【課題】均一かつ高精細なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供する
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型１００は、ステンレス鋼により形成される基材部１１０と、基材部上に層状に形成された中間部１３０と、アルミニウムにより形成され表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凹状の複数の微細孔１２１を有する酸化皮膜を有する賦形部１２０とを備え、微細孔が開口部から底部に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有するものとした。反射防止フィルム製造用金型の製造方法は、中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを有し、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングを行う第２エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。 （もっと読む）

【課題】高精細、かつ高アスペクト比の被転写物を、精密に、かつ細部まで再現性良く形成することが可能なインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】エッチングパターン１５が形成された半導体基板１０をアニール処理する。 アニール処理は、例えば、エッチングパターン１５が形成された半導体基板１０を真空チャンバ２０に入れて、真空ポンプ２１を用いて真空チャンバ２０内を減圧し、真空雰囲気にする。そして、ヒータ２２を用いて半導体基板１０を真空雰囲気で所定温度まで加熱し、所定時間保持する。 （もっと読む）

【課題】モールドにおける剥離層の形成やモールド表面のメンテナンスが不要であるインプリント用モールド及びその製造方法並びに樹脂成形品またはガラス成形品の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に凹部２と凸部３とを有するインプリント用モールド１であって、凸部３または凹部２の側面５には凸部３の頂面４側から凹部２の底面６側へ向けて溝７が設けられているインプリント用モールド１とする。また、インプリント用モールド１の製造方法については、乾式エッチング方法、湿式エッチング方法、乾式エッチング方法と湿式エッチング方法とを併用する混合エッチング方法のいずれか一の方法によりインプリント用モールド１母材をエッチングする第１の工程と、第１の工程の後にガスクラスターイオンビームをインプリント用モールド１母材へ照射する第２の工程と、を含むインプリント用モールド１の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】湿潤状態下でも十分な防滑性を有し、素肌刺激性の小さな防滑性シートを提供する。
【解決手段】第一の主表面１１と前記第一の主表面の反対側に第二の主表面１２を有する基材１０を含む防滑性シート１であって、第一主表面１１は、第一の凹凸パターンと、その凸部上に配置される第二の凹凸パターンから構成されるエンボス形状を備え、第一の凹凸パターンの凹部のピッチが５０μｍ以上２００μｍ以下であり、第二の凹凸パターンの凹部のピッチが前記第一の凹凸パターンの凹部のピッチの２０％以下であり、第一の凹凸パターンと第二の凹凸パターンを含むエリアの表面粗さの最大高さ（Ｒmax）が２５μｍ以上５０μｍ以下であり、第二の凹凸パターンのみを含むエリアの表面粗さの最大高さ（Ｒmax）が８μｍ以上１５μｍ以下であり、エンボス形状を構成する第一の凹凸パターンの凹部と第二の凹凸パターンの凹部とは相互に連通する防滑性シート。 （もっと読む）

【課題】靱性に優れると共に、耐傷性の高い樹脂硬化物を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂硬化物（１）は、表面に微細凹凸構造（１０）が成型された樹脂硬化物（１）であって、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及びウレタンジ（メタ）アクリレートの硬化物を含み、表面弾性率が０．０１ＧＰａ以上２ＧＰａ以下、且つ、表面硬度が０．０１ＧＰａ以上０．２ＧＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】様々な態様のサンプルドグレーティングを低コストで形成することが可能な形成方法等を提供する。
【解決手段】サンプルドグレーティング２１Ｐの形成方法は、複数の凹部３を含むパターン面１Ｐを有するナノインプリント用のモールド１を準備する工程と、周期的に設けられた光透過部７Ｔを有するマスク７を準備する工程と、半導体層２１上に、フォトレジスト層２７と、樹脂部２９とをこの順に形成する工程と、熱ナノインプリント法によってモールド１の複数の凹部３の形状を樹脂部２９に転写する工程と、マスク７を介してフォトレジスト層２７に露光光ＬＥを照射する工程と、フォトレジスト層２７を現像する工程と、フォトレジスト層２７の形状を半導体層２１に転写する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。
【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材１の平滑な面２の指が接触する箇所に、該平滑な面２に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴３を有し、該穴３の正面視での投影面積の二乗根の寸法が１０〜３００μｍであり、該穴３の平均深さが０．２〜５０μｍであり、該穴３の分布頻度が面積比で１０〜８５％であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材１。 （もっと読む）

【課題】加工対象である基材表面に残膜の薄い微細マスクパターンを精度よく、かつ、容易に形成することができる微細マスク形成用積層体を提供すること。
【解決手段】基材（１０）の一主面上に設けられ、表面に凹凸構造を有する樹脂層（１１）と、樹脂層（１１）を覆うように設けられたマスク層（１２）と、を具備し、厚み方向に沿った断面視における凹凸構造の凸部の頂部位置（Ｓ）と、マスク層（１２）の露出する表面位置（Ｓｒｌ）との距離（ｌｒｌ）が、０＜ｌｒｌ≦０．１ｈ（ただし、位置（Ｓ）と凹部底部位置との距離で表される、凹凸構造の高さ（深さ）をｈとする。）を満たす構成とする。 （もっと読む）

【課題】中央部と端部で諸物性に出来る限り差異が無いシート成形品を押出成形法によって成形するための押出成形賦形用のロールを提供する。
【解決手段】金属製の押出成形賦形用のロール１０は、内部に熱媒流路１３が設けられ、熱可塑性樹脂の押出成形において使用され、ロール１０は、内筒２１、及び、内筒２１を囲む外筒２２から成り、内筒２１の外面２１Ａと外筒２２の内面２２Ａとに間に設けられた隙間２３には、ロールの軸線に沿って螺旋状に延びる連続した隔壁２３が設けられており、内筒２１の外面２１Ａと外筒２２の内面２２Ａと隔壁２３によって熱媒流路１３が構成されており、外筒２２の肉厚は、ロールの端部１１から所定の位置１２を起点としてロール中央部に向う所定の領域まで、単調に減少している。 （もっと読む）

【課題】表面の微細凹凸構造に欠陥が少ない高品質な物品を、安定的かつ容易に製造できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有する金型６とフィルム７（基材）との間に活性エネルギー線硬化性組成物を挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、フィルム７の表面に微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層１２を形成することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品１４を製造する方法であって、活性エネルギー線硬化性組成物として、１分子鎖中におけるジメチルシロキサン構造の比率の低い成分の含有量が高い、ジメチルシロキサン構造とエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性シリコーンオイルモノマーと、他の重合性化合物とを含むものを用い、金型６として、表面積１ｍ^２当りに付着したタンパク質が１０００個以下である金型を用いる。 （もっと読む）

【課題】容易に、大型の部品に対しても、繋ぎ目なく高精度に微細構造を形成することを目的とする。
【解決手段】基材上に硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、雰囲気の酸素濃度を所定の濃度に制御する制御工程と、前記硬化性樹脂に微細構造型を有するスタンパを押し付ける押し付け工程と、前記硬化性樹脂と前記スタンパとの接触面に微細構造を転写して硬化部として硬化させると共に、前記硬化部より柔らかい半硬化部を前記硬化性樹脂における前記スタンパの周辺に形成する硬化工程と、前記硬化性樹脂から前記スタンパを離型する離型工程と、前記硬化部に隣接する領域で、かつ、前記半硬化部および前記硬化部の一部を含む領域に、前記スタンパを押し付ける再押し付け工程と、を繰り返して、基材から光学シートを製造する。 （もっと読む）

【課題】消失し難い隠しマークをシンプルに形成可能であるマーキング方法等を提供する。
【解決手段】プラスチックの表面に対し、レーザー光を、マークの形状に対応するように照射して、当該表面のうち当該レーザー光を照射した部分を隆起させることで、当該マークを形成するマーキング方法であって、前記マークの形状に対応する前記レーザー光の照射を複数回行い、少なくとも一部の当該照射を、他の当該照射に対して一部重なるように行う。このようなレーザー光の照射により、マークの幅方向の断面形状が台形状となる。 （もっと読む）

【課題】 異なる２つの物体の回転ずれを計測する際に、従来と比較して計測時間の短い検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 異なる２つの物体にそれぞれ形成された格子マークが重なることによって生じる干渉縞を用いて、前記２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める検出装置において、前記干渉縞を検出する検出器と、該検出器で検出された前記干渉縞の傾きから前記異なる２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める演算部と、を有することを特徴とする検出装置。 （もっと読む）

【課題】輝点の発生が抑制された導光板の製造方法を提供する。
【解決手段】この導光板の製造方法はシート製造工程と転写工程とを備える。転写工程は、連続樹脂シートを押圧ロールと形状ロールとで挟み込むことで押圧する押圧工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面に密着させたまま搬送する搬送工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面から剥離する剥離工程とを含む。シート製造工程において押し出される樹脂の温度は、樹脂のガラス転移温度Ｔｇに対して、（Ｔｇ＋１１０）℃〜（Ｔｇ＋２００）℃の範囲である。形状ロールの温度は、（Ｔｇ−２５）℃〜（Ｔｇ−５）℃の範囲である。転写型に形成された複数の凹部の深さＤと複数の凹部のピッチＰとの比率Ｄ／Ｐは、０．０５〜０．４５の範囲である。導光板の表面には複数の凹部に対応する複数の凸部が形成される。 （もっと読む）

【課題】 再生が容易であると共に、紫外線硬化樹脂への正確なパターン形成が可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】 モールド１はガラスモールド２とパターンモールド３とを備えており、パターンモールド３はガラスモールド２に接着されている。ガラスモールド２とパターンモールド３との接着を解除しパターンモールド３を交換するだけで、モールド１を再生できる。また、パターンモールド３は、パターンＰが形成されたエリア３０ａと形成されていないエリア３０ｂとを含む。接着剤４は、エリア３０ｂに対向するエリア３１ａと凹部２１の底面２１ａとの間に配置されている。紫外線硬化樹脂にパターン形成を行う際に、接着剤４が、パターンモールド３のパターン部分における紫外線の透過に影響を及ぼすことが避けられる。よって、紫外線硬化樹脂への正確なパターン形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】輝点の発生が抑制された導光板の製造方法を提供する。
【解決手段】この導光板の製造方法はシート製造工程と転写工程とを備える。転写工程は、連続樹脂シートを押圧ロールと形状ロールとで挟み込むことで押圧する押圧工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面に密着させたまま搬送する搬送工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面から剥離する剥離工程とを含む。押し出される樹脂の温度は、樹脂のガラス転移温度Ｔｇに対して、（Ｔｇ＋１１０）℃〜（Ｔｇ＋１５０）℃である。樹脂はメタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとの共重合体であり、共重合体中のアクリル酸メチル単位の比率は４質量％以上である。形状ロールの温度は、（Ｔｇ−５）℃〜（Ｔｇ＋５）℃である。転写型の凹部の深さＤとピッチＰとの比率Ｄ／Ｐは、０．０５〜０．４５である。導光板の表面には凹部に対応する凸部が形成される。 （もっと読む）

【課題】モールドの表面に溝部の幅が１００ｎｍ以下の微細凹凸構造だけでなく、比較的広い溝部の幅（好ましくは１００〜１００００ｎｍ）を有する微細凹凸構造も形成することが可能な微細構造形成用母型を提供すること。
【解決手段】２種以上の樹脂により形成された２種以上の樹脂層を備える積層体からなり、該積層体の外表面のうちの前記樹脂層の積層方向と略平行な外表面に、溝部を備える凹凸構造を有し、前記溝部の底面が、前記２種以上の樹脂層のうちの１種の樹脂層（Ａ）の端面の少なくとも一部を含むものであり、前記溝部の底面の長手方向が前記樹脂層（Ａ）の端面の長手方向と略平行であることを特徴とする微細構造形成用母型。 （もっと読む）

【課題】熱プレス成形において、熱可塑性板とスタンパとの接触状態を均一化する。
【解決手段】ボルスタ１０２と、スライド１０４と、スライド１０４を駆動する駆動装置１０６とを有するプレス装置と、ダイセット１１２，１１４を有する熱プレス成形装置１００であり、ダイセット１１２，１１４は、内部に収容空間を有する枠体１２０と、枠体１２０の内部に挿入され、収容空間の容積を可変するようにスライドする熱板１３６と、収容空間に収容され、収容空間が縮小するように底板がスライドすると圧縮されるゴム部材１３８と、枠体に取り付けられ、収容空間に面する内面とスタンパ１４２を支持する外面とを有する可撓な天板１４０とを有する。収容空間が縮小するように熱板１３６がスライドすると、天板１４０は圧縮されたゴム部材１３８の弾性力を内面に受けて外方へ変形する。 （もっと読む）

【課題】フィルムのパターンの蛇行を精密に制御することができる装置を提供する。
【解決手段】フィルムの移送機器及びパターン形成機器を含む、パターン化されたフィルムの製造装置に使用されるパターンの蛇行を制御する装置であって、該制御装置は、フィルムの移送機器を基準に設定された、一定の基準位置でフィルム上にマーキングを形成するマーキング部と、マーキング部の後方に位置し、フィルム上のマーキングの位置を認識する認識部と、マーキング部の基準位置及び認識部により認識されたマーキングの位置の間の距離の差より蛇行を算出する演算部と、演算部により算出された蛇行に対応してマーキング部及びパターン形成機器の位置を補正する補正信号を生成する制御部と、制御部により生成された補正信号を受信してパターン形成前にマーキング部及びパターン形成機器の位置を補正する補正部とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、反射防止階層構造を提供することにある。
【解決手段】生物模倣型反射防止階層構造、複合反射防止階層構造、および生物模倣型反射防止階層構造のパターンを含む反射防止面が提供される。反射防止階層構造は、一次構造の1つまたは複数のクラスタ、および各一次構造上に形成された複数の二次構造を含む。一次構造は、約2マイクロメートルの主寸法を有するマイクロメートル範囲の寸法を有する。各二次構造は、ピッチおよび高さが約300ナノメートルであるナノメートル範囲の寸法を有する。 （もっと読む）