【課題】凹凸パターンの転写精度を高めることの容易な成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】賦形型材１１と熱可塑性樹脂基材２１とを重ね合わせてなる成形用基材３１は、ベルト５４，５５の間で搬送される。搬送方向に延在する加熱部７２は、熱可塑性樹脂基材２１に賦形型材１１の有する凹凸パターンが転写され得る温度まで熱可塑性樹脂基材２１を加熱する。加熱部７２よりも下流側で搬送方向に延在する冷却部７３は、熱可塑性樹脂基材２１を冷却する。成形用基材３１は、加熱部７２及び冷却部７３により加圧され、加熱部７２より搬出されてから冷却部７３に搬入されるまでに要する時間が５秒以下となるように、加熱部７２から冷却部７３へ搬送される。好ましくは、加熱部７２及び冷却部７３により、搬送方向に沿って連続した加圧領域を形成し、加熱部７２に搬入されてから冷却部から７３搬出されるまで、成形用基材３１の加圧を継続させる。 （もっと読む）

【課題】擦過損傷を形成されにくくする。
【解決手段】表面３ａに周期的に形成された凹凸４の凹部４ａ底面に、シボ面からなる外装面５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】金属配線と配線基板の密着性の向上を図ることができるインプリントモールドを提供する。
【解決手段】基材２と、所定のパターンを転写可能とする基材２の主面表面に形成された凸部４とを備え、凸部４の頂部４１の周縁部４２の少なくとも一部に溝４５が設けられているインプリントモールド１。 （もっと読む）

【課題】光学シートを形成するのロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート１０の凹凸部分を成形するロール金型２０を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凹凸に対応する溝２３を形成させる工程を含み、溝を形成させる工程では、切削工具による切り込みは、切削工具のバイト角度のうち、送り方向後ろ側となるバイト角度と同じ角度となるように送りつつロール基体の回転軸に近付ける方向に行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ショット領域と型との位置合わせとインプリント処理後のエッチング処理との双方を円滑に行う技術を提供する。
【解決手段】インプリント装置用の型３は、基板側の表面に、パターンを有する中央領域１１と一対の第１周辺領域１５とを含む。前記中央領域は、ｘ軸に平行な一対の辺とｙ軸に平行な一対の辺とを含む境界を有する。前記一対の第１周辺領域は、前記中央領域の前記ｙ軸に平行な一対の辺を含み、前記中央領域の外側に配置される。第１周辺領域は、型側マーク７が形成され、インプリント処理のときに型と基板上に形成された基板側マーク６との間に樹脂が充填されない第１領域１５ａと、型側マークが形成されず、インプリント処理のときに型と基板上に形成された基板側マークとの間に樹脂が充填される第２領域１５ｂとからなる。第２領域は、中央領域の中心を通り前記ｙ軸に平行な直線に対して第１領域と線対称な領域を含む。 （もっと読む）

【課題】樹脂と自然繊維からなる合成紙をエンボスして、自然の繊維からなる紙のエンボス紙と同様なエンボス合成紙を製作する方法及び装置を提供すること。
【解決手段】重さが20g/m² 〜210g/m² である三層構造の合成紙を（１）石英電気オーブン，赤外線加熱器で65℃〜160℃，好ましくは115℃にて予熱及び加熱して，（２）少なくともショアA硬さが60〜90であるゴム製型押しロールと、表面に浮き彫り模様の型があるエンボスロールとからなるエンボス設備にてエンボスし，（３）上記エンボス設備は、エンボス加工中に、エンボスロールとゴム製型押しロールとを同調させて同時に冷却し、（４）更に左右一組の冷却ドラムで冷却し、合成紙上の浮き彫り模様を定着成形してエンボス合成紙となすことからなる。 （もっと読む）

【課題】サブミクロン（１μｍ以下）のサイズのパターンを持つシームレスモールドを高い生産性・量産性で得ること。
【解決手段】本発明のモールドのエッチング装置は、真空槽中に配置されたスリーブ形状のモールド（１５）と、前記真空槽中の前記モールド（１５）の表面に対向する位置に配置された円筒形状の対向電極（２２）と、を具備し、前記モールド（１５）に高周波を印加させ、前記対向電極（２２）を接地して前記モールドをエッチング処理するエッチング装置であって、前記エッチング処理の際、前記モールド（１５）を回転させないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】繰り返しモールドを押し付けてもレリーフパターンの形状が維持され、かつレリーフパターン表面が界面活性剤等の離型剤等で汚染されないナノインプリント用組成物が求められている。
【解決手段】炭素数１〜１００の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物、および、当該組成物を基板に塗布し加熱することによって塗膜を形成し、当該塗膜にモールドを押し当て、モールドに刻まれたパターンのネガ像が形成されたレリーフパターンを形成する、レリーフパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】不必要なブリスターを効果的に排除することにより、インモールド用ラベルを物品の表面に密着させることができる。
【解決手段】インモールド用ラベルが特定物品に結合された場合には、インモールド用ラベル表面に交互かつ連続的に配列された複数の突起マイクロ構造により、多方向の排気ルートが形成される。 （もっと読む）

【課題】エンボス加工時における荷重を低減することによりエンボス加工シートの生産効率を改善する。
【解決手段】エンボス加工シート２０は、エンボス加工によってシート状の基材８０に絵柄９５を形成してなる。エンボス加工シート２０には、絵柄９５の外輪郭に沿って線状に延びる溝８５が形成されている、エンボス加工シート。 （もっと読む）

【課題】超音波加工により反射パターンを形成した場合において、反射パターンの不均一さを調整することで、表面にムラが生じることを防止する。
【解決手段】第１の形成工程及び第２の形成工程により、導光板の主面に複数の加工ドットを備えた超音波加工用ホーンを接触させ、複数の凹部からなる第１の凹部群及び第２の凹部群を形成し、前記端面から入射した光を主面から射出する前記導光板を用いた発光式看板にあって、第１の形成工程では、超音波加工用ホーンを導光板の主面に複数回接触させることで複数の前記第１の凹部群を互いに隣接するように形成し、第２の形成工程では、複数の第１の凹部群のうち、隣接して形成された４箇所の第１の凹部群の領域（Ａ１，Ａ２，Ａ９，Ａ１０）に跨るように、且つ第２の凹部群を構成する各凹部が第１の凹部群を構成する各凹部と重ならない様に第２の凹部群を形成する（領域Ｂ１）。 （もっと読む）

【課題】浸透性の高い活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて転写を行う場合でも、被転写体から容易に剥離できるレプリカモールド、およびこのレプリカモールドを用いて製造した微細凹凸構造を表面に有する成形体とその製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレプリカモールド１０は、隣り合う凸部１６の平均間隔が４００ｎｍ以下の微細凹凸構造を表面に有し、前記微細凹凸構造が、硬化後の表面自由エネルギーが３９ｍＪ／ｍ^２以上である活性エネルギー線硬化性樹脂（α）を（１００−Ｙ）質量％と、シリコーンアクリレート（β）をＹ質量％含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（Ｉ）の硬化物１４からなり、前記活性エネルギー線硬化性樹脂（α）の硬化後の表面自由エネルギーをＸｍＪ／ｍ^２としたときに、ＸとＹが式（−０．６６Ｘ＋３０≦Ｙ（ただし、３９≦Ｘ＜４３．４））または（０．２≦Ｙ（ただし、４３．４≦Ｘ））を満たす。 （もっと読む）

【課題】超音波加工により反射パターンを形成した場合において、反射パターンの不均一さを調整することで、表面にムラが生じることを防止する。
【解決手段】本発明は、第１の形成工程及び第２の形成工程により、導光板の主面に複数の加工ドットを備えた超音波加工用ホーンを接触させ、複数の凹部からなる第１の凹部群及び第２の凹部群を形成し、前記端面から入射した光を主面から射出する前記導光板であって、第１の形成工程では、超音波加工用ホーンを導光板の主面に複数回接触させることにより複数の前記第１の凹部群を互いに隣接するように形成し、第２の形成工程では、複数の第１の凹部群のうち、隣接して形成された４箇所の第１の凹部群の領域（Ａ１，Ａ２，Ａ９，Ａ１０）に跨るように、且つ第２の凹部群を構成する各凹部が第１の凹部群を構成する各凹部と重ならない様に、第２の凹部群を形成する（領域Ｂ１）。 （もっと読む）

【課題】テンプレートに付けたパターンを印写可能媒体に印写することによってパターンを基板に転写する印写リソグラフィで、この印写可能媒体として熱可塑性または熱硬化性樹脂を使うとき、それだけを必要な温度に迅速に加熱する装置・方法を提供する。
【解決手段】テンプレート３０の転写すべきパターンの上に薄い金属層３５が設けてあり、このテンプレート３０を印写可能媒体３４に接触させ、それとそれを保持するホルダ３１を通してレーザ３６のビーム３７で照射する。このビーム３７を金属層３５が効率的に吸収し、この金属層からの熱を印写可能媒体３４へ効率的に伝達するので、印写可能媒体３４の加熱が迅速であり、熱が基板３２に入って基板を歪めることがない。 （もっと読む）

【課題】入射光の反射率及び回折光を低減できる微細構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の微細構造体１は、基材１１と、基材１１主面から上方に突出する複数の凸部１３を含み基材１１上に設けられた微細構造層１２とを具備し、複数の凸部１３が基材１１主面内のＹ軸方向においてピッチＰ１で配列されて凸部列１３−１〜１３−Ｎを構成し、凸部列１３−１〜１３−ＮがＹ軸方向と直交するＸ軸方向にピッチＰ２で並設されており、隣接する第１凸部列１３−１及び第２凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α１と、第２凸部列１３−２及び第２凸部列１３−２に隣接する第３凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α２とが互いに異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】明るさにムラが生じにくい光学素子が得られる凹凸パターン形成シートを提供する。
【解決手段】本発明の凹凸パターン形成シートは、一方向Ｙに沿って凹凸が繰り返すように凸部が繰り返し形成された凹凸パターンを少なくとも一方の面に有し、凹凸パターンは、方向Ｙに沿って切断した断面において、以下の未収縮領域率αが５０％以下である。測定長さＡ：最頻ピッチＰ×１００、高凸部１１ｃ：測定長さＡの範囲内に存在する凸部１１ａのうち、高さが高い方から１〜５０番目の凸部、平均収縮高さＢ：高凸部１１ｃである凸部の平均高さ、収縮領域１１ｄ：測定長さＡの範囲内に存在する凸部１１ａのうち、高さが平均収縮高さＢの１０％以上である凸部が存在する領域、収縮幅Ｃ：各収縮領域１１ｄの幅の合計、未収縮領域率α（％）：α＝（Ａ−Ｃ）／Ａ×１００（％）。 （もっと読む）

【課題】樹脂シートの表面に転写型を精度よく転写することができ、しかも形状ロールにおけるトラレ現象の発生を防止することができる表面形状転写樹脂シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】所定の組成を有する樹脂を加熱溶融状態でダイ５９から連続的に押し出すことにより、表面７６および裏面７５を有する樹脂シート５３を、表面７６の樹脂組成が、熱可塑性樹脂１００質量部および滑剤０．１〜２．０質量部を含むように形成する。次に、当該樹脂シート５３を上ロール６３と中間ロール６４とで挟み込み、次いで、樹脂シート５３を中間ロール６４に密着させたまま搬送し、搬送された樹脂シート５３を中間ロール６４と下ロール６５とで挟み込む。中間ロール６４と下ロール６５とで挟み込む際に、下ロール６５に形成された凹版転写型６９を樹脂シート５３の表面７６に転写する。 （もっと読む）

【目的】容易に製造可能なアライメントマークを備えたインプリント・リソグラフィ用マスクを提供する。
【構成】透明材料からなる基板の表面を掘り込んだ凹凸で形成される転写パターンと、転写パターンと異なる箇所の表面を掘り込んだ凹凸で形成されるアライメントマークと、を有することを特徴とするインプリント・リソグラフィ用マスク。上記転写パターンの凹凸の凹部深さと、上記アライメントマークの凹凸の凹部深さが等しいことが望ましい。また、アライメントマークを形成する凹凸が周期性を有し、最大周期が１８９ｎｍ未満であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】最適な光利用効率、低い製造コスト、薄さおよび明るさを達成しながら、薄い導光板を実現する。
【解決手段】光を放射するためのマイクロパターン形成された出射面、および前記出射面の反対側のマイクロパターン形成された底面を有する光学シート３００ｄであって、パターン形成ローラー４８０ａとパターン形成されたキャリア膜４７４ａとの間のニップに樹脂を押出して、パターン形成ローラー温度Ｔ１およびニップ圧力Ｐ１で光学シートを形成し、前記光学シートは第１のパターン２５２形成された面と第２のパターン２５４形成された面とを有し、前記第１のパターン形成された面はパターン形成ローラーから転写されたマイクロパターンを有し、かつ前記第２のパターン形成された面はパターン形成されたキャリア膜から転写されたマイクロパターンを有し；並びに前記光学シートから前記パターン形成されたキャリア膜を剥ぎ取る；ことを含む工程で製造される。 （もっと読む）

【課題】防眩性を持ちつつ、優れたギラツキ防止性と黒色再現性（低輝度での黒色の階調表現）を実現できる防眩性積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、θａが０．１度以上１．２度以下であり、Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下とされてなるものである。 （もっと読む）