本発明の実施形態は、大面積の基体のナノパターン形成において有用である方法および装置に関し、可動式のナノ構造化されたフィルムは放射線感受性材料をイメージングするために用いられる。ナノパターン形成技術は近接場フォトリソグラフィーを利用し、ナノ構造化されたフィルムは、放射線感受性層に達する光度を調節するために用いられる。近接場フォトリソグラフィーはエラストマー位相シフトマスクを利用してもよく、または、表面プラズモン技術を用いてもよく、ここで可動式のフィルムは金属ナノホールまたは金属ナノ粒子を含む。 （もっと読む）

【課題】賦形型が樹脂で目詰まりせず、影も観察されず、且つ泡の巻き込みもない反射防止フィルムの製造に使用する成形用スタンパーを提供する。また、その成形用スタンパーを用いた反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】可視光領域の波長より小さい周期からなる突起を有し且つその突起の高さが１５０ｎｍ〜４５０ｎｍの反射防止層を形成するための賦形型２３が形成された賦形領域Ｒ１と、その賦形型２３が形成されていない非賦形領域Ｒ２とを有する四辺形のスタンパーであって、非賦形領域Ｒ２が、四辺形の一辺に沿って所定の幅Ｌ３で設けられ、賦形領域Ｒ１に引き延ばす硬化性樹脂１４を載せるために用いられる成形用スタンパー２により上記課題を解決する。さらに、この成形用スタンパー２を用いて反射防止フィルム１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

特に、波長範囲が０．１ｎｍと１００ｎｍとの間の波長の電磁放射用の光学デバイス内で使用するための光学グレーティングの横方向パターンを有する多層構造体の製造方法は、（ｉ）多層構造体を提供するステップと、（ｉｉ）この多層構造体内に横方向三次元パターンを配置するステップとを含んでおり、横方向パターンを配置するステップ（ｉｉ）はナノインプリント・リソグラフィ（ＮＩＬ）用の方法によって実現され、この製造方法に基づいて製造されるＢＦ構造体及びＬＭＡＧ構造体が提供される。
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【課題】賦型材表面の凹凸を転写することにより得られる凹凸模様と、金属光沢、着色、印刷図柄等を同時に、しかも鮮明に生産性よくプラスチック基材に付与した加飾成型材、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材上に、プラスチックフイルムの片面に意匠層が形成された転写材、少なくとも片表面に凹凸を有する賦型材が順次載置された積層体を得る工程（Ａ）、加熱してプラスチック基材を溶融状態にする工程（Ｂ）、プラスチック基材が溶融状態である積層体を少なくとも賦型材側から加圧して、転写積層体を得る工程（Ｃ）、前記転写積層体を冷却後、転写材のプラスチックフイルム及び賦型材を剥離して、意匠層及び少なくともプラスチック基材の意匠層側表面に凹凸模様を形成する工程（Ｄ）からなること、及び一度使用された賦型材を再度使用しない。 （もっと読む）

【課題】様々な位置にアライメントマークを有するインプリントテンプレートに合わせてアライメントを達成するアライメント装置を提供する。
【解決手段】インプリントテンプレートアライメントマークを検出する少なくとも２つの検出器と、場所の調整を提供するアライメント放射調整光学系と、を備えるインプリントリソグラフィアライメント装置が開示される。少なくとも２つのアライメント検出器は、前記場所からアライメント放射を受光する。 （もっと読む）

【課題】転写型の凹凸形状を高い転写率で転写できると共に製造効率の良い表面形状転写樹脂シートの製造方法を提供する。
【解決手段】この発明の製造方法は、樹脂をダイ８から連続的に押し出して連続樹脂シート２を得る押出工程と、連続樹脂シート２を第一押圧ロール１１と第二押圧ロール１２とで挟み込む第一押圧工程と、第一押圧工程の後に連続樹脂シート２を第二押圧ロール１２に密着させた状態で搬送する搬送工程と、搬送工程の後に連続樹脂シート２を第二押圧ロール１２と第三押圧ロール１３とで挟み込む第二押圧工程とを含み、第二押圧ロール１２及び第三押圧ロール１３のうちの少なくともいずれか一方の押圧ロールは、その表面に転写型を備え、第二押圧工程において５ＭＰａ以上のロール間押圧圧力で連続樹脂シート２を挟み込むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形する成形型のマスタ作成の際に、材料のはみ出しを防止でき、高い精度で転写できるマスタ型及びその作成方法を提供する。
【解決手段】基板部１の表面に光学素子の形状を有する成形部が成形された成形体を作成するため、成形体の形状に一致するマスタ型であって、この型は、マスタを構成する基板３１の表面に、樹脂からなる造形材料を変形させて成形部に対応する造形部の形状を形成する型面を備え、該型面は、光学素子の光学面に相当する形状を転写する転写部２１と、基板３１に対面する平面からなる平面部２０ａと、転写部２１と平面部２０ａの間で転写部２１を囲んで形成される凹部であって、転写部２１と基板３１の表面との間の空間に収納しきれない造形材料を収納する空間を構成する樹脂収納凹部２２とからなり、転写部２１の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性が、樹脂収納凹部２２の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性より高い。 （もっと読む）

【課題】光学シートの品質管理を高精度に行うことができると共に、生産性にも優れた、表面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】この発明の光学シート２の製造方法は、押出機から熱可塑性樹脂を押し出して樹脂シート１を得る押出工程と、成形面に凹凸形状部３０ａ及び平坦部３０ｂが設けられた成形ロール１２を、樹脂シート１の少なくとも片面に圧接せしめることによって、表面に凹凸形状面及び平坦面が形成された光学シート２を得る表面成形工程とを包含することを特徴とする。得られた光学シート２の平坦面部分を切り取り、該平坦面部分の光学特性を測定し、得られた測定値をフィードバックして製造条件を調整することによって、光学シート２の品質管理を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのレーザーを使用して、金属製プレスシート、エンドレスベルト又はエンボスロールの表面構造を製造するための方法、及びその方法を適用した装置を提供する。
【解決手段】表面構造を低費用で製造できると同時に環境を保護する処置を可能にするために、金属製プレスシート１、エンドレスベルト又はエンボスロールの加工するべき表面２の表面構造４全体を部分的に除去するレーザーの使用が提案される。ここでは用意された３Ｄトポグラフィによってレーザーの制御が実行され、その際深さ構造を生成するために、得られたＸ、Ｙ、Ｚ座標を使用してレーザーの制御が行われ、その結果盛り上がった範囲５及び深さのある範囲６が形成される。 （もっと読む）

【課題】液晶フラットパネルディスプレイの光源ユニット部材において、高輝度で高輝度均整度を達成するために必須となる、微細で高度な寸法精度が求められる凹凸形状に賦型された光学シートの製造方法の提供。
【解決手段】熱可塑性樹脂を押出機のダイより連続的に溶融状態のシート状に押出し、第１ロール２と第２ロール３間で圧延した後、第３ロール４により表面に複数の微細な凹凸形状を賦型する凹凸パターン付熱可塑性樹脂シートの製造方法において、第１ロール、第２ロール、第３ロールの温度を、該熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、各々、Ｔｇ−５０℃〜Ｔｇ＋２０℃、Ｔｇ＋２０℃〜Ｔｇ＋６０℃、Ｔｇ＋３０℃〜Ｔｇ＋７０℃に設定し、かつ、第２ロールの周速度Ｖ_２とし、第３ロールの周速度Ｖ_３としたとき、周速度Ｖ_３を周速度Ｖ_２の９３％〜１００％とする。 （もっと読む）

【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その防眩フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すめっき工程と、該めっき工程によって銅めっきまたはニッケルめっき３が施された表面を切削加工および／または研磨加工することによって表面粗さが０．１μｍ以下の鏡面とする鏡面加工工程と、鏡面加工された面に複数の微細凹部１８を切削加工によって形成する微細凹部形成工程と、微細凹部１８が形成された面に保護膜１９を形成する保護膜形成工程とを含む、金型の製造方法であって、上記微細凹部形成工程における切削加工が、切削される微細凹部間の平均最隣接距離、切削深さが特定の条件を満たす金型の製造方法、およびそれで得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示し、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された、凹凸表面を有する防眩層とを備え、空間周波数０．０１６μｍ^-1における該防眩フィルムの複素透過関数のエネルギースペクトルＴ₁²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₁²／Ｔ₂²が６０００以下であり、空間周波数０．１０８μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₃²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₃²／Ｔ₂²が３以上２０以下である防眩フィルム、その製造方法および当該防眩フィルムの製造方法に好適に用いられる金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ナノリソグラフィステップを用いて機能ナノ粒子を形成する方法を提供すること。
【解決手段】機能ナノ粒子は、少なくとも１つのナノリソグラフィステップを使用して形成される。一実施例において、犠牲材料は、インプリントリソグラフィシステムを使用して多層基板上にパターン化される。このパターンは、この多層基板に更にエッチングされる。
機能材料は、次に、多層基板に蒸着され、凝固される。機能材料の少なくとも、一部は、次に、柱を晒すクラウン表面を提供するために除去される。
柱は、機能ナノ粒子を形成する多層基板から除去される。 （もっと読む）

【課題】転写型の表面形状を精度よく、速やかに転写して、効率よく表面形状転写樹脂シートを製造し得る方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面形状転写樹脂シートの製造方法は、樹脂を加熱溶融状態でダイから連続的に押し出して連続樹脂シートを製造するシート製造工程と、連続樹脂シートを第一押圧ロールと第二押圧ロールとで挟み込む第一押圧工程とを含み、上記第一押圧ロールまたは第二押圧ロールのいずれかの表面に金属製の転写型を備え、この転写型は、複数の凹部または凸部を有し、該凹部または該凸部のピッチ間隔が３０μｍ〜５００μｍであり、該凹部の溝深さまたは該凸部頂部高さは３μｍ〜５００μｍであり、上記第一押圧工程において、連続樹脂シートの表面に第一押圧ロールまたは第二押圧ロール表面に備えた転写型が転写され、上記樹脂は、結晶性高分子樹脂であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 改善された安定剤を含むビニルエーテル・レジストを提供すること。
【解決手段】 本発明のレジスト組成物は、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する少なくとも１つのビニルエーテル架橋剤と、単官能性ビニルエーテル化合物を含む少なくとも１つの希釈剤と、上記単官能性ビニルエーテル化合物及び上記少なくとも１つのビニルエーテル架橋剤のうちの選択された一方又は両方に可溶性の少なくとも１つの光酸発生剤と、エステル位置、又はアルファ位置及び前記エステル位置、のいずれかで置換基で選択的に置換されたエステル化合物を含む少なくとも１つの安定剤とを含む、ＵＶインプリント・リソグラフィ用途に適したコーティング組成物である。当該レジスト組成物を用いたインプリント・プロセスによる像形成方法も開示される。 （もっと読む）

基板の隣接するフィールドにインプリントする方法について記載する。一般に、インプリント・リソグラフィ・テンプレートを用いて、基板の第１のフィールドにインプリントすることができる。つぎに、基板の第２のフィールドにインプリントする際に、テンプレートの一部が基板の第１のフィールドにオーバラップするように、テンプレートを配置することができる。 （もっと読む）

硬化パウダーコーティング表面にテクスチャを与えるための方法が提供される。これらの方法は、前記硬化パウダーコーティングをそのガラス転移点（Ｔｇ）を超える温度まで加熱する段階と、次いで複製表面を有する剥離媒体を用いて加圧下で前記硬化パウダーコーティングにテクスチャを与える段階と、を含む。テクスチャが前記硬化パウダーコーティングに与えられた後、前記剥離媒体は除去され得る。適切な剥離媒体の例は、例えば凹版、彫刻ロール、剥離紙、剥離フィルム及び剥離ウェブなどを含む。
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【課題】被着体に貼着した際に溝が視認されにくく、溝への水滴の浸入を防止でき、しかも空気除去性が高い粘着シートを得るための剥離シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の剥離シート２０の製造方法は、少なくとも片面が剥離面２０ａとされた剥離性基材２０ｄを加熱する加熱工程と、加熱した剥離性基材２０ｄの剥離面２０ａに、エンボス形成体（エンボスロール１２０）のエンボス面１２１を押し付けるエンボス加工工程とを有し、剥離性基材２０ｄとして、剥離シート用支持体と、該剥離シート用支持体の少なくとも片面に設けられた熱可塑性樹脂層とを有し、該熱可塑性樹脂層の露出面が剥離面２０ａにされたものを用い、エンボス加工工程におけるエンボス形成体（エンボスロール１２０）として、エッチングによりエンボス面１２１を形成したものを用いる。 （もっと読む）

インプリントリソグラフィシステムにおいて、テンプレートチャック上の引っ込んだ支持体が、上部に配置されたテンプレートの形状を変化させ、ナノインプリントリソグラフィプロセスにおいてテンプレートの外縁が早期に下方偏向するのを最小限に抑え、及び／又はこれを排除することができる。 （もっと読む）