説明

Fターム[4F073CA70]の内容

高分子成形体の処理 (12,894) | 波動エネルギーによる処理 (1,693) | 特定雰囲気下 (368) | 有機化合物(ハロゲン化合物を除く) (36)

Fターム[4F073CA70]に分類される特許

21 - 36 / 36


【課題】有毒な薬品を用いることなく簡易な構成で表面処理を安定かつ連続して行うことができ、また環境への悪影響を防止できるとともに、さらに製造コスト及びランニングコストを低減できる大気圧プラズマ処理装置及び大気圧プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】気化されたエタノールと不活性ガスとが混合器30により混合されて処理ガスが生成される。生成された処理ガスは、導管28により印加電極12と接地電極14との間に供給される。また、高周波電源26により印加電極12と接地電極14との間に高周波電圧が印加される。これにより、印加電極12と接地電極14との間の処理ガスが電離してプラズマが発生し、処理ガスが電離した励起状態となって活性化される。印加電極12と接地電極14との間に発生したプラズマが被処理物Sの表面に照射することにより被処理物Sの表面処理(表面改質)が行われる。 (もっと読む)


【課題】各種の高分子フィルムに対して、優れた性能を有する機能性皮膜を形成することが可能な新規な高分子複合フィルムの製造方法、及び優れた機能性皮膜を有する高分子複合フィルムを提供する。
【解決手段】気体状の有機金属化合物の存在下に、相互に対向状に配置した一対の電極にパルス状の交番電圧を印加して発生させたプラズマを、高分子フィルムに接触させて該高分子フィルム上に皮膜を形成することを特徴とする、高分子複合フィルムの製造方法、
プラズマ処理によって形成された皮膜を有する高分子複合フィルム、及び
該高分子複合フィルムからなる包装材料。 (もっと読む)


【課題】より温和な条件下で放射線架橋を可能とした放射線架橋含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】結晶融解熱量ΔHが10J/g以下であるテトラフルオロエチレン-パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体を放射線照射した放射線架橋含フッ素共重合体。この放射線架橋含フッ素共重合体は、各種パーフルオロ重合体の中で唯一100℃以下といった温和な条件下での放射線照射による架橋が可能であり、この放射線架橋含フッ素共重合体は、原子力施設や宇宙空間等放射線環境下で用いられる成形品としての用途に好適である。 (もっと読む)


自家蛍光がより少なく、特異性がより良好なプラスチック基質の製造方法が提供される。上記方法は、(a)50μm×50μm以下の条件下で、R3nm未満またはR4nm未満の原子間力顕微鏡(AFM)表面粗さを有するプラスチック基質を調製する工程;(b)前記プラスチック基質をプラズマで処理する工程;および(c)前記プラスチック基質を表面修飾モノマーで処理する工程を含む。また、上記方法により製造されるプラスチック基質も提供される。上記プラスチック基質は、自家蛍光が顕著に低く、よって標的生体分子の検出に対するよりよい特異性を示す。このことにより、微小流体構造を含ませる設計がガラス基質に比して容易でありながら、高い自家蛍光のために、マイクロアレイ、バイオチップまたはウェルプレートへの利用が限られていたプラスチック基質を、広範に適用することが可能となる。更に、上記プラスチック基質の製造方法は、プラスチック基質の表面特異性を向上することができ、またプラスチック基質の表面特性を容易に調節することができる。 (もっと読む)


バッチの加工システムにおいて誘電体のフィルムを処理するための方法及びシステムは、Cを含有する化合物を含む処理化合物へ誘電体のフィルムの少なくとも一つの表面を露出させることを含むが、ここで、x及びyが、単位元以上の整数を表す。処理化合物が導入されるとき、複数のウェハが、加熱される。誘電体のフィルムは、乾燥の食刻の加工の後に続くそれに形成された食刻の特徴を有する孔の有る又は無い低い比誘電率のフィルムを含むことができる。
(もっと読む)


【課題】可撓性基板に十分にぬれ性の異なる領域を適切に形成することができる基板製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、表面にぬれ性差異を有する可撓性基板に関する。当該ぬれ性差異は、異なる親水性及び/或は親油性を呈する隣接領域によって構成されている。また、本発明は、このような基板の製造方法、及びこのような基板に電気機能材料が堆積されたマイクロ電子部品の製造方法に関する。
本発明によれば、ぬれ性差異を有する可撓性基板の製造方法を提供する。当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面が平滑であってさらに水濡れ性および耐久性に優れたコンタクトレンズ材料を提供すること。
【解決手段】コンタクトレンズ基材と、該基材表面の少なくとも一部に形成された被膜とを有するコンタクトレンズ材料の製造方法。前記被膜を、前記コンタクトレンズ基材を、メタンと湿潤空気との混合ガス雰囲気下でプラズマ重合処理し、次いで、非重合性ガス雰囲気下でプラズマ処理することにより形成する。前記方法により製造されたコンタクトレンズ材料を含水させてソフトコンタクトレンズを得る、ソフトコンタクトレンズの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 反応性物質を常温で霧化して安全に放電用ガスに混合することができる大気圧プラズマ表面処理方法を提供する。
【解決手段】
発振周波数250kHz以上の超音波を霧化器14により発生させて、反応性物質を含む液体状の有機物を霧化させる。この霧化した有機物をプラズマ装置20内の放電用ガスと混合する。放電用ガスは、プラズマ装置20内でプラズマを発生させることにより、前記有機物に反応を発生させて、基材表面に被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】効率的に内周面処理を行なうことができるとともに内周面処理のばらつきを低減することができるチューブ状フィルム内周面処理装置およびチューブ状フィルム内周面処理方法を提供する。
【解決手段】棒状電極3と、所定の間隔をあけてそれぞれ互いに向かい合っており連結部材6によって連結されている第1台座10および第2台座9と、第1台座に設置され第2台座の方向に突出した第1凸部1と、第2台座に設置され第1台座の方向に突出した第2凸部2とを含み、第1凸部には棒状電極が挿通可能な貫通孔が設けられており、棒状電極は第1凸部の貫通孔を通って第1凸部の突出方向に前進または第1凸部の突出方向と反対方向に後退する。 (もっと読む)


【課題】 非環式テルペンアルコールの薄膜化についてその具体化を実現し、産業上実際に利用することのできる親水性や生体適合性などの物理・化学的な特性を備えた新しい薄膜とその製造方法、この薄膜を配設した物品並びに表面改質方法を提供する。
【解決手段】 非環式テルペンアルコールのプラズマ励起により形成された薄膜であることを特徴とするプラズマ重合薄膜とする。 (もっと読む)


【課題】 イオン交換樹脂を高分子電解質に含む積層状の高分子アクチュエータ素子を完成後のアクチュエータ素子に適用できる屈曲率や変位性能を向上させるための処理方法を提供することである。
【解決手段】炭素数1〜5の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がアミノ基、炭素数1〜5の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がチオール基、炭素数3〜7の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がカルボキシル基である有機化合物またはヒドラジンを、液体であればそのまま溶媒として、固体または水と相溶性のある液体の場合は水溶液として、前記高分子アクチュエータ素子を当該溶媒中または水溶液中に浸漬させる処理方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】成形済みの有機高分子基材、例えばポリオレフィン基材に対して、基材の形状を維持したまま、分子量分布の狭いグラフト側鎖を導入する技術を提供する。
本発明の一態様は、(a)有機高分子基材に電離性放射線を照射した後、該基材に重合性モノマー及び重合開始基導入剤を接触させることによって、該基材の高分子主鎖上に、その末端に重合開始基を有するグラフト側鎖を導入し、(b)次に、該基材に重合性モノマーを接触させることによって、グラフト側鎖を成長させることを特徴とするグラフト材料の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 フッ素系樹脂フレキシブルチューブ内壁面の接着性が改善されたフッ素系樹脂フレキシブルチューブ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 フッ素系樹脂フレキシブルチューブの内壁面に、機能性官能基を有する有機化合物の水溶液または有機溶媒溶液を接触させた状態で放射線を照射するか、あるいは該放射線の照射後に該溶液を接触させる。 (もっと読む)


ラジカル硬化可能な材料(1.8)におけるラジカル機構により進行する硬化を放射線により開始させるか、または開始させかつ維持して、ラジカル硬化可能な材料(1.8)を保護ガス雰囲気(1.4)下に硬化させるための方法であって、保護ガス雰囲気の側方流去を阻止する形式の方法において、(1) ラジカル硬化可能な材料(1.8)を、保護ガス雰囲気(1.4)中へ所定の深さ(1.4.2)よりも下にまで浸入させ、ただし該所定の深さを越えると、保護ガス雰囲気(1.4)がコンスタントにその最低酸素濃度を有しており、(2) ラジカル硬化可能な材料に保護ガス雰囲気内で前記所定の深さ(1.4.2)よりも下で放射線を照射し、この場合、複数の放射線源(1.5)のうちの少なくとも1つが、保護ガス/空気の境界面(1.4.1)よりも下方に配置されており、その後に(3) 得られた、硬化された材料(1.8)を再び保護ガス雰囲気(1.4)から浸出させることを特徴とする、ラジカル硬化可能な材料を保護ガス雰囲気下に硬化させるための方法および該方法を実施するための図1に示した装置(1)が見い出された。
(もっと読む)


本発明は、重合体の表面を含む中空要素を活性化工程及びグラフト工程に供することを含む燃料系統の中空要素を調製する方法に関する。グラフト工程においては、フッ素化C2-C4炭化水素が中空要素の活性化された重合体の表面にグラフトする。本発明は、更に、本発明の方法によって得られる中空要素及びメタノール及び/又は炭化水素についての燃料タンク又は燃料パイプのような製品の浸透性を減少させるためのフッ素化C2-C4炭化水素の使用に関する。
(もっと読む)


第1の材料から形成される膨張バルーンであって、同バルーンはその最上面を形成する少なくとも1つのプラズマ重合層を備えることと、その形成方法に関する。
(もっと読む)


21 - 36 / 36