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Fターム[4F100AB25]の内容

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Fターム[4F100AB25]に分類される特許

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【課題】 回路パターンを良好なファインピッチで形成することができる積層体及びそれを用いたプリント配線板を提供する。
【解決手段】 表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体であって、
前記表面処理層が、Au、Pd及びPtの少なくともいずれか1種を含み、
前記表面処理層側の20nmの深さまでの表層の2価のCuの酸化物の原子数の割合である(2価のCuの酸化物の原子数)/{(1価のCuの酸化物の原子数)+(単体のCuの原子数)}(%)が80%以下である積層体。 (もっと読む)


【課題】様式化されたインク層又はオーバモールド済フレームを有する透明パネルの部分において収集される太陽エネルギーの量を最小にすることになるシステムを提供する。
【解決手段】日射光制御特性を有する窓システムは、第1面及び第2面を有する基材と、基材の第1面に隣接した第1プラズマ層と、基材の第1面とプラズマ層との間に配置された第1耐候性層と、基材の第1面と耐候性層との間に配置された日射光制御システムとを含む。 (もっと読む)


【課題】色むらをより抑制することが可能な装飾用フィルムを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置の前面板に使用される装飾用フィルムであって、第1および第2の側を有し、前記第1の側に金属層が設置された基材層と、第1および第2の表面を有する粘着層であって、前記第2の表面が前記基材層に近い側となるようにして、前記基材層の上方に配置された粘着層と、を有し、前記粘着層は、透明または半透明なマトリクス材料中に、着色剤が分散されて構成され、前記粘着層は、10μm〜200μmの範囲の厚さを有し、当該装飾用フィルムを、前記粘着層の第1の表面側から見たとき、前記金属層からの光の反射により、所望の色合いが発現することを特徴とする装飾用フィルム。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いて基材に金属皮膜を形成させた積層体を製造する場合に、基材と金属皮膜との間の密着強度が高い積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体10は、金属または合金から形成された基材1と、基材1表面に形成された基材1より軟らかい金属または合金からなる中間層2と、金属または合金の粉末材料を該粉末材料の融点より低い温度に加熱されたガスと共に加速し、中間層2に固相状態のままで吹き付けて堆積させた金属皮膜3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】金属材料と樹脂材料との間の十分な接合強度を有し、接合体中の金属材料の金属種や形状を用途に応じて所望の設計が可能な金属材料と樹脂材料との接合体を提供する。
【解決手段】金属材料11と樹脂材料12とを接合させた接合体であって、樹脂材料12が、チオール、アミド、イミド、エステル及びエーテルから選ばれる少なくとも1種の官能基を有する熱可塑性樹脂材料を含有しており、接合界面の領域に金属粒子からなる凹凸形状が形成されており、凹凸形状が形成されている領域の総面積が、接合界面領域の面積の大きさに対して40%以上の大きさを有しており、金属粒子がAu、Ag、Cu、Pt、Ru、Pd、Ir、Os及びRhからなる群から選択される少なくとも1種の金属を含有する粒子であり、凹凸形状の平均高さが80〜600nmであり、凹凸形状の凸部の頂点間の平均距離が100〜3000nmであることを特徴とする接合体。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導性及び優れた流動性を両立する樹脂組成物、高い熱伝導性及び絶縁性を有する樹脂シート、プリプレグ、積層板、金属基板、及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、熱硬化性樹脂、熱伝導性フィラー及びナノ粒子を含む。前記熱伝導性フィラーは、重量累積粒度分布から求めた平均粒子径が0.2μm〜100μmであり、樹脂組成物の全固形分に対して60〜90体積%含有する。前記ナノ粒子は、重量累積粒度分布から求めた平均粒子径が1nm〜100nmであり、樹脂組成物の全固形分に対して0.01〜1体積%含有する。本発明の樹脂シート、プリプレグ、積層板、金属基板、及びプリント配線板は、前記樹脂組成物を用いて作製される。 (もっと読む)


【課題】高い偽造防止効果を発揮する、光透過性を有する表示体を提供する。
【解決手段】本発明の表示体1は、金属薄膜層12の上に光透過層11を積層してなる積層体から形成される表示体であって、金属薄膜層12から光透過層11に向けて突出する複数の凸部からなり、かつ凸部が200nm以上500nm以下の平均中心間距離で規則的に配列された複数の第1界面部2を有している。第1界面部2は、レリーフ構造DSを形成するレリーフ構造形成層を、金属薄膜層12と光透過層11との界面部に形成している。 (もっと読む)


【課題】様式化されたインク層又はオーバモールド済フレームを有する透明パネルの部分において収集される太陽エネルギーの量を最小にすることになるシステムを提供する。
【解決手段】日射光制御特性を有する窓システムは、第1面及び第2面を有する基材と、基材の第1面に隣接した第1プラズマ層と、基材の第1面とプラズマ層との間に配置された第1耐候性層と、基材の第1面と耐候性層との間に配置された日射光制御システムとを含む。 (もっと読む)


【課題】界面強度が高い、銅皮膜をアルミニウム基材に積層した積層体、またはアルミニウム皮膜を銅基材に積層した積層体をコールドスプレー法により製造する。
【解決手段】本発明の積層体10は、アルミニウム又はアルミニウムを含む合金によって形成された基材1と、基材1表面に、銀、金、クロム、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、ケイ素または亜鉛から選択されるいずれか1種の金属または非金属、あるいは前記いずれか1種の金属を含む合金から形成される中間層2と、中間層2の表面に、銅または銅を含む合金の粉末材料を該粉末材料の融点より低い温度に加熱されたガスと共に加速し、前記中間層に固相状態のままで吹き付けて堆積させた皮膜層3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどに用いられるシャッター羽根または絞り羽根や、カメラ付き携帯電話や車載モニターのレンズユニット内の固定絞りや、液晶プロジェクタの光量調整モジュールの絞り羽根などの光学機器部品として用いられ、耐熱性、高遮光性、低反射性に優れた耐熱遮光フィルムを提供する。
【解決手段】200℃以上の耐熱性を有する樹脂フィルム基材(A)の片面もしくは両面に、スパッタリング法で形成された50nm以上の膜厚を有する金属遮光膜(B)と、5nm以上の低反射性の金属酸化物膜(D)が積層された耐熱遮光フィルムにおいて、金属遮光膜(B)と金属酸化物膜(D)の間に1〜50nmの膜厚を有する酸化防止膜(C)がスパッタリング法で形成されている耐熱遮光フィルムにより提供する。 (もっと読む)


【課題】金属材料と樹脂材料とを簡便に接合することができる新規な方法、およびそれにより得られる新規な樹脂金属複合材料を提供する。
【解決手段】金属材料3と、樹脂材料4と、該金属材料3と該樹脂材料4との界面に存在する、チオアミド基、チオカルボニル基、チオアセチル基、チオール基、スルフィド基、カルボキシル基、カルボニル基、アミド基、シアノ基、ホスフィン基、ホスフォン酸基、リン酸基、ボロン酸基およびホウ酸基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する基である、金属結合基2を有する炭素材料1からなる接合材料とを備えることを特徴とする樹脂金属複合材料。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチ化に適した、裾引きが小さい断面形状の回路を良好な製造効率で製造可能なプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層板を提供する。
【解決手段】銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、前記被覆層が、銅箔基材表面から順に積層した、Pt、Pd、及び、Auの少なくともいずれか1種からなる第1の層及びNi、Co、Sn、Zn、Cu及びCrの何れか1種以上の金属からなる第2の層で構成され、被覆層の厚さが3〜25nmであり、Pt、Pd、及びAuのいずれか1種以上の原子濃度(%)をf(x)、Ni、Co、Sn、Zn、Cu及びCrの何れか1種以上の金属の原子濃度をg(x)とし、区間[0、15]におけるf(x)、g(x)の第一の極大値をそれぞれf(F)、g(G)とすると、G≦F、f(F)≧1%、g(G)≧1%を満たすプリント配線板用銅箔。 (もっと読む)


【課題】金属材料を無駄なく用いてコストの上昇を抑えつつも、金属ナノワイヤー表面での光の乱反射を防止可能な透明導電膜を提供する。
【解決手段】金属ナノワイヤーとこれに吸着された有色化合物とを含む透明導電膜である。有色化合物は、可視光領域の光を吸収する材料であり、さらに金属ナノワイヤーを構成する金属に結合する官能基を有する。 (もっと読む)


【課題】樹脂成形品の外観意匠性・触感を損なわず、被着体である成形品が接着された積層体および成形品に直接熱ダメージを与えず、熱水に浸漬しても接着性を損なわない、誘電加熱に好適なホットメルト接着材を提供する。
【解決手段】(B)金属に表面処理が施された金属材料の少なくとも1面に接して、(A)変性ポリオレフィン樹脂組成物を含有する接着層が積層された、誘電加熱用ホットメルト接着材。順に、(A)変性ポリオレフィン樹脂組成物を含有する接着層、(B)金属に表面処理が施された金属材料、及び(A’)変性ポリオレフィン樹脂組成物を含有する接着層が積層された、誘電加熱用ホットメルト接着材。 (もっと読む)


【課題】積層セラミックコンデンサの薄層内部電極を形成するに好適な金属粒子、およびその製造方法ならびに製造に使用する金属蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム上にロール・ツー・ロール方式で正方形状の凹凸パターンを形成しその上に金属を蒸着し金属蒸着フィルムを得る。得られた金属蒸着フィルムから金属を分離させ、厚さ20〜50nm、平均粒径が4〜6μmの板状金属粒子を得る。金属はニッケル、銅、金、銀、白金、鉄鋼、クロムおよびインジウムからなるグループから選ばれる一種以上である。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いてステンレス基材に金属皮膜を形成させた積層体を製造する場合に、ステンレス基材と金属皮膜との間の密着強度が高い積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体10の製造方法は、ステンレス基材1を、金属皮膜2の材料の融点に対する比率が.40以上0.65以下の温度であって、かつステンレス基材1の融点に対する比率が0.5以下の温度に加熱し、加熱したステンレス基材1の表面に、金属皮膜2の材料である材料粉体を該材料粉体の融点より低い温度に加熱されたガスとともに固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって金属皮膜2を形成する。 (もっと読む)


【課題】金属薄膜や所望の形状の金属パターンとの密着性が良好で、かつ、取扱い性、安定性に優れたPDMSシートと、信頼性が高く、取扱い性、安定性に優れた光学素子と、これらの製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子21を、一方の面がパターン形成面33Aであり、他方の面がベース面34Aであるポリジメチルシロキサンシート31と、このパターン形成面上に位置する複数の金属パターン22とを備えたものとし、ポリジメチルシロキサンシート31は、低分子量シロキサンの含有量が2000ppm以上である高含有率ポリジメチルシロキサン層33を少なくともパターン形成面33Aに備え、低分子量シロキサンの含有量が1000ppm以下である低含有率ポリジメチルシロキサン層34を少なくともベース面34Aに備えた構造体32とし、ポリジメチルシロキサンシートを変形させることにより隣接する金属パターンの間隔が変化可能なものとする。 (もっと読む)


【課題】簡単な工程で接着性及び信頼性が確保された接着フィルムを得ることができる接着フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】この接着フィルムの製造方法では、支持フィルム11の一面側に第1の接着剤層12を形成すると共に他面側に第2の接着剤層13を形成し、支持フィルム11の巻き取りによって第1の接着剤層12と第2の接着剤層13とを積層している。この方法によれば、接着剤層のラミネートを行わないので製造工程の複雑化を回避できる。また、第1の接着剤層12上に第2の接着剤層13を直接に塗布しないので、第2の接着剤層13の接着剤組成物によって第1の接着剤層12が劣化してしまうことも防止できる。したがって、簡単な工程で接着性及び信頼性が確保された接着フィルム1を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】光線透過率が高く維持されるとともに、表面抵抗率が低く、導電性に優れた透明電極基板、その製造方法、該透明電極基板を有する電子デバイス及び太陽電池を提供すること。
【解決手段】透明基材の一方の面に、導電性金属メッシュ層を埋設した透明導電層が積層されてなる透明電極基板、透明基材の一方の面に第1の透明導電層を形成させ、同透明導電層上に導電性金属層を形成させ、同導電性金属層をフォットレジストパターニング処理することにより導電性金属メッシュ層を形成させ、同金属メッシュ層の面に第2の透明導電層を形成させて同導電性金属メッシュ層を同透明導電層により被覆することを特徴とする透明電極基板の製造方法、同透明電極基板を有する電子デバイスならびに太陽電池である。 (もっと読む)


【課題】可視光域で所望の消光比をもち、強い光に対する耐光特性のある偏光板、該偏光板を用いた液晶プロジェクター、該偏光素子の作成方法を提供する。
【解決手段】可視光に対し透明な基板と、金属からなり前記基板上に一方向に延びた帯状薄膜が一定間隔に設けられてなる反射層と、前記反射層上に形成された誘電体層と、無機微粒子が線状に配列されてなる無機微粒子層とを有し、前記無機微粒子層は、前記帯状薄膜に対応する位置において、前記誘電体上の前記帯状薄膜の頂部の両側面部に形成され、前記無機微粒子が線状に配列された方向と同じ方向を長手方向とするワイヤグリッド構造を有する、偏光素子。 (もっと読む)


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