【課題】 各種のパターンを高精細かつ高精度にしかも簡単な工程で形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 表面に親液性の部分１ａと撥液性の部分１ｂとを有する基板１上に流動性を有する材料３を塗布した後、この材料３が塗布された基板１と表面が親液性の部材４とを、この部材４と材料３とが互いに接触するように相対的に移動させる。親液性の部分１ａの表面自由エネルギーは５０ｍＪ／ｍ² 以上、撥液性の部分１ｂの表面自由エネルギーは３０ｍＪ／ｍ² 以下、表面が親液性の部材４の表面自由エネルギーは５０ｍＪ／ｍ² 以上とする。基板１と部材４との間隙は０．１μｍ以上１０ｍｍ以下とする。流動性を有する材料３は、液体、混合溶液、分散液等である。移動速度は０．０１ｍｍ／ｓ以上１０００ｍｍ／ｓ以下とする。 （もっと読む）

【課題】 処理ごとにカップ内の洗浄を行うことにより、乾燥固化が著しい処理液であっても確実に洗浄可能で、装置稼働率を低下させることがない回転塗布装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板Ｗの処理ごとにエッジリンスノズル２１に対する飛散防止カップ７及び整流板１７の位置を変えることによって、飛散防止カップ７の一部が少しずつ洗浄され、ある枚数の基板Ｗに対する処理を終えた時点でその全面を洗浄できる。したがって、ＳＯＧ液が飛散防止カップ７で固化してしまう前に洗浄するので、付着したＳＯＧ液を容易に除去でき、装置稼働率を低下させることがない。その上、飛散防止カップ７の全面を一度に洗浄するのではなく、一部を少しずつ洗浄してゆくので、洗浄液の気化に伴う雰囲気温度の著しい低下が抑制でき、膜厚の面内均一性を低下させることがない。 （もっと読む）

【課題】複複雑な形状を有するセラミック積層体においても、絶縁樹脂を均一な厚みで効率よく塗布することができる絶縁樹脂の塗布方法及びその塗布装置を提供すること。
【解決手段】塗布装置１は、セラミック積層体３を保持する保持部１２１と、絶縁樹脂を吐出する複数のノズル２３を備えたノズルヘッド部２２と、ノズルヘッド部２２を、セラミック積層体３の側面３０に対面させた状態で積層方向に沿って相対移動させる移動手段とを有する。ノズル２３の開口部２３１の位置または／および開口径は、セラミック積層体３の側面形状に応じて変化させてある。 （もっと読む）

【課題】アプリケータによる塗工液の塗布ムラをなくし、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】長尺状の可撓性フィルム２に連続して供給された塗工液７を均一の厚さに均すアプリケータ９において、可撓性フィルム２の幅方向に亘って、可撓性フィルム２と塗工液７の膜厚に相当する所定の間隙２６を隔てて形成されたバーコータ２０と、バーコータ２０の両側面に設けられ塗工液７の塗布領域を規制するストッパー２２とを有し、ストッパー２２には、バーコータ２０に供給された余剰の塗工液７を上記塗布領域外へ逃がすスリット部２８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 液滴吐出方法でレンズ等の光学部材を形成する場合に、光学部材の製造不良を低減することができる電気光学素子の製造方法、及び電気光学素子の製造装置を提供する。
【解決手段】 電気光学素子起動工程により、電気光学素子の発光面及び受光面を起動させ、第１測定工程により、光学部材の液状材料を吐出するための液滴吐出ヘッドが有する反射板によって、当該発光面から放出される放出光を反射して、当該受光面に入射した受光光の光学特性を測定することにより第１の光学測定データを取得し、ヘッド位置決め工程により、当該第１の光学測定データに基づいて液滴吐出ヘッドを液滴吐出位置に位置決めする。 （もっと読む）

本発明は、平坦な基板を保持する回転自在で、オプションとして加熱自在の装置に関する。この装置は、支持面上に基板を載置及び保持する支持装置を備え、オプションとして、加熱装置と、支持装置を回転させる装置と、支持面に対向する基板の面に流体、例えば、溶剤を供給する装置とを備える。基板を支持及び保持する支持装置が回転させられている時に、流体が塗布される。
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【課題】ボード材料の表面部分を液体材料でコーティングするための装置を提供する。
【解決手段】本装置は、コーティング材料を供給するホイールと、コーティング材料を移動して位置決めする圧縮空気とを備えている。本発明は、更に、表面コーティング方法、及び仕上げを施した表面部分を持つフロアボードに関する。
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【課題】 エッジリンスを含めた一連のレジスト塗布処理をより短時間で行う。
【解決手段】 レジスト塗布装置２０に，溶解パラメータの異なる複数の溶剤供給ノズルＳ_１〜Ｓ_４を設ける。エッジリンス時に用いられる溶剤供給ノズルには，レジスト液中に含まれる塗布溶剤に対して溶解パラメータが設定値以上離れた除去溶剤を吐出するものが選択される。レジスト塗布処理時には，回転されたウェハＷの中心部にレジスト液供給ノズルによりレジスト液が吐出され，所定の膜厚のレジスト液の液膜が形成される。その直後，ウェハＷ上のレジスト液が未乾燥の状態で，エッジリンスが開始され，前記選択された溶剤供給ノズルにより，ウェハＷの周縁部に除去溶剤が供給される。このとき供給された除去溶剤は，ウェハＷ上のレジスト液に馴染まないので，除去溶剤により周縁部上のレジスト液のみが適正に除去される。 （もっと読む）

【課題】 塗布液塗布量を計量を中断することなく連続的で正確な計量ができる塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定方法を提供する。
【解決手段】塗布液を塗布液供給タンクから供給ポンプを経て塗布器へ供給し、前記塗布器からベースに塗布液を塗布し、前記塗布液のうち掻き落とされた過剰塗料を前記塗布液供給タンクへ回収するようにして成る後計量系の塗布液塗布装置において、前記塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算するようにした。 （もっと読む）

【課題】 処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。
【解決手段】 基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。一方、洗浄力（除去率）に優れる内部混合型ノズル６から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル６を基板Ｗの端縁位置Ｅｂと境界位置Ｋｂとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が速い基板端縁部Ｗｓを洗浄処理する。これにより、基板中央部Ｗｃと基板端縁部Ｗｓとの各処理領域に対応した最適な洗浄を行うことができ、基板全面を高品質に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥もなく、表面形状も均一な安定且つ塗布の良好な塗布面が得られ、性能も良好な平版印刷版原版、そのバー塗布製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に親水性層塗布液と、熱溶融性粒子を含有する画像形成層塗布液を、この順に設けてなる平版印刷版原版のバー塗布製造方法であって、該画像形成層は、連続的に搬送される親水性層が塗布された支持体上に過剰量の該画像形成層塗布液をフィルターを通過させ塗布した後、過剰量の該画像層形成塗布液をバーを用いて掻き落し塗布により形成し、掻き落された該画像形成層塗布液は液循環させ再び塗布液とするが、該画像形成層塗布液に含まれる熱溶融性粒子の最も大きい平均粒子径をＡ（μｍ）とし、フィルターろ過精度をＢ（μｍ）とすると、５Ａ≦Ｂ≦１００Ａであることを特徴とする平版印刷版原版のバー塗布製造方法、平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法。 （もっと読む）

【課題】塗布膜液量を５ｃｃ／ｍ² 以下に薄膜塗布する場合でも、帯状支持体と計量用のロッドとが接触しないようにできるので、塗布層表面に欠陥を発生させることがない。
【解決手段】連続走行する可撓性の帯状支持体１４に給液流路１０から塗布液を所望塗布液量よりも過剰に塗布した直後、帯状支持体１４の塗布面側を、帯状支持体１４がラップされるロッドラップ面の下流側端部近傍が切り欠かれた切欠き部４２Ａを有すると共に、塗布中は回転しないように固定された切欠きロッドにラップさせる。 （もっと読む）

【課題】耐磨耗性および耐久性、耐熱性を向上させることができ、信頼性および寿命の長寿命化を図ることができ、また表面形状も均一かつ薄膜で良好な塗布面が得られることが求められていた。
【解決手段】薄膜塗布を行う装置に用いられるワイヤーバーにおいて、母材ロッドに対してワイヤーが巻かれ、かつワイヤーには表面処理が施されていることを特徴としたワイヤーバー、特に表面処理がフラーレンによる表面処理であることを特徴とするワイヤーバー、さらに前記フラーレンによる表面処理が、フラーレン薄膜を真空成膜法を用いて蒸着、その後、光重合させたものであるワイヤーバー、および塗液バット中の塗液をアプリケーターロールにより走行中の帯状支持体に塗布する工程、上記ワイヤーバーにて過剰の塗布液が掻き落とす工程からなる薄膜塗布方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】円筒状基体の端部余剰塗膜を除去する。
【解決手段】円筒状基材の端部塗膜除去装置１００は、円筒状基体１０の上端部１０ｂの内壁に当接し円筒状基体１０を支持する支持体１４と、支持体１４に設けられ浸漬法により塗膜を形成した円筒状基体１０を該円筒状基体１０の軸心方向に略鉛直方向に支持して保持する支持軸１６と、溶剤を含み円筒状基体１０の下端部１０ａに接触し余剰塗膜を除去する端部塗膜除去部材２０と、端部塗膜除去部材２０が載置された基台２２と、基台２２を支持するとともに回転モータ４０の駆動により回動可能な回転軸２４とを有する。上記端部塗膜除去部材２０は、接触させる円筒状基体１０の内径にそれぞれ対応可能な外径を有する端部塗膜除去片が少なくとも１つ以上積層して形成されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＡＬＣ板とパレットの両方を洗浄可能とする洗浄システムを提供するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄システム１は、多孔質板（ＡＬＣ板２）を掴むワークチャック部８を備え、このワークチャック部８の昇降を可能とし、その本体が走行レール９に沿って走行可能に構成された移送機６と、パレット４を走行レール９方向に搬送する搬送ローラ５と、走行レール９の途中に設けられ、洗浄ブラシ１５，１８により前記ＡＬＣ板２と前記パレット４を洗浄する洗浄装置７とを備えたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【目的】 透過性シートの全体にわたって一様に液体含浸剤を塗布する連続法及びその装置を提供する。
【構成】 連続して進行している透過性シートの第１表面に液体含浸剤のほぼ層状に流れるカーテンを塗布し、その第２表面に、液体含浸剤のカーテンを塗布する位置の近傍にて、真空を加え、透過性シートを通して液体含浸剤の相当な量を吸引し、透過性シートの全体にわたって液体含浸剤のほぼ一様な分布を生じさせ、液体を含浸した透過性シートを乾燥させる。その結果、透過性シートの内部に向けて、液体含浸剤の一様な或いは制御された分布を実現し、過剰含浸剤のシート内の滞留時間を最小化することができる。 （もっと読む）

【課題】 高粘度の樹脂溶液を吐出する際の泡の発生を抑え、膜厚勾配の発生を抑え、塗布の際の樹脂溶液の無駄の生じない塗布装置、それを用いた管状物の製造方法及び膜厚ばらつきの少ない管状物を提供すること。
【解決手段】 芯体１０の中心軸を水平にして芯体１０を回転させる回転手段と、皮膜形成樹脂溶液１４を芯体１０へ吐出して付着させると共に、その付着部が相対的に芯体１０の一端から他の一端へ水平方向に移動する塗布手段であるディスペンサー１６と、を有し、ディスペンサー１６は、少なくともノズル１８と、モーノポンプ２０と、を備える塗布装置１、それを用いた管状物の製造方法及びその製造方法により得られた管状物。 （もっと読む）

【課題】基板を高速で回転させながら基板の処理を行う際、塵埃が基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。
【解決手段】処理室内において、第１層カバー１１及び下外カップ５の内側には基板１を取り囲む第１の層が形成され、第１の層の外側には第１層カバー１１及び下外カップ５と第２層カバー１２との間に第２の層が形成されている。清浄空気供給装置２１，２２の空気供給量及び強制排気装置４１，４２の排気量を調整することにより、第１の層内の空気の圧力（Ｐ１）を第２の層内の空気の圧力（Ｐ２）より高くし（Ｐ１＞Ｐ２）、かつ、第２の層内の空気の圧力（Ｐ２）を処理室の外の空気の圧力（Ｐ０）より低くする（Ｐ２＜Ｐ０）。 （もっと読む）

【課題】 従来の基板への塗料の塗布又は／及び充填装置は、連続作業が難しかったり、塗膜の厚さが不均一となったりすることがあった。
【解決手段】 基板を横向き或は縦向きで搬送し、横向きで搬送された基板は縦向きに起立させてから吊り具で吊り下げ、縦向きで搬送された基板はそのまま吊り具で吊り下げ、吊るした基板を降下させてから引き上げ、引き上げ中に回転塗布ロールで塗料を基板に塗布したり基板のホールに充填したりし、基板の余分な塗料をスキージで掻き落としたり均したりする。スキージの接触面を幅広くして、基板の塗料を均一に均すことができるようにした。 （もっと読む）

【課題】 大型ガラス基板の端縁部の撓みが確実に防止される基板端縁部被膜の除去装置を提供する
【解決手段】 基板保持部２の軸４を伸張せしめ、チャック３を上昇させ、この上昇位置で基板Ｗを受け取る。この状態では基板Ｗは自重によって周辺部が下方に撓んでいる。次いで、軸４を縮めてチャック３をバー部材１７の上面と面一になるまで下降せしめる。すると、基板Ｗの周縁部下面がバー部材１７によって支持され、基板Ｗは水平状態で保持される。このとき、洗浄ユニット１０のスリット１１内には洗浄液（溶剤）が表面張力で保持されている。この状態から、左右の洗浄ユニット１０を前進させ、洗浄ユニット１０のスリット１１内に基板Ｗの端縁部を挿入する。 （もっと読む）