【課題】前処理に用いる光照射部の光量を簡便な構成で効率的に測定することができる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材上に液体の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材の表面に活性光線を照射して基材の表面に対する所定の処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。処理部９は、同一面内における一方向に沿って配列されて活性光線を照射する複数の照射部３２ａと、複数の照射部３２ａの光量を測定する光量測定部３５と、光量測定部３５を複数の照射部３２ａに対して昇降可能とする昇降機構３６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を利用した基板上の異物を検知する異物検知装置の光軸がズレることなく、吐出装置と固定する。
【解決手段】シート状基板と相対的に移動することにより基板を走査し、基板表面に塗布液を吐出する塗布装置において、塗布液の吐出装置の走査方向上流側に配置され、基板上の異物を検知する異物検知装置を少なくとも有する塗布装置であって、前記異物検知装置はレーザー光を基板表面と平行に照射する投光装置、前記投光されたレーザー光を受光する受光装置、投光装置ならびに受光装置それぞれに当接する面に弾性体を有し前記投光装置または受光装置の保持部材に対し接離自在のＬ型部材、および前記Ｌ型部材を前記投光装置または受光装置の保持部材に対し接離動作を行う作動部材により構成する。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境下に置かれる電子部品にも適用することが可能なマーキングを提供する。
【解決手段】電子部品の製造方法は、光硬化性を有しＮ−ビニルカプロラクタムを５質量％以上２０質量％以下の範囲で含有するインク４５を、電子部品である半導体チップ１２へ塗布してマーキングを行なう塗布ステップ（ステップＳ４、Ｓ９）と、塗布されたインク４５へ、硬化率９５％以上に硬化するように光を照射する硬化処理ステップ（Ｓ３〜Ｓ６、Ｓ８〜Ｓ１１）と、硬化処理ステップの後、インク４５を１５０℃以上２００℃以下の温度で加熱する加熱ステップ（ステップＳ１５）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】インクミストの除去機構を比較的簡単な構成で実現すること。
【解決手段】記録媒体６との対向面に吸込口１４が形成され且つ冷却用ファン２０が空気を吸い込む領域に排出口１５が形成されたダクト１３をキャリッジ１０の内部に設けた。そのため、ダクト１３内の空気が排出口１５から冷却用ファン２０に吸い込まれることで、記録ヘッド１２周辺の空気が吸込口１４からダクト１３に流入するようになる。それゆえ、インク吐出時にインクミストが発生しても、記録ヘッド１２周辺を漂っているインクミストを含む空気をダクト１３で吸い込むことができる。すなわち、冷却用ファン２０をインクミストの除去にも利用することができ、インクミストの除去機構を比較的簡単な構成で実現できる。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、オゾンを含有する雰囲気で紫外線を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】電磁波の照射領域を規制し、不要な箇所への照射を防止し、インク等の劣化を抑制する。
【解決手段】照射装置１１に、電磁波を照射する照射部２０と、基板１３に形成された貫通孔１７を有する規制部２１を備え、照射された前記電磁波の照射方向を規制する。 （もっと読む）

【課題】薄膜成膜装置および薄膜成膜方法において、ウエットプロセスによって薄膜を成膜する際に、成膜の繰り返しにおける膜厚ばらつきを抑制することができるようにする。
【解決手段】被成膜体５０上に液状の成膜材料１１を供給し、被成膜体５０を回転させて成膜材料１１による薄膜を形成する薄膜成膜装置１として、被成膜体５０を保持して回転させる回転保持部２と、回転保持部２の回転によって被成膜体５０上で薄層化される成膜材料１１に測定光Ｌ_０を照射して、成膜材料１１を含む被成膜体５０の透過率、反射率のうちの少なくとも一つからなる光学特性値を測定する光学特性測定部と、光学特性測定部で測定された光学特性値が予め記憶された薄膜の目標膜厚に対応する目標値に達したときに回転保持部２の回転駆動を停止する制御ユニット６と、を備えるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】シール若しくは接着剤の流動防止のための線幅を細く維持しつつ、均一で高い充填空間を確保できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。
【解決手段】紫外線の照射により硬化する接着剤Ｒを供給する接着剤供給装置において、ワークＳ１に対して線状に接着剤Ｒを供給する供給部１０と、供給部１０による接着剤Ｒの供給とともに、接着剤ＲにおけるワークＳ１との界面に対して、界面における接着剤が硬化するのに必要なエネルギーを有する紫外線を照射する照射部１１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】好適な画像品質を確保し、搬送方向上流側に向かう活性エネルギー線を好適に遮蔽することができるインクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】搬送部１０は産業資材９０を搬送し、記録部は活性エネルギー硬化型インクを吐出し、照射部は活性エネルギー線を照射する。上流側遮蔽機構４０は記録部と照射部との間に設けられ活性エネルギー線を遮蔽する。上流側遮蔽機構４０を閉鎖する場合、第一遮蔽部４１０の遮蔽材４４０を搬送部１０の幅方向の一方側から他方側の方向に移動させ、第二遮蔽部４２０の遮蔽材４４０を他方側から一方側の方向に移動させる。開放する場合、第一遮蔽部４１０の遮蔽材４４０を他方側から一方側の方向に移動させ、第二遮蔽部４２０の遮蔽材４４０を一方側から他方側の方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティング法において基板上に形成される塗布膜の膜厚について高い面内均一性が得られる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハＷの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。そこで、予めＬＥＤ４１の照射を含まない処理レシピを用いてウエハＷにレジスト塗布処理を行い、このウエハＷの面内の膜厚分布を求める。このようにして、ウエハＷの面内の膜厚分布における凹部８を事前に把握しておき、その上で、この膜厚分布における凹部８の位置にＬＥＤ４１を照射してウエハＷ上の当該部位を局所的に加熱する。 （もっと読む）

【課題】自在な描画表現を可能とすべく、描画内容等に応じて部分的に濡れ性の調整を可能とする描画装置等を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、複数の単位吐出部を有する液滴吐出手段を相対的に走査しながら、複数の吐出ノズル２１から描画用インク材を選択的に吐出させて、ワークＷに描画処理を実施するインクジェットヘッド１８と、ワークＷに対し、複数のＬＥＤ３３を有する処理用光照射手段３１を相対的に走査しながら、複数のＬＥＤ３３から紫外線を選択的に照射させて、ワークＷに濡れ性に関する表面改質処理を実施する紫外線照射装置と、インクジェットヘッド１８および紫外線照射装置を制御する制御装置と、を備え、制御装置は、描画データに基づいて描画処理を実施すると共に、描画処理に先行し、描画データに基づいて表面改質処理を実施する。 （もっと読む）

【課題】記録媒体上の光硬化型インクを確実に硬化させると共に、空走査の際にノズルの目詰り等を防止することができる記録装置の制御方法等を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、インクジェットヘッド５１の複数の有効ノズル５６ａから光硬化型インクをワークＷ上に選択的に吐出着弾させて未硬化画像６０を形成すると共に、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を光硬化させる主画像形成工程Ｓ２と、その後、ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を追補的に光硬化させる副画像形成工程Ｓ３と、副画像形成工程Ｓ３の中で、全有効ノズル５６ａのそれぞれについて、少なくとも１のインク滴を予備吐出する予備吐出工程Ｓ３２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】記録媒体上の光硬化型インクを確実に硬化させると共に、空走査の時間を短縮することができる記録装置の制御方法および記録装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、インクジェットヘッド５１を駆動して光硬化型のインクをワークＷ上に吐出着弾させて未硬化画像６０を形成すると共に、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を光硬化させる画像形成走査工程Ｓ１と、画像形成走査工程Ｓ１の結果、光硬化のための積算光量が不足するワークＷ上の光量不足領域６１に対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、紫外線照射装置を駆動して積算光量を充足させる光硬化走査工程Ｓ２と、を備え、光硬化走査工程Ｓ２における相対的な移動を、画像形成走査工程Ｓ１における相対的な移動より高速で行う。 （もっと読む）

【課題】対象物に置換ガスを吹き付けて該対象物の表面近傍を置換ガスに置換するガス置換装置において、置換効率を向上させたガス置換装置を提供する。
【解決手段】搬送されるシート状のウェブ１１の表面に向かって吹き出し口２３から置換ガス１６を吹き出して該ウェブ１１の表面の雰囲気を該置換ガス１６に置換するガス置換装置において、吹き出し口２３は、ウェブ１１の表面に平行になるように配置される対向面２１に形成されてウェブ１１の表面に直交する方向に沿って置換ガス１６を吹き出すとともに、対向面２１を搬送方向にて該吹き出し口２３よりも上流側の上流側対向面２４と下流側の下流側対向面２５とに区画している。そして上流側対向面２４とウェブ１１の表面との間隔が０．５ｍｍ以上３．５ｍｍ以下に設定される。 （もっと読む）

【課題】光照射装置の温度変化に伴う発光波長シフトによるインクの光吸収量の変化を低減することが可能な記録装置、光照射装置及び記録方法を提供する。
【解決手段】光照射装置の第１の発光ピーク波長λ_ｒ１は、光硬化型インクの第１の吸収ピーク波長λ_ａ１より第１の所定量短波長側に存在しており、光照射装置の第２の発光ピーク波長λ_ｒ２は、光硬化型インクの第１の吸収ピーク波長λ_ａ１と等しいかまたは第２の所定量長波長側に存在することを特徴とする記録装置。 （もっと読む）

【課題】クラックやアブレーションにより劣化が生じることを低減させる。
【解決手段】基板上の薄膜形成において、薄膜形成にかかるインク滴が塗布された領域に対応した位置の、そのインク滴が塗布された面の裏面に、塗布された領域よりも照射範囲を大きくしたレーザ光を照射し、そのインク滴が塗布された領域に対応した位置の、そのインク滴が塗布された面に、塗布された領域に対応した範囲にレーザ光を照射してインク滴を加熱して焼成させる。 （もっと読む）

【課題】紫外線硬化部材を効率よく硬化させる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線照射装置は、紫外線を照射する光源が複数配置され、第１照射部と第２照射部とを有する照射部と、前記光源の前記紫外線の照射方向から見たときに、前記第１照射部に配置された複数の前記光源と重なるように配置された第１集光レンズと、を備え、前記第１照射部から照射され、前記第１集光レンズによって集光されて得られる前記紫外線の照射強度は、前記第２照射部から照射される前記紫外線の照射強度よりも強い。 （もっと読む）

【課題】レジスト吐出時に、微小気泡を抑制させる塗布装置を提供する。
【解決手段】レジスト供給源３０から供給されたレジスト液をベローズポンプ１４で加圧することによりレジスト液中に含まれる微小気泡をレジスト液に溶解し、さらに、第１の圧力制御ポンプ２４により予め決められた圧力に加圧制御されるコータチャンバー２０内にコータ１８を収容し、この加圧雰囲気下で微小気泡を溶解させた状態を保ったままのレジスト液をコータ１８によりウェハＷに塗布する構成にした。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する。
【解決手段】半導体装置の製造装置１は、塗布対象物Ｗの塗布面に紫外線を照射する照射部５と、照射部５により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する塗布部６とを備え、照射部により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する。また前記塗布対象物を支持するハンドを有し、前記ハンドにより前記塗布対象物を搬送する搬送部をさらに備え、前記照射部は、前記搬送部により移動する前記塗布対象物の前記塗布面に前記紫外線を照射する。前記照射部は、前記紫外線を発生させるランプと、前記ランプによって発生する前記紫外線の光量を検出する検出器と、前記検出器によって検出された前記紫外線の光量に基づいて前記塗布面に対する照射光量を設定値に維持するように調整する調整手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化及びコスト増を抑制できる流体噴射装置を提供する。
【解決手段】所定の光の照射を受けて硬化する材料を含む流体を記録媒体Ｗに向けて噴射する噴射ヘッド４２と、記録媒体に向けて所定の光を照射する照射装置２０と、所定の光が有するエネルギーの少なくとも一部を用いて、噴射ヘッドからの噴射前の流体を加熱する加熱装置２５と、を備える。 （もっと読む）