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Fターム[4F042BA13]の内容

塗布装置−一般、その他 (33,298) | 制御 (5,159) | 制御変量 (5,140) | 流量 (809) | 給、排気の流量 (131)

Fターム[4F042BA13]に分類される特許

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【課題】基材の表面に塗布された塗膜を乾燥するにあたり、乾燥後に塗膜に残留する溶剤の量を大きく減少させることができるとともに塗膜表面の質が悪化することを防止することにより、乾燥後の塗膜の品質を良好なものとすることができる乾燥装置および乾燥方法を提供する。
【解決手段】各温度測定部24により測定された塗膜の表面温度に基づいて、基材W上の塗膜に対する各乾燥ノズル22による乾燥強度を調整するよう各乾燥ノズル22を制御する。この際に、温度測定部24により測定された塗膜の表面温度が予め設定された設定温度以上となった場合には、基材Wの搬送方向におけるこの温度測定部24よりも下流側にある各乾燥ノズル22による塗膜に対する乾燥強度を、当該温度測定部24よりも上流側にある各乾燥ノズル22による塗膜に対する乾燥強度よりも大きくする。 (もっと読む)


【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置20は、基板200を略水平に保持する基板保持部30と、基板200に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部42と、主走査機構ガイド部42により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ44と、を有する主走査機構40と、スライダ44により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板200に塗布液を吐出する吐出部50と、吐出部50に接続されるとともに吐出部50に塗布液を導く可撓性の塗布液配管80bと、塗布液配管80bの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ44の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部100と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 ノズルから吐出された液滴に変質等が生じないように吐出空間の雰囲気を置換することが可能なデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 デバイスの製造方法は、基板をチャンバ内に搬入して載置台に載置する工程と、待機位置において封止部材により液滴吐出ノズルを隔離した状態で、チャンバの内部を減圧する減圧工程と、ガス供給機構からチャンバ内にパージガスを導入してチャンバ内部の雰囲気を置換するとともに大気圧状態に戻す雰囲気置換工程と、封止部材による液滴吐出ノズルの隔離を解除し、液滴吐出ノズルを吐出位置に移動させて被処理体へ向けて前記液滴を吐出する吐出工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が装置内部のうち基板以外の部分に付着すると、装置を汚してしまうという問題があるので、装置内の環境を清浄化する。
【解決手段】基板収容装置ACMは、基板Sを保持する基板保持部10と、前記基板保持部10に保持された状態の前記基板Sを囲うカップ部20と、前記基板Sと前記カップ部20との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部30とを備える。 (もっと読む)


【課題】被処理基板上にレジストを精度良く形成することができるレジスト塗布装置を得る。
【解決手段】チャック1は、ウェハ2を保持して回転する。ノズル3は、ウェハ2上にレジスト液を供給する。チャック1をコーターカップ4が覆っている。チャック1の上方においてコーターカップ4に吸気孔5が設けられている。コーターカップ4に排気孔6が設けられている。吸気孔5に筒状治具13が取り付けられている。筒状治具13の空洞内に風速計14が配置されている。筒状治具13の中心軸は、チャック1の回転中心と一致する。 (もっと読む)


【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Wを液処理する液処理装置1において、基板Wを水平に支持し、基板Wと共に回転可能な支持部材10と、支持部材10と共に基板Wを液処理するための処理室Sを形成し、処理室S内に気体を流入させる開口部24を備えるカバー20と、処理室S内において基板Wに上方から処理液を供給する液供給部材30と、支持部材10の外周部13とカバー20の外周部23との間に形成される環状間隙GPを取り囲み、環状間隙GPを介して、回転する基板Wから振り切られる処理液を受け取るカップ40と、環状間隙GPを調節する調節機構122と、処理室Sの開口部24に液供給部材30を接近または離間させる移動機構132とを有する。 (もっと読む)


【課題】塗布膜の乾燥効率を高めて乾燥時間を短くすることができる乾燥装置および該乾燥装置を組み込んだ熱処理システムを提供する。
【解決手段】乾燥部40のチャンバ41内には、5個の上側熱風噴出部45、6個の上側排気ボックス56、5個の下側熱風噴出部51および6個の下側排気ボックス55が設けられている。塗布膜が形成された基材5は搬入口41aから搬出口41bに向けて搬送される。上側熱風噴出部45および下側熱風噴出部51によって基材5の上下から熱風を吹き付けるとともに、上側排気ボックス56および下側排気ボックス55によって排気を行う。乾燥部40のチャンバ41内に供給する熱風の流量よりもチャンバ41から排気する気体の流量を大きくすることにより、チャンバ41内を大気圧よりも低い減圧雰囲気とし、溶剤の蒸発を促進して塗布膜の乾燥効率を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】液滴ジェット方式を用いて媒体へ薬液を塗布するにあたって、薬液を求められる量だけ正確に塗布可能とする技術を提供する。
【解決手段】薬液塗布装置1の制御部60は、塗布ヘッド31と基材シート90とを相対的に移動させつつ、塗布ヘッド31の積層圧電素子に制御信号を印加して塗布ヘッド31のノズルから基材シート90に薬液を吐出させることによって、塗布処理を実行させる。塗布処理に先立って、制御部60は、積層圧電素子を駆動する制御信号の周波数の変化に伴う、ノズルから吐出される液滴量の変動情報を取得し、当該変動情報を用いて、塗布処理において塗布ヘッド31と基材シート90とを相対的に移動させる相対移動速度と、積層圧電素子320に印加する制御信号の周波数とを決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、防爆層内の換気用空気による乾燥効率を向上し、かつ、簡易な構成で防爆構造を実現する乾燥装置を提供することを課題とする。
【解決手段】乾燥装置1は、遠赤外線IRを発生する遠赤外線ヒーター10を含む加熱層5と、加熱層5に対して独立して設けられる防爆層7と、を備え、防爆層7に加熱層5で発生させた遠赤外線IRを導入して、油系溶媒を含むペースト3を乾燥させる乾燥装置である。加熱層5と防爆層7との間に、加熱層5の熱が防爆層7に伝達されることを防止するとともに、遠赤外線IRを透過する断熱層6を備え、防爆層7内の加熱層5側と反対側に、防爆層7内の雰囲気を換気する給排気システム30が設けられ、給排気システム30は、防爆層7内でペースト3の塗工面と平行に空気を流す。 (もっと読む)


【課題】 流動樹脂粉を使い、鉄系材料の配管部品の内面に樹脂皮膜を形成する実用的な方法を得ること。
【解決手段】 配管部品の内面に流動樹脂粉を流して樹脂皮膜を形成するのは次のようにする。加熱した配管部品の、一方の接続部を流動槽の流動樹脂粉の中に続く入口管に接続し、他方の接続部を集塵機の続く出口管に接続して、必要に応じて配管部品を回転させたり傾けたりしながら、流動槽の圧力を高めて、流動樹脂粉を入口管に押込み配管部品へ流して、樹脂皮膜を形成する。配管部品を通り抜けた流動樹脂粉は、集塵機で樹脂粉と空気に分離して回収する。 (もっと読む)


【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Sが通過する第1の搬入口62Iおよび第1の搬出口62Oを有する筐体と、前記第1の搬入口62Iから前記第1の搬出口62Oへ向かう方向に前記基板Sを搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Sを加熱するヒータ72と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第1の搬入口62Iおよび前記第1の搬出口62Oから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第1の搬入口62Iおよび前記第1の搬出口62Oの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 (もっと読む)


【課題】 シャワーヘッドから塗料を吐出するための液圧の調整を作業中に任意に行うことができるシャワー式塗装装置を得る。
【解決手段】 塗料をシャワー状に吐出して基材の表面に塗装を行うシャワー式塗装装置であって、シャワー板1に設けられた多数のシャワー孔2から塗料を吐出するシャワーヘッド3と、シャワーヘッド3の塗料供給口4に接続されてシャワーヘッド3に塗料を供給する塗料供給容器部5と、塗料供給容器部5の塗料供給口6に接続された塗料供給配管7と、塗料供給配管7を通して塗料供給容器部5に塗料を供給する塗料供給ポンプ8と、塗料供給配管7に分岐接続されて塗料供給配管7及び塗料供給容器部5内の空気及び塗料の排出を行う空気・塗料排出配管9とを備えた。 (もっと読む)


【課題】乾燥室内に配置された被塗装物の乾燥効率を高めつつ、低コストかつ省エネルギーを実現した塗装乾燥ブースを提供する。
【解決手段】塗装乾燥ブース1は、天井2aに、通気口6の一部を遮蔽する遮蔽部8が設けられている。通気口6は、遮蔽部8により遮蔽され、部分通気口6aが残る。この残った部分である部分通気口6aの天井2aにおける面積は、被塗装物となる車両Cが天井2aに対して投影される際の投影面積に応じて確定される。具体的には、天井2aは、全面にメッシュ状の通気口6を備えつつ、この通気口6の四方を方形状に遮蔽する板状の遮蔽部8を複数備える。板状の遮蔽部8は、各辺に対応して長方形状のものが2枚ずつ、計8枚設けられている。 (もっと読む)


【課題】フラックス転写装置において、シリンジのフラックス切れによる生産停止を回避して生産効率を向上させながらフラックスの無駄を無くして生産コストを低減する。
【解決手段】フラックスを貯留する2本のシリンジ81を設け、各シリンジ81の配管88にそれぞれ電磁バルブ90を設け、転写テーブル50にフラックスを供給する場合は、いずれか一方の電磁バルブ90のみを開弁して、いずれか一方のシリンジ81のみからフラックスを供給する。1本の圧縮エア供給配管93に設けた圧縮エア流量センサ94で検出した圧縮エア流量が判定しきい値以上であるか否かで圧縮エア供給先のシリンジ81がフラックス切れであるか否かを判定し、フラックス切れと判定されれば、各シリンジ81の電磁バルブ90の開弁/閉弁をそれぞれ切り替えて、圧縮エア供給先を他のシリンジ81に切り替えて当該他のシリンジ81からフラックスを転写テーブル50に供給する。 (もっと読む)


【課題】不活性ガスの供給流量にばらつきが生じてもチャンバー内を圧力を安定して保つことができ、初期動作時、不活性ガスの供給流量を増やして不活性ガス化に必要な時間を短縮させることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を密封状態に収容するチャンバーと、チャンバー内に不活性ガスを供給するガス供給部と、チャンバー内のガスを排気するガス排気部と、を備えており、前記チャンバー内の圧力がチャンバー外の圧力よりも高いチャンバー設定圧力になるように、前記ガス供給部の不活性ガスの供給流量と前記ガス排気部の排気流量とが調整される構成とする。 (もっと読む)


【課題】 粉体塗装ガンから吐出される総エアー量の調整を行っても、粉体塗装ガンから吐出される単位時間当たりの粉体量を一定に保つことができるようする。
【解決手段】 吐出口14から搬送ホース6を介して粉体のエアー搬送を行うインジェクター12を備えた粉体搬送装置において、メインエアーノズル7から供給されるメインエアー量を、吐出口14から搬送ホース6に供給する粉体の設定吐出量が得られる量とし、サブエアーノズル8から供給されるサブエアー量を、搬送ホース6に供給する総エアーの設定量からメインエアー量を差し引いた量に制御し、インジェクター12の吐出口14から吐出される総エアー量を増減させても、インジェクター12の吐出口14から吐出される総エアー量中に含まれる単位時間当たりの粉体量を一定に保つことができるようにした。 (もっと読む)


【課題】 例えば太陽電池用のフィンガー配線パターンなどのパターンを、その開始端も含めて均一に形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 ペーストに加えるせん断応力の増加に応じたペーストの粘度変化(粘度特性)を測定する(ステップS10)。測定した粘度特性に応じて、ノズルからのペーストの吐出を開始する際における基板の移動速度条件を調整する(ステップS20)。調整された速度条件で基板を移動させるとともにノズルからペーストを線状に吐出して基板上に線状のフィンガー配線パターンを塗布形成する(ステップS30)。 (もっと読む)


【課題】処理液ノズルからの処理液の吐出の有無及び処理液ノズルから吐出される処理液の吐出状態の変化の有無を正確に判定することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Wの表面に、処理液供給部7から塗布液Rを供給して基板の表面に向けて吐出させて液処理をする液処理装置において、処理液の流路10eを形成したノズル10と、ノズルの先端部10dから基板表面W1間の領域に光Lを照射する光源110と、ノズルと基板表面間の領域を撮像する撮像部17と、ノズルから基板に向けて処理液を吐出するための吐出信号を出力すると共に撮像部により撮像を開始させる制御部9aと、基板に向けて吐出される処理液中に光が入射して処理液に反射されたときの光の明暗を撮像する撮像結果に基づいて識別することによって、ノズルからの処理液の吐出の有無及びノズルから吐出される処理液の吐出状態の変化の有無を判定する判定部9bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】毛管状隙間を有するノズルによりレジスト塗布面を迅速に均一に乾燥させることが可能なレジスト塗布方法および塗布装置、並びに該レジスト塗布方法を用いたフォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】被塗布面10aを下方に向けた基板10にレジスト液を塗布する方法であって、液槽に溜められたレジスト液を、ノズル24の毛細管現象によって被塗布面10aに導いて接液させ、ノズル24と基板10とを水平方向に相対移動させることにより、被塗布面10aにレジスト液110を塗布し、被塗布面10aに対し、一定方向にほぼ一定の相対流速で被塗布面10aと平行な気流を供給し、気流を被塗布面10aに接触させることにより、レジスト液110の乾燥を行うレジスト塗布方法および塗布装置、並びに該レジスト塗布方法を用いたフォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板の搬送高さを高精度に制御し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布ステージ4は、空気を噴出する噴出孔40aと、空気を吸引する吸引孔40bとが設けられている。噴出孔40aのそれぞれには、空気を供給する供給ラインL1が接続されており、吸引孔40bのそれぞれには、空気を吸引する吸引ラインL2が接続されている。供給ラインL1の供給流量は、流量計14aが検出する流量値に基づいて、ニードル弁13の開度が調整されることによって制御される。また、吸引ラインL2の吸引流量は、流量計14bが検出する流量値に基づいて、ニードル弁19aの開度が調整されることによって制御される。なお、この供給流量および吸引流量の制御は、基板Wが塗布ステージ4上に搬送されてくるよりも前に実行される。 (もっと読む)


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