】光透過性のベース基板と、その上に設けられた導電性パターン３とを備える電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、（ａ）光透過性のベース基板の一方の主面に、硬化後の可視光に対する反射率が導電性パターン３よりも低い黒色インクの液滴を噴きつけ、下地パターン２を形成する工程と、（ｂ）下地パターン２の上に、導電性微粒子を含む導電インクの液滴を噴きつけ、導電性パターン３を形成する工程とを実行する。（ａ）の工程において、下地パターン２は網目状に形成されるのが好ましい。（ｂ）の工程において、導電性パターン３は、下地パターン２の形状に合わせて、網目状に形成されるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】支持体上に塗布ヘッドを用いて塗布液を塗布し、乾燥して得られる塗布層の塗布方法において、塗布開始時の塗布先頭で発生する塗布故障を無くし、生産効率が高い塗布方法を提供すること。
【解決手段】支持体の上に、塗布ヘッドを用いて塗布液を塗布し、乾燥して得られる塗布層の塗布方法において、塗布開始時における前記塗布ヘッドから吐出する塗布液の流量を塗布定常時の流量よりも１．２〜１．５倍の量にする塗布方法。 （もっと読む）

【課題】電子線に対して高感度であり、保存安定性に優れ、有機高分子基材上に密着性が良好な皮膜を作製できる電子線硬化性組成物、及び、有機高分子基材上に密着性に優れた硬化皮膜を製造する方法を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする電子線硬化性組成物。


式（Ｉ）中、Ｑ¹はシアノ基又は−ＣＯＸ²基を表し、Ｘ¹は、ヘテロ原子を介してα炭素に結合する水素原子、有機残基若しくはポリマー鎖、又は、ハロゲン原子を表し、Ｘ²は、ヘテロ原子を介してカルボニル基に結合する水素原子、有機残基若しくはポリマー鎖、又は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^a、Ｒ^bは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表し、Ｘ¹とＸ²、Ｒ^aとＲ^b、Ｘ¹とＲ^a又はＲ^bとが互いに結合して環状構造を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】金属薄膜と基板との密着性が高く、バルク金属並の低い体積抵抗率を有し、微細配線形成性や、耐湿性等の特性にも優れた積層体の製造方法を提供することである。
【解決手段】 加熱処理によって弾性率が変化するイミド結合および／またはアミド結合を有する絶縁性樹脂層および／または絶縁性樹脂前駆体層を形成する工程（１）と、前記絶縁性樹脂層の上に加熱処理によって互いに融着する金属薄膜前駆体粒子を含有する分散体または溶液を塗布する工程（２）と、前記塗布膜を乾燥する工程（３）と、前記乾燥膜を酸化剤を含む雰囲気中で加熱処理することによって、絶縁性樹脂層との界面に金属酸化物を有する金属薄膜を形成する工程（４）、とを含む積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電磁波を遮蔽するために必要な低圧下での導電性に優れ、更には放熱性にも優れた表面処理金属板を提供する。
【解決手段】金属板の片面又は両面に導電性皮膜を有する表面処理金属板において、前記導電性皮膜は、粒状のニッケルとバインダとを含有し、前記導電性皮膜の膜厚が、６μｍ以上２０μｍ以下であり、前記導電性皮膜中に含まれるニッケル量が、前記バインダ固形分１００質量部に対して、７０〜３５０質量部であることを特徴とする表面処理金属板である。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上に凸凹のない平坦な塗布膜を形成すること。
【解決手段】このレジスト塗布処理において、２回目以降のＹ方向走査では、レジストノズル１５４の直ぐ後で超音波照射部１６０をオン状態で、つまり両帯状レジスト液膜Ｒ(1)，Ｒ(2)の境界Ｅ付近に向けて超音波を放射させながらレジストノズル１５４と一体に移動させる。この超音波照射部１６０の超音波照射走査により、両帯状レジスト液膜Ｒ(1)，Ｒ(2)の境界Ｅ付近では、レジスト液が低粘度化ないし流動化して、液膜表面が基板面と平行な方向（水平方向）に均され、凸凹が除去される。 （もっと読む）

【課題】粒子が凝固することや半導体リソグラフィーにおいて用いられるノズルの先端で蓄積することを実質的に緩和し、あるいはこれらを防止しさえする方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上にリソグラフィー・レジストを吐出するレジスト吐出方法は、以下を具備する。第１ノズルから第１ダミー吐出容器へとレジストが吐出される。前記第１ノズルから前記第１ダミー吐出容器へのレジストの吐出が停止される。前記第１ノズルから半導体ウェハ上にレジストが吐出される。前記第１ダミー吐出容器から第１流体輸送経路に沿ってレジストが前記第１ノズルへと戻される。 （もっと読む）

【課題】耐食性に優れ、高い電気伝導性を有する導電性フッ素樹脂薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブ分散液とフッ素樹脂分散液とを混合したのち、該混合分散液を基板上に塗布、乾燥することを特徴とする導電性フッ素樹脂薄膜の製造方法。前記カーボンナノチューブの直径が、２〜100nmの範囲にあり、長さが1〜500μmの範囲にある。また、前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）樹脂である。 （もっと読む）

【課題】基板上に光硬化性樹脂をスピンコートした後も樹脂層の厚みの均一性が低下せず、スタンパを貼り合わせる際の光硬化性樹脂の流動が生じにくい多層の情報記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高粘度の光硬化性樹脂を揮発性溶媒によって希釈することにより低粘度化させた光硬化性樹脂の溶媒溶液を、スピンコート法で基板上に塗布して樹脂層を形成する。光硬化性樹脂の溶媒溶液の回転塗布中に揮発性溶媒を揮発させることによって、ゲル状の樹脂層とし、樹脂層の厚みの均一性の低下を防止する。 （もっと読む）

【課題】インクの着弾位置制御を容易にしてインクの塗布位置精度を向上する。
【解決手段】複数のピクセル９が所定間隔で並べて形成されたカラーフィルタ基板７の表面と、カラーフィルタ基板７の表面に対して傾斜させてピクセル９の並びと同方向に略同じ間隔で並べて配設された細長状の複数のインク吐出ノズル１８のノズル先端部１８ａとを顕微鏡の視野２０内に同時にとらえて撮像し、撮像された画像を処理してカラーフィルタ基板７に形成されたピクセル９のその並びと同方向側に位置するエッジ９ａとインク吐出ノズル１８の先端部１８ａの軸線との間の水平距離ｄを検出し、該距離ｄが所定値となるようにインク吐出ノズル１８の位置を自動調整し、インク吐出ノズル１８の先端部１８ａからカラーフィルタ基板７に対してカラーインク２２を吐出してピクセル９に塗布するものである。 （もっと読む）