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Fターム[4F100AB25]の内容

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Fターム[4F100AB25]に分類される特許

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【課題】 表面が平滑な対象物との密着性が良好で、膨れやずれ、しわの発生がない金属箔シートを提供すること。
【解決手段】 ベースフィルム10と、ベースフィルム10上に形成された金属箔20とからなり、少なくとも金属箔20に所定間隔で多数の細孔21が設けられてなり、上記細孔は、好ましくは上記ベースフィルムに上記金属箔を積層してなる金属箔シート前駆体に所定間隔を開けて針を刺すことにより形成されている金属箔シート1。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いてセラミックス基材に金属皮膜を形成させた場合に、セラミックスと金属皮膜との間の密着強度が高い積層体およびこの積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁性のセラミックス基材10と、金属を含む主成分金属層51、および金属または金属の酸化物もしくは水素化物からなる活性成分層52を有し、セラミックス基材10の表面に形成される中間層50と、中間層50の表面に、金属を含む粉体をガスと共に加速し、前記表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって形成された金属皮膜40と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】タッチパネルに用いた際の高温高湿条件下での抵抗値安定性、およびペン入力耐久性に優れる透明導電性フィルム及びその効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電膜が、透明導電膜成膜時の基板温度を−60〜50℃とし、かつ成膜用の反応性ガスとして酸素を用い、酸素分圧を1.0×10−3〜40×10−3Paにしてスパッタリング法にて成膜されてなり、酸化インジウムの他、酸化スズを平均で0.1〜5質量%、及び特定の物質群のなかから選択した物質を平均で0.1〜5質量%少なくとも含み、かつ、透明導電膜の比抵抗が4×10−4〜2.5×10−3Ω・cmである透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】本発明は、熱可塑性樹脂成型品に貼り合わせた際に、運搬中の振動や揺れによって脱落せず、熱時での接着性の高いホットメルト型積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】最外層に粘着付与剤を含有する粘着性樹脂組成物とその内側に極性基含有ビニル単量体で変性されている変性ポリオレフィン樹脂組成物から成る多層構造の積層フィルムであり、JIS Z0237におけるボールタック試験〔傾斜角5°助走有無供に〕においてタック性が3/32インチ以上で、かつ当該フィルムを熱可塑性成型品へ貼り付けた際、成型品を逆さにしても、当該フィルムが落下しないことを特徴とする、接着性シートにすることにより上記課題が解決されることを見出した。 (もっと読む)


【課題】従来硬化が困難であった表面、特に、金などの貴金属層を有する基材表面上での熱伝導性シリコーン組成物の硬化を容易に行うことができるシリコーン構造体の製造方法及びこの方法によって得られる半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも表面に貴金属層を有する基材の該表面上に熱伝導性シリコーン組成物の硬化膜を形成してなるシリコーン構造体を製造する方法において、熱伝導性シリコーン組成物の硬化剤として10時間半減期温度が80℃以上130℃未満のパーオキサイドを用いたシリコーン構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】反射防止体や位相差板等の光学素子として利用した際に優れた性能を示す凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。
【解決手段】一軸または二軸方向に熱収縮するシュリンクフィルムからなる樹脂層の片面の全部に、表面が平滑な厚さ1〜10nmの金属または金属化合物からなる硬質層を設けて積層シートを形成する工程と、前記積層シートを加熱して前記樹脂層を熱収縮させることにより、前記硬質層を表面に沿った一方向または二方向以上に圧縮して折り畳むように蛇行変形させる工程と、を有することを特徴とする凹凸パターン形成シートの製造方法。 (もっと読む)


【課題】水蒸気バリア性に優れる液晶ポリエステルから構成される基材層と、水蒸気バリア層とを有し、水蒸気バリア性に優れる積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層を、下記式(1)で表される繰返し単位と、下記式(2)で表される繰返し単位と、下記式(3)で表される繰返し単位とを有し、2,6−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、40モル%以上である液晶ポリエステルから構成し、その少なくとも一方の面上に、水蒸気バリア層を配置する。
−O−Ar1−CO− (1)
−CO−Ar2−CO− (2)
−O−Ar3−O− (3)
(Ar1は、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。Ar2及びAr3は、それぞれ独立に、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】導電性、耐食性に優れ、かつ安価に製造できる塗装金属板を提供する。
【解決手段】本発明は、金属板の少なくとも片面に、有機樹脂(A)と、25℃の水溶液における標準電極電位が−0.25〜+0.9Vの範囲にある金属粒子(B)とを含む塗膜(α)が水系塗装用組成物(β)の塗布により形成されており、前記塗膜(α)中の有機樹脂(A)と金属粒子(B)の25℃での体積比が90:10〜99.9:0.1であり、前記有機樹脂(A)が、カルボキシル基、スルホン酸基から選ばれる少なくとも1種の官能基を構造中に含む樹脂(A1)、または更に該樹脂(A1)の誘導体(A2)を含むことを特徴とする、導電性、耐食性塗装金属板である。 (もっと読む)


【課題】厚さ30μm以下の金属リチウム薄膜が安定して製造され、且つ金属リチウム薄膜の転写が容易な多層フィルムを提供することにある。
【解決手段】金属箔の少なくとも片面にプラスチック膜を有し、更にプラスチック膜の少なくとも片面の表面に金属リチウム薄膜を有し、該金属泊がBe、C、Mg、Al、Si、S、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、Ag、In、Sn、Sb、Ta、W、Pt及びAuからなる群から選択される金属元素の少なくとも1種を含む多層フィルム。 (もっと読む)


【課題】二光子吸収特性を大きく増感でき、安定性良く、再現性良く、容易にその機能を発現できる二光子吸収薄膜とその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に、有機高分子イオン(a)と金属ナノ粒子とを有する薄膜(I)、及び、有機高分子イオン(b)を有する薄膜(II)が交互に積層されてなる第1の交互積層薄膜、並びに、有機高分子イオン(b)と二光子吸収材料とを有する薄膜(III)、及び、有機高分子イオン(a)を有する薄膜(IV)が交互に積層されてなる第2の交互積層薄膜を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属層の耐硫化性を優れたものとし、金属層の腐食(例えば変色)を抑制することができる金属層の腐食防止方法。
【解決手段】第11族の金属から得られる金属層を、(A)エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基およびフェノール基から選ばれる反応性官能基を1分子中に少なくとも1つ以上有するオルガノポリシロキサン100質量部と、(B)亜鉛化合物0.01〜5質量部とを含有するシリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂層で覆い、前記金属層の腐食を防止する、金属層の腐食防止方法。 (もっと読む)


【課題】金属基材上に導電性の樹脂皮膜を有し、かつ曲げ加工性に優れ、さらには必要により耐摩耗性を高めることができる、電気・電子部品用の金属樹脂複合材料を提供する。
【解決手段】金属基材上の、少なくとも片面、もしくは両面に導電性と黒色による意匠性を持ち合わせたカーボンブラック微粒子を5〜25質量%含有した樹脂皮膜層を有する電気・電子材料部品用材料。 (もっと読む)


【課題】金属層の耐硫化性を優れたものとし、金属層の腐食(例えば変色)を抑制することができる金属層の腐食防止方法を提供する。
【解決手段】第11族の金属から得られる金属層を、(A)1分子中に反応性官能基を少なくとも1つ以上有するオルガノシロキサン100質量部と、(B)ニッケル、銅およびガリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を有する金属化合物とを含有するシリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂層で覆い、前記金属層の腐食を防止する、金属層の腐食防止方法。 (もっと読む)


【課題】薄板ガラスの一方の表面に保護フィルムを貼付け他方の面に透明導電膜を形成した透明導電性ガスバリヤフィルムにおいて、保護フィルムとしてPPフィルムのように耐熱性のないものを用いても、透明導電膜を低抵抗に形成できるようにする。
【解決手段】透明導電性ガスバリヤフィルム1は、ガスバリヤ層となる基材フィルム10の裏面に保護フィルム(PPフィルム)20が貼付けられ、表面に透明導電膜30が形成されている。透明導電膜30は、ITO層31、Ag合金からなるAg層32、ITO層33の3層を順次積層してなる積層膜であって、ITO層,Ag層は、スパッタリング法で形成できる。 (もっと読む)


【課題】金属ナノ構造体の形状・サイズがより自在にデザインされた金属ナノ構造体を表面に備える基板を製造し得る方法の提供。
【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を基板表面に形成した後、当該層を相分離させる工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去し、前記基板表面の一部を露出させる工程と、露出された基板表面に金属イオンを接触させ、基板表面と金属イオンとの間に起こる電気化学反応により、当該基板表面に金属を析出させる工程と、を有する金属ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された金属ナノ構造体を表面に備える基板。 (もっと読む)


【課題】成形品の外観意匠性・触感を損なわず、被着体である成形品が接着された積層体および成形品に直接熱ダメージを与えない誘電加熱に好適なホットメルト接着材を提供する。
【解決手段】誘電加熱によりホットメルト接着層を選択的に加熱するための金属層と、金属と樹脂材料の双方に接着性が良好な接着剤が積層された構成が良いとの着想を得、25℃のキシレンに可溶の低分子量成分を含むがその含量が0.5重要%未満である変性ポリオレフィン樹脂からなる接着剤と金属を積層した接着材が、比較的少量の誘導加熱により被着体の意匠性を損なうことなく強固に接着が可能。 (もっと読む)


【課題】生産性を低下させずに良好な安定性、耐久性を得ることができ、また良好な光学特性を得ることができる日射調整フィルム。
【解決手段】日射調整フィルム1は、ポリエステルフィルム2の一方の主面にハードコート層3を有し、他方の主面に日射反射積層膜4を有する。日射反射積層膜4は、ポリエステルフィルム2側から順に、第1の亜鉛酸化物層41、第1の銀合金層42、第2の亜鉛酸化物層43、第2の銀合金層44、第3の亜鉛酸化物層45が積層されてなるものである。第1〜第3の亜鉛酸化物層41、43、45は、亜鉛および亜鉛以外の金属元素の酸化物からなり、これら亜鉛と亜鉛以外の金属元素とにおいて亜鉛が主たる酸化物構成元素となるものであり、第1〜第2の銀合金層42、44は、パラジウムおよび金から選ばれる少なくとも1種の金属を含有する銀合金からなるものである。 (もっと読む)


【課題】大面積かつ低抵抗のグラフェンシートを備えたグラフェンシート付き基材、及び大面積かつ低抵抗のグラフェンシートを550℃以下という比較的低温にて安価に製造することが可能なグラフェンシートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のグラフェンシート付き基材1は、ガラス基板、金属基板の表面にガラスがコーティングされたガラス被覆金属基板等からなる基板2上に、炭化珪素層等の珪素原子及び炭素原子を含む薄膜層3、Ni等の金属を含むシリサイド層4、グラフェンシート5が順次積層されている。 (もっと読む)


【課題】形成した薄膜のひび割れ耐性、可撓性に優れ、低抵抗で高光透過性の積層型透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルムの上に、第1のITO膜(A)、金属膜(M)、第2のITO膜(A)をこの順で積層した積層膜ユニットを有する積層型透明導電性フィルムであって、該透明プラスチックフィルムの厚さが、100μm以上、150μm以下であり、該第1のITO膜(A)の膜厚をhA1とし、該第2のITO膜(A)の膜厚をhA2としたとき、hA1>hA2の関係を満たし、かつ該積層膜ユニットの総膜厚が、100nm以下であることを特徴とする積層型透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】透過・反射バンドが広く、しかも導電性(電磁波遮蔽性)、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。
【解決手段】基体11と、基体11上に形成された導電膜12とを有し、導電膜12が、基体11側から、酸化物層12aと金属層12bとが交互に計(2n+1)層[nは1以上の整数]積層された多層構造体であり、酸化物層12aが、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層12aにおけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、1〜20原子%であり、金属層12bが、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、0.5〜1.5Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、67.7%以上である導電性積層体10。 (もっと読む)


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