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Fターム[4E068CA01]の内容

レーザ加工 (34,456) | 制御目的 (6,558) | ビーム特性 (2,616)

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ビーム出力 (1,121)
パルス (839)
周波数 (298)

Fターム[4E068CA01]に分類される特許

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【課題】被加工物のサイズや積層状態等に影響されることなく、被加工物を安定に固定して高精度なレーザー加工を行う。
【解決手段】超短パルスレーザー加工装置の加工ステージ110に載置されるレーザー加工冶具1において、被加工物3のレーザービーム121が入射する加工主面3aの上に、全面に接する保護シート20を配置し、固定用ネジ5を介して被加工物3に密着させる構成とし、被加工物3や、当該被加工物3から切り出される微細な部品が加工中に光圧によって位置ずれしたり振動することを防止し、高精度のレーザー加工を可能にした。保護シート20の加工主面3aに対する当接面は、必要に応じて、粘着面20aとすることができる。 (もっと読む)


【課題】樹脂部材同士を溶着させるレーザー溶着において、高い気密性を保持しながら、良好な溶着強度が得られる、レーザー光照射条件制御方法及びレーザー溶着加工方法を提供する。
【解決手段】ポリアミド樹脂部材同士をレーザー光の照射により溶着させるに際し、該部材同士として、用いるレーザー光に対して透過率が20%以上の部材Aと、該レーザー光に対して透過率が1%以下の部材Bを用い、部材A側からレーザー光の照射を行い、下記式の関係を満たす照射条件を選定するレーザー光照射条件の制御方法、及び下記式の関係を満たすレーザー溶着加工方法である。
βX-0.7≦Y≦X-0.7 (βは部材AとBとの隙間関数で、β=1.5Z+0.4、X=d/v[sec]、Y=4×P×α/(πd2)[J/sec・mm2]であり、dはレーザー光のスポット径[mm]、vはレーザー光のスポット走査速度[mm/s]、Pはレーザー光出力[J/sec]、αは部材Aにおけるレーザー光の透過率を示す。Zは部材AとBとの隙間[mm]であり、0〜0.2の範囲である。) (もっと読む)


【課題】レーザ光の照射による熱の影響を可能な限り排除して、所望形状の微細な凹部をローラ表面に形成することができるローラ加工方法、およびローラ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ発振器3により出力されたレーザ光21を加工ヘッド4により集光してローラ2の表面に照射する。エンコーダ5cはローラ2の回転位置に応じた信号を出力する。制御部24は、エンコーダ5cの出力信号に基づいて、ローラ2の表面の同一箇所に、ローラ2が一回転する毎にレーザ光21を照射することを複数回繰り返して凹部を形成するように、レーザ発振器3を制御する。 (もっと読む)


集積回路における導電性リンクを加工するシステムと方法は、異なるパルス幅を有する一連のレーザパルスを使用し、前記導電性リンクの下にある材料に実質的に損傷を与えることなく標的構造のそれぞれの異なる部分を除去する。一の実施形態においては、 超高速レーザパルスまたは一群の超高速レーザパルスは、標的エリアにおける上部パッシベーション層とリンク材の第1の部分を除去する。次に、ナノ秒レーザパルスが、リンク材の第2の部分を除去し、集積回路の2つのノード間の電気的接続を切断する。ナノ秒レーザパルスは、リンクの下にある材料に対する損傷を軽減するかまたは削除するように構成される。 (もっと読む)


【課題】第1基板11の端子領域13を分断せずに第2基板母材32の対向領域のみをレーザー分断する。
【解決手段】第1基板11の外形を形成するための第1分断ライン41に沿って、第1基板母材31及び第2基板母材32を同時にレーザー分断する第1分断工程と、対向領域と第2基板12との境界である第2分断ラインに沿って、第2基板母材32をレーザー分断する第2分断工程とを具備する。第2分断工程では、レーザー光を反射する反射膜14を、第2基板母材32の表面の法線方向から見て第2分断ラインに重なるように、第1基板母材31と第2基板母材32との間に配置した状態で、第2基板母材32をレーザー分断する。 (もっと読む)


【課題】レーザー光の伝搬効率を向上させて、安定した加工品質を確保する。
【解決手段】ワークWに噴流液体を噴射するノズル3と、ノズル3に噴流液体を供給する液体供給手段6と、を有し、ノズル3から噴射された噴流液柱F内に導かれたレーザー光Lによるレーザー加工装置であって、噴流液体を層流状態でノズル3に供給する層流形成流路8を有し、層流形成流路8は、液体供給手段6から供給された噴流液体をノズルの軸線G周りに環状に分配する空洞が形成された分配流路81と、ノズルの軸線G方向下流側において分配流路81に連通して設けられ、分配流路81よりも狭い流路で軸線G周りに環状の空洞が形成された連絡流路82と、ノズルの軸線G方向上流側に隣接して設けられ、噴流液体を貯留してノズル3に供給する液体貯留室83と、を備え、液体貯留室83の外周縁部は、環形状の全周にわたって連絡流路82と連通されている。 (もっと読む)


【課題】段差が無くかつ鮮明なマーキングを有するステンレス鋼、及びステンレス鋼に段差が無くかつ鮮明なマーキングを施す方法を提供すること。
【解決手段】レーザ波長を1059nm〜1061nm、レーザ出力を11W〜13W、レーザ走査速度を49mm/s〜51mm/s、及びステンレス鋼表面とレーザ出力面との距離を351mm〜352mmに設定して、ステンレス鋼表面にレーザマーキングを形成する。ステンレス鋼の種類としては、Fe−Cr−Ni系又はFe−Cr系が適している。 (もっと読む)


ガラス板に切り目をつけるためのシステムおよび方法が開示されている。長さの少なくとも一部分に沿って実質的に均一なピークエネルギー密度を有するレーザビームを生成することができる。このレーザビームは、切り目線を形成するためにガラス板を横切って動かされる。さらに、ガラス板は、この切り目線に沿って分割できる。ある態様において、レーザビームは二峰性であり、約60〜70%のTEM00モードおよび約30〜40%のTEM01*モードからなる。
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【課題】 凹みの小さな面取り加工面を形成することができる脆性材料基板の加工方法を提供する。
【解決手段】 基板10に対する吸収率が0.05〜0.95である波長のレーザ光源を用いて、エッジライン11近傍に入射するようにレーザ光を照射し、エッジラインから基板内部にかけて分布するレーザ光吸収領域14によって基板内部に温度分布を形成し、この温度分布により基板内部に生じた熱応力分布を利用してクラックを進展させるとともにクラックの進展方向を調整することにより、基板内部にクラックを制御することができる熱応力分布場を形成する。 (もっと読む)


【課題】レーザビームの走査回数を低減することが可能な基板分割方法を提供する。
【解決手段】TFT素子基板等の分割対象基板4に対し、当該分割対象基板4の厚さ方向からレーザビームを照射して当該分割対象基板4を分割するにあたり、回折光学素子13でレーザビームを回折することにより、分割対象基板4の厚さ方向全域又はほぼ全域にわたってレーザビームのエネルギーを集光し、当該集光領域に改質領域1を形成する。これにより、基板分割に適した長くて細い集光領域により十分なエネルギー密度を得て分割対象基板4の厚さ方向全域又はほぼ全域にわたる改質領域1を形成することができ、これによりレーザビームの走査回数を低減することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】レーザビームの拡がり角を調整できるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ発振器1から射出されたレーザビームB1を、光ファイバ4を用いて伝送して、被加工物に照射するレーザ加工装置において、レーザ発振器1から射出されたレーザビームB1の拡がり角θ1を調整する調整機構2を、光ファイバ4の入射側直前に設け、調整機構2を用いて、光ファイバ4の許容開口数以下となる拡がり角に、光ファイバ4に入射するレーザビームB1の拡がり角θ2を調整する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の端面の曲げ強度や衝撃強度を向上させて、ガラス基板製造プロセスにおけるガラス基板の割れや欠けを防止し、生産性を向上させることができる新規なガラス基板の面取り方法および装置ならびに面取りされたガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザ光線による面取り方法であって、レーザ光線をガラス基板の端面に対し照射するとともに、面取りされるガラス基板面の少なくとも1部分を加熱して前記ガラス基板の面取される部分より高温に保持するガラス基板の面取り方法および装置ならびに面取りされたガラス基板。 (もっと読む)


【課題】分割予定線に沿う方向に長い改質領域を形成すること。
【解決手段】パルスレーザ光の長軸方向を石英基板Wの分割予定線に沿う方向に一致させるようにした。そのため、例えば、楕円形状のパルスレーザ光の短軸方向を石英基板Wの分割予定線に沿う方向に一致させる方法に比べ、パルスレーザ光の照射領域を分割予定線に沿う方向に拡大でき、分割予定線に沿う方向に長い改質領域を形成できる。 (もっと読む)


【課題】電極に挟まれた電極の損傷を防止すること。
【解決手段】電極6の直上の層に改質領域を形成するときに、つまり、対向基板2の最下層に第4の改質領域dを形成するときには、他の層に第1〜3、5および6の改質領域a〜c,e,fを形成するときよりも、レーザ光の集光性を高めるようにした。そのため、電極6の直上の層においてレーザ光の集光性が向上されることで、当該層を透過したレーザ光の拡散度合いが向上し、電極6に照射されるレーザ光のエネルギー密度を低下でき、TFT基板1および対向基板2に挟まれた電極6の損傷を防止できる。 (もっと読む)


【課題】 比較的容易な操作で高精度な修正を可能とし、連続的に長時間の作業を可能とし、熱ドリフトによる加工精度の低下も防止する。
【解決手段】 原子間力顕微鏡の自由端に探針1が形成されたカンチレバー11と、上記カンチレバー11を駆動して探針1も駆動する駆動手段であるXYZスキャナー12と、上記探針1にフェムト秒レーザー3を照射するフェムト秒レーザー光源4と対物レンズ5により構成されるフェムト秒レーザー照射手段を有し、上記探針1を一主面上にパターンが形成されてなるサンプル6に相対向させ、上記サンプル6上に形成されたパターンの余剰部分に接触させて駆動することにより、上記余剰部分を除去し、余剰部分除去後の探針1に付着している加工屑2にフェムト秒レーザー照射手段からフェムト秒レーザー3を照射し、上記加工屑2をレーザーアブレーションで除去する。 (もっと読む)


【課題】レーザ溶接において外観による接合(溶接)の良否の判定ができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】リードフレーム16に貫通孔17を形成し、金属ブロック18、20、22に凸部19、21、23を形成して、この凸部19、21、23を貫通孔17に嵌合して、レーザ光15をこの凸部19、21、23に照射して溶融し、貫通孔17の側壁と凸部19、21、23を接合することで、リードフレーム16と金属ブロック18、20、22をレーザ溶接する。 (もっと読む)


低吸収TTIr工程を使用して溶接されるプラスチック部品を通過した吸収されなかった赤外レーザー光が、工程内で再吸収されるように低吸収の溶接界面まで再循環される。赤外レーザー光のビームは、溶接されるプラスチック部品、つまり第1の透過部品と第2の吸収(または部分吸収)部品とに方向付けられる。赤外レーザー光は透過部品に入射して、まず溶接される透過部品を通過して、2つの部品の接合部である溶接界面まで進む。溶接界面では、赤外レーザー光は赤外吸収添加剤により部分的に吸収されるか、吸収部品により部分的に吸収されるか、またはその両方で部分的に吸収される。吸収されなかった赤外レーザー光の一部は、そのまま吸収部品を通過して、反対側から出射する。その後、この赤外レーザー光は溶接界面の方向に再度方向付けられる。2回目の通過(および任意のその後の通過)で、より多量の赤外レーザー光が部分的に吸収する媒体(赤外吸収添加剤、吸収部品、またはその両方)内で吸収される。一態様では、部品は、透過部品が吸収部品を同軸に囲む管状部品である。赤外レーザー光は、管状部品を同軸に囲む円筒ミラーを使用して再度方向付けられる。一態様では、部品は管状部品と継ぎ手とを含み、赤外レーザーは部品を囲む球面ミラーを使用して再度方向付けられる。 (もっと読む)


【課題】超短パルスにより効率的に加工する方法を提供する。
【解決手段】近赤外である第1の波長を有するの第1のレーザ超短パルス光と、第1のレーザ超短パルス光から非線形光学結晶ユニットを用いて波長変換した紫外領域である第2の波長を有する第2のレーザ超短パルス光を加工物体に照射する。このとき、第1のレーザ光に対して100ps以内の遅延時間を与えて照射する。加工能率(照射エネルギーに対する加工量の割合)を増大するとともに、第1のレーザ光が物体を透過する光量を低減させ下地に与えるダメージを軽減するなど、加工品質を向上する。 (もっと読む)


【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 第1経路に沿い第1ビームを出射し、第2経路に沿い第2ビームを出射するレーザ光源と、被加工面を備える加工対象物を保持するステージと、第1経路に沿い伝播する第1ビームと、第2経路に沿い伝播する第2ビームとが、共通の第3経路に沿い伝播するように第1及び第2ビームを重畳させるビーム重畳器と、第1経路上に配置され、第3経路上の第1仮想面で第1ビームの断面内の光強度分布を均一に近づける第1光学系と、第2経路上に配置され、第1仮想面で第2ビームの断面が、第1ビームの断面よりも大きく、かつ第1ビームの断面を内部に含むように断面を整形するとともに、第1仮想面での断面内の光強度分布を均一に近づける第2光学系と、第1仮想面の第1及び第2ビームの断面を、被加工面上に結像させる第1結像光学系とを有し、第1仮想面上での第2ビームのパワー密度が、第1ビームのパワー密度よりも低いビーム照射装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】金属や半導体、セラミックス、プラスチックの表面に被覆したTiN、TiC、TiCN、DLCなどの硬質被膜を剥離するに際し、下地素材を損傷することなく被覆被膜のみを剥離することができる硬質膜の剥離方法を提供する。
【解決手段】金属や半導体、セラミックス、プラスチックの表面に被覆したTiN、TiC、TiCN、DLCなどの硬質被膜を剥離するに際し、フェムト秒レーザを照射することにより、下地素材を損傷することなく被覆被膜のみを剥離するようにしたことを特徴とする硬質膜の剥離方法。 (もっと読む)


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