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Fターム[4G026BF44]の内容

セラミックスの接合 (5,845) | 中間材(接合剤) (1,378) | 中間材の形態 (403) | 粉体又は粒体 (231) | ペースト (194)

Fターム[4G026BF44]に分類される特許

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【課題】接合強度、耐食性、経済性に優れ、特に化学プラントや半導体製造装置などで用いられる大型セラミックス部材として好適に適用することができるアルミナ接合体、及びそのようなアルミナ接合体を作製するためのアルミナ焼結体の接合方法を提供する。
【解決手段】アルミナ焼結体1a、1b同士が接合部3を介して接合されたアルミナ接合体1Bである。接合部3は、厚さ30μm以上のアルミナからなり、接合部3の厚さ方向における孔径が接合部3の厚さの40〜100%の長さである粗大独立気孔20cと、孔径が5μm以下の微細気孔を含む未焼結領域20aと、相対密度が98%以上の緻密な焼結領域20bとから形成されている。 (もっと読む)


【課題】反りの発生を抑制することができ、かつ、ヒートシンクとパワーモジュールとの接合信頼性に優れたヒートシンク付パワーモジュール用基板、基板製造方法、及び、このヒートシンク付パワーモジュール用基板を用いたパワーモジュールを提供する。
【解決手段】セラミックス基板11と、前記セラミックス基板11の表面に一面が接合されたアルミニウムからなる第一の金属板12と、前記セラミックス基板の裏面に一面が接合されたアルミニウムからなる第二の金属板13と、該第二の金属板13の前記セラミックス基板と接合された前記一面と反対側の他面に接合されたアルミニウム又はアルミニウム合金からなるヒートシンク40とを備え、前記第一の金属板12及び前記第二の金属板13のうち前記セラミックス基板11との接合界面近傍にはAgが固溶されており、前記第二の金属板13及び前記ヒートシンク40の接合界面近傍にはCuが固溶されている。 (もっと読む)


【課題】排気ガス浄化装置に設置した場合にも、ハニカム構造体がズレることを防止することができるハニカム構造体を、容易にかつ効率良く製造することが可能な製造方法の提供。
【解決手段】場所によりその厚さが異なるコート層を形成可能な凹凸部を有する筒状体501を準備する工程と、多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された1つのハニカム焼成体100、縦横に並列されてなるハニカム並列体180、又は、接着剤層211を介して接合されたセラミックブロック200を準備する工程と、前記1つのハニカム焼成体100、並列体180又はセラミックブロック200を、前記筒状体内501に、前記1つのハニカム焼成体100、並列体180又はセラミックブロック200の外周面と前記筒状体の内壁面とが所定間隔の空隙を有するように配置する工程と、前記空隙にシール材ペースト522を供給する工程とを含む、ハニカム構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電子部品を位置決めするための位置決め部材を支持した台座が反転されても、位置決め部材、電子部品が台座上から脱落することのない電子部品位置決め用治具を提供する。
【解決手段】電子部品13を位置決めするカーボン製の位置決め部材15と、位置決め部材15を平面上に支持する台座17とを備える電子部品位置決め用治具11であって、台座17は位置決め部材15に係止する枠部材21と枠部材21を固定する本体部23とで形成され、位置決め部材15は、台座17の枠部材21を接合手段29により台座17の本体部23に固定することにより台座17の枠部材21と台座17の本体部23との間で台座17の本体部上を変位可能に挟持される。 (もっと読む)


【課題】放熱特性が良好であるとともに、セラミックスからなる支持基板に大きな反りが発生することの少ない、信頼性の高い回路基板およびこれを用いた電子装置の提供。
【解決手段】窒化珪素を主成分とする支持基板1の第1主面に、チタン,ジルコニウム,ハフニウムおよびニオブから選択される少なくとも1種の活性金属を含むろう材からなる第1の接合層3a,3bを介して、銅を主成分とする回路部材2a,2bが設けられた回路基板10であって、支持基板1の第1主面の表面に、窒化珪素の結晶粒子が活性金属を含む珪化物の結晶粒子によって連結されている回路基板10である。 (もっと読む)


【課題】第一の金属板の上に搭載された電子部品等の発熱体からの熱の放散を促進することができ、かつ、熱サイクル負荷時におけるセラミックス基板の割れの発生を抑制し、信頼性の高いパワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】セラミックス基板21と、第一の金属板22と、第二の金属板23と、を備えたパワーモジュール用基板20であって、第一の金属板22は、銅又は銅合金で構成されており、第二の金属板23は、耐力が30N/mm以下のアルミニウムで構成されており、第二の金属板23とセラミックス基板21との接合界面には、Si,Cu,Ag,Zn,Mg,Ge,Ca,Ga,Liのうちのいずれか1種又は2種以上の添加元素が固溶しており、第二の金属板23のうち接合界面近傍における前記添加元素の濃度の合計が0.01質量%以上5質量%以下の範囲内に設定されている。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて容易に電気抵抗率の温度変化依存性を抑制することが可能なハニカム構造体を提供する。
【解決手段】本発明では、セル壁によって区画された柱状のハニカムユニットを含んで構成されたハニカム構造体であって、前記ハニカムユニットのセル壁および/または外周壁に一対の電極が配置されており、前記ハニカムユニットのセル壁は、セラミック製の骨材および該骨材によって構成された気孔からなるとともに、前記セル壁には、前記骨材を構成するセラミックよりも電気抵抗率が低い物質が含まれていることを特徴とするハニカム構造体が提供される。 (もっと読む)


【課題】 温度が急激に上昇した場合等の熱衝撃であってもクラックが発生しにくいハニカム構造体を提供すること。
【解決手段】 多数のセルがセル壁を隔てて長手方向に並設された多孔質の炭化ケイ素質ハニカム焼成体を含んで構成されたハニカム構造体であって、前記炭化ケイ素質ハニカム焼成体の表面にはケイ素を含む酸化物層が形成されており、X線光電子分光法(XPS)を用いて測定した前記酸化物層の厚さは、5〜100nmであるハニカム構造体。 (もっと読む)


【課題】 腐食性の高い流体が流れる流路を備える部材において、長期間にわたって使用することのできるセラミック接合体およびこれを用いた支持体を提供する。
【解決手段】 基体2と、基体2に接合層6を介して接合された蓋3とを備えたセラミック接合体1であって、基体2と蓋3とで形成される空間が流体の流路5とされ、流体の流れる方向に流路5を断面視したとき、深さの深い領域5aの両側に浅い領域5bを有しているセラミック接合体1である。流路5に、腐食性の高い流体を流したとしても、基体2と蓋3との接合層6は劣化しにくく、流体の漏洩が生じることが少ないので、腐食性の高い流体が流れる流路5を備える部材として長期間にわたって使用することができる。 (もっと読む)


【課題】比較的高い熱膨張係数の部材のシールや接着に好適な高温シール材料を提供する。
【解決手段】高温シール材料は、A(1−x)CoFe(1−y)(Aは、Ba又はLaで、Bは、AがBaのときSrで、AがLaのときCa又はBaであり、0<x,y<1である)で表されるペロブスカイト型酸化セラミックス粉と、溶剤と、分散剤とを含む。ペロブスカイト型酸化セラミックス粉は、粒径が10〜45μmの粗粒1と、粒径が2μm以下の細粒2と、を有し、細粒2と粗粒1との重量比が1:2〜3.5である。 (もっと読む)


【課題】セラミックス部材と金属部材とを、ろう付けによって高い導電性を確保した状態で接合するセラミックス−金属接合体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のセラミックス−金属接合体の製造方法は、導電性を有するセラミックス材料からなるセラミックス部材131の接合面131aに、還元性を有する還元剤134を塗工して上記接合面131aにおける酸化膜を還元除去し、その後、セラミックス部材131と金属部材132とをろう材133を介して接合する工程を備えたセラミックス−金属接合体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】絶縁性セラミックスと導電性セラミックスとの間の熱膨張率差が極めて小さく、この熱膨張差によるミスマッチが生じる虞がなく、破損やクラックや剥離や破壊等の不具合が生じる虞がないセラミック部材を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック部材1は、酸化イットリウムを主成分とし、カーボンナノチューブ等の繊維状導電性物質を0.1体積%以上かつ3体積%以下含有してなる導電性セラミックス2と、酸化イットリウムを主成分とする絶縁性セラミックス3とを、無機系接着材からなる接着層4を介して接着し一体化した。 (もっと読む)


【課題】炭化ホウ素含有セラミックス部材同士を、簡便な方法で、かつ、接合強度が100MPa以上の極めて高い強度をもって接合することができる新規な技術の提供。
【解決手段】炭化ホウ素を含有してなる各セラミックス部材同士が、接合層を介して一体化されてなり、かつ、接合した部分の強度が100MPa以上である炭化ホウ素含有セラミックス接合体。 (もっと読む)


【課題】排ガス中の粒子状物質(パティキュレート)等を捕集するフィルタとして特に有用な、コーティング材による被覆後における小孔やクラック等の欠陥の発生が確実に抑制された、耐久性に優れたハニカム構造体を提供する。
【解決手段】複数のハニカムセグメントが接合材によって一体的に接合されてなり、かつその接合体の外周面が主成分としてセラミックスを含有するとともに粒状のフィラーと水9〜13質量%とを含有するコーティング材によって被覆されてなり、粒状のフィラーが塗布性および延び性を前記コーティング材に付与するものであることを特徴とするハニカム構造体。 (もっと読む)


【課題】セラミックス材と金属材との接合体において、熱膨張差による接合界面の剥離を防止し、接合強度を改善する。
【解決手段】セラミックス材11と金属材14とが積層された接合体10であって、セラミックス材11と金属材14との間に、三次元網目状の金属多孔質材からなる中間層12を備え、中間層12は、その厚さ方向に沿って密度や孔径が異なることにより異なる変形能を有し、セラミックス材11側の変形能が金属材14側の変形能よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】 高い電圧が印加された場合であっても、過大電流が発生し難いセラミックス体を提供する。
【解決手段】
セラミック体の表面に導電層が接合された、導電層付きセラミック体であって、前記セラミック体は、AlOとAlTiOとを含み、前記導電層は、MoおよびMnを合計で50質量%以上の割合で含有しているとともにTiを含み、前記導電層と前記セラミック体との境界部分に、Mnを主成分として含む第1の境界領域が形成されていることを特徴とする、導電層付きセラミック体を提供する。 (もっと読む)


【課題】更に低い接合温度でも良好な接合状態を得ることができ、かつ、製造工程において加圧の必要がない窒化アルミニウム接合体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウムを含む棒状の取付体23と、窒化アルミニウムを含み、前記取付体23の先端部23aが支持穴25に螺合された被取付体27と、これらの取付体23と被取付体27との当接部のうち、少なくとも、前記螺合によって取付体23が圧接力を受ける圧接部に形成され、前記取付体23及び被取付体27を接合する接合層11とを備えた窒化アルミニウム接合体である。 (もっと読む)


【課題】接合強度の高い単結晶ダイヤモンド工具を提供する。
【解決手段】単結晶ダイヤモンド工具は、台金10と、台金10上に設けられる第一ロウ材層41と、第一ロウ材層41上に設けられる金属層30と、金属層30上に設けられる第二ロウ材層42と、第二ロウ材層42上に設けられる単結晶ダイヤモンド層20とを備える。金属層30は、銅を50質量%以上含む。 (もっと読む)


【課題】コート層全体の強度が均一で、しかもコート層の表面強度が高いハニカム構造体を容易に実現できるハニカム構造体の製造方法及びハニカム構造体を提供すること。
【解決手段】本発明のハニカム構造体の製造方法は、型枠内に複数のハニカム焼成体を固定する固定工程と、上記型枠とハニカム焼成体との隙間及びハニカム焼成体間の隙間にシール材ペーストを充填する充填工程と、上記シール材ペーストを乾燥固化させて接着材層及びコート層を形成する乾燥工程とを備え、上記シール材ペーストは、無機粒子及び/又は無機繊維を含み、上記型枠、上記型枠の内面、又は、上記型枠の内面側に配置された部材には、空気透過性を有する通気部が設けられており、上記乾燥工程では、上記シール材ペーストを上記通気部の少なくとも一部に接触させて上記シール材ペーストの乾燥固化を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造コストを低く抑えることができるハニカム構造体を提供すること。
【解決手段】多数のセルがセル壁を隔てて長手方向に並設されたハニカム焼成体が接着材層を介して複数個結束されてなるセラミックブロックと、上記セラミックブロックの外周面に形成されたシール材層とからなるハニカム構造体であって、上記セラミックブロックは、長手方向に垂直な断面の形状が四角形である断面四角形ユニットが接着材層を介して複数個結束されてなる断面四角形ユニット集合体と、長手方向に垂直な断面の形状が三角形であり、外周部に外壁が形成された断面三角形ユニットとを含んでなり、上記断面四角形ユニット集合体の外周面には、凹部及び凸部が階段状に形成されており、上記凹部には、上記断面三角形ユニットが接着材層を介して存在しており、上記シール材層の厚さが部分的に異なっていることを特徴とするハニカム構造体。 (もっと読む)


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