説明

Fターム[4G030AA12]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 成分 (15,407) | 希土類元素、アクチニウム系列元素酸化物 (1,188) | 酸化イットリウム (387)

Fターム[4G030AA12]に分類される特許

61 - 80 / 387


【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル%で、少なくとも、5〜50%のSiOと、0〜20%のAlと、0〜25%のBと、0〜25%のBaOと、10〜60%のTiOと、5〜35%のREとを構成成分として有する。ここで、Baは部分的にSr、Ca、Mgで置換でき、REはランタニドまたはイットリウムであり、Tiは部分的にZr、Hf、Y、Nb、V、Taで置換できる。 (もっと読む)



【課題】酸化物粒子のナノメートルレベルでの分布性、組成制御性に優れた複合セラミックス粉体の提供。
【解決手段】少なくともA1−x1−y(AはLa及びSmの群から選ばれる1種または2種の元素、BはSr、Ca及びBaの群から選ばれる1種または2種以上の元素、CはCo、Ga及びMnの群から選ばれる1種または2種以上の元素、DはFe、Mg及びNiの群から選ばれる1種または2種以上の元素であり、0.1≦x≦0.5、0≦y≦1.0)で表される酸化物または酸化ニッケルと、金属イオンが固溶して酸素イオン導電性が付与されたジルコニアと、を含有する複合セラミックス粉体であって、
前記A1−x1−yを構成するA、B、C及びDの群から選択される1種または2種以上のイオンまたはニッケルイオンと、金属イオンとを、塩基性炭酸ジルコニウム錯体と共沈させ沈殿物を200℃以上の温度で熱処理してなる。 (もっと読む)


【課題】 高温負荷寿命の向上を実現し、信頼性の高いセラミック電子部品を製造する方法を提供すること。
【解決手段】セラミック層と電極とを有するセラミック電子部品の製造方法であって、セラミック層がABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる1つ以上、BはTi、ZrおよびHfから選ばれる1つ以上)で表される主成分および添加成分を含む誘電体磁器組成物から構成され、主成分の原料粉体と、添加成分に含まれる金属元素のうち、少なくとも一部の金属元素のゲル状化合物スラリーまたは少なくとも一部の金属元素の溶液とを準備する工程と、主成分の原料とゲル状化合物スラリーまたは溶液とを分散して原料混合物を得る工程と、原料混合物を乾燥する工程と、乾燥後の原料混合物を熱処理する工程とを有する。ゲル状化合物スラリーまたは溶液としては、ゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液が好ましい。 (もっと読む)


【課題】微量添加物をセラミック粒子の表面に均一に付着させる。
【解決手段】セラミック粒子と、これに添加しようとする金属酸化物の構成金属の水溶性塩と、金属元素の陽イオンに対する錯化剤と、カチオン性機能性モノマーを含む水溶液を生成するステップと、前記水溶液において重合反応を生じさせて重合反応物とセラミック粒子の混合物を得るステップと、前記混合物を乾燥・仮焼して金属イオンを金属酸化物に変換しかつ重合体を除去するステップとを含んでなる表面改質セラミック粉末の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】アノード支持型ハーフセルの製造方法において、固体電解質膜の貫通孔を低減することができる製造方法を提供する。
【解決手段】アノード支持基板と、前記アノード支持基板に積層されたアノード層と、前記アノード層の前記アノード支持基板が積層された面と反対の面に積層された電解質層とを有するアノード支持型ハーフセルを製造する方法であり、ペースト調製工程、解砕工程、および、成層工程を有しており、前記解砕工程において、グラインドメーターにより計測される凝集物の最大粒子径が10μm以下になるまで解砕することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明で多結晶のセラミックを提供する。
【解決手段】本セラミックは、式AxCuByDvEzFw、A、Cは、Li+Na+Be2+Mg2+Ca2+Sr2+Ba2+Al3+Ga3+In3+C4+Si4+Ge4+Sn2+/4+Sc3+Ti4+Zn2+Zr4+Mo6+Ru4+Pd2+Ag2+Cd2+Hf4+W4+/6+Re4+Os4+Ir4+Pt2+/4+Hg2+とその混合物から選択され、B、Dは、Li+Na+K+Mg2+Al3+Ga3+In3+Si4+Ge4+Sn4+Sc3+Ti4+Zn2+Y3+Zr4+Nb3+Ru3+Rh3+、La3+、Lu3+、Gd3+とその混合物から選択され、E、Fは、S、Se、Oの二価アニオンとその混合物から選択され、x、u、y、v、z、wは、0.125<(x+u)/(y+v)≦0.55、z+w=4を満たし、A=C=Mg2+、B=D=Al3+の時、E、Fが共に0でない (もっと読む)


セラミック複合積層体は、波長変換層と、非発光層とを含み、セラミック複合積層体は、少なくとも0.650の波長変換効率(WCE)を有する。セラミック複合積層体は、発光材料と散乱材料とを含む波長変換セラミック層をも含むことができ、ここで、積層複合体は、約40%〜約85%の全透過率を有する。波長変換層は、プラズマYAG:Ce粉末から形成されていてもよい。 (もっと読む)


【課題】2種以上の金属元素が均一に分散した金属酸化物球状粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】水溶液中に金属酸化物粉体が懸濁しているスラリーに、尿素またはヘキサメチレンテトラミンをあらかじめ添加した分散相を、界面活性剤を含む有機溶媒である連続相中に分散させて油中水型エマルション(W/Oエマルション)を形成させ、加熱することにより熱分解して水中の水素イオン濃度を変化させることによって、分散相中の粉体を凝集・固化させたのち、連続相を除去して乾燥し、焼成して金属酸化物球状粒子を得る。 (もっと読む)


本発明は、負の熱膨張率および酸化物セラミック粒子を有することを特徴とする、セラミック成分を含む複合材料、およびその獲得プロセス、およびマイクロエレクトロニクス、精密光学部品、航空学、航空宇宙産業におけるその使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、セラミックスマトリックスとしての酸化アルミニウムと、その中に分散された酸化ジルコニウムとからなる複合材料、その製造法及びその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】緻密化焼成温度範囲を広げるとともに、本来のコ一ジライト質セラミックスよりも低熱膨張、高強度および低吸水率な耐熱衝撃性セラミックスを得るものである。
【解決手段】主たる結晶相がコージェライト相であるコージライト質セラミックスに、さらに酸化物換算で酸化チタンおよび酸化イットリウムの少なくとも一方を0.5質量%以上10質量%以下、ならびに酸化リチウムを0.5質量%以上7質量%以下の範囲で添加したものである。 (もっと読む)


本発明は、特にセラミック焼結部品の製造のための粒状粉体であって、乾燥物質を基準として、重量による次の化学組成、すなわち:25℃以下のガラス転移温度を有する少なくとも1%の第1バインダー;25℃超のガラス転移温度を有する0〜4%の追加のバインダー;第1バインダーおよび追加のバインダーとは異なる0〜4%の一時添加剤であって、第1バインダー、追加のバインダーおよび一時添加剤の合計含有率が9%未満である一時添加剤;セラミック材料を焼結するための0〜15%の添加剤;少なくとも2%の不純物;ならびに100%となるまでの残分の、セラミック材料および任意的に前記セラミック材料を安定化する剤を含む前記粉体に関する。本発明によれば、この粉体の中央粒径D50は80〜130μmであり、パーセンタイル値D99.5は500μm未満であり、顆粒の相対密度は30%〜60%である。 (もっと読む)


【課題】光の直線透過率が高く、しかも、曲げ強度が大きく、高圧ナトリウムランプやメタルハライドランプ等の高輝度放電灯に使用される発光管の製造に適した透光性多結晶質焼結体を提供する。
【解決手段】透光性多結晶質焼結体は、アルミナを主成分とし、高輝度放電灯に用いられる発光管の製造に適した透光性多結晶質焼結体において、平均粒径が35〜70μm、好ましくは50〜60μmである。0.5mm厚の平板形状とした場合における直線透過率が30%以上、好ましくは50%以上である。0.5mm厚の平板形状とした場合における可視光領域(360〜830nm)の直線透過率の最大値と最小値の比が2:1〜1:1である。曲げ強度が250MPa以上、好ましくは300MPa以上である。 (もっと読む)


【課題】 ベアリングボール等に用いられる帯状部を有するセラミックボール素球を製造する際に、プレス成形時の割れ、および焼成時の割れの発生を防止し、高い歩留まりでセラミックボール素球を得る。
【解決手段】 両端部に略球面状の球面部を有し、中央部に円周方向全体にわたって、外側に突出する帯状部が形成された、セラミックボール素球において、球面部と帯状部との間に、傾斜部を有することを特徴とするセラミックボール素球。 (もっと読む)


【課題】耐汚損性と長期にわたる耐電圧特性とを兼ね備える小型のスパークプラグ、及び、このスパークプラグの製造方法を提供すること。
【解決手段】先端側に脚長部30を有する絶縁体2と中心電極3と係合凸部56で絶縁体2を保持する主体金具1とを備え、係合凸部56の内径DIN、係合凸部56の内周面59に対面する脚長部30の最大外径dOUT、その内径dIN及び絶縁体2の誘電率εが下記条件を満足するスパークプラグ100、並びにAl化合物粉末とSi化合物粉末とMg化合物粉末及びBa化合物粉末を含む2種類以上の第2族元素化合物粉末と0.5〜4.0質量%の希土類化合物粉末とを含有する原料粉末を加圧成形後に焼結して絶縁体2を製造する工程を含むスパークプラグ100の製造方法。条件:(DIN−dOUT)/2≦0.40(mm)、(dOUT−dIN)/2≦1.65(mm)及びε≧9.4(F/m)) (もっと読む)


【課題】鉄ヒ素系超電導材料において、従来はフッ素置換型や酸素欠損型により超伝導転移温度Tcを向上させていたが、Tcがより高い50Kを超えるような超電導材料及び超電導薄膜を提供することが望まれている。
【解決手段】ZrCuSiAs型の結晶構造を有する鉄ヒ素系超電導材料において、水素を含有させることにより、化学式LnFeAsO1−y(ただし、LnはY及びランタノイド元素からなる群から選択される少なくとも1種の元素、yは0以上0.5以下、xは0.01以上0.5以下)で表される鉄ヒ素系超電導材料を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率とともに高い発光効率を有する透光性セラミックを提供する。
【解決手段】 ペロブスカイト型化合物ABO3(ただし、AはBaを含む)を主成分とし、希土類元素R(RはCe、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybから選ばれる少なくとも一種)を含む組成を有する透光性セラミックであり、希土類元素RがAサイトに含まれる。 (もっと読む)


本発明は高温耐性の基部を具えるモジュール型部品に関連しており、当該高温耐性基部は、セラミックキャピラリ膜を導入するための少なくとも1の貫通路、及び金属又はセラミックの底部と少なくとも1のセラミックキャピラリ膜との間に十分な気密と高温耐性の接合部として形成される少なくとも1のポッティングを有する少なくとも1の金属又はセラミック底部を有している。少なくとも1の金属又はセラミック底部の少なくとも1の貫通穴は、金属又はセラミック底部の少なくとも一面上に十分な気密と高温耐性の接合に対応するための拡張部を有している。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットの強度が高く、スパッタ膜の非晶質性が安定であり、青色波長領域で透過率が高く、また屈折率も高い膜を形成できるスパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜を得る。これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び薄膜の品質を大幅に改善しかつ安定化する。
【解決手段】ZnSを主成分とし、ZrO2とY2O3を含み、ZnS:50〜95mol%、ZrO2:4〜49mol%、Y2O3:0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット及びZnSを主成分とし、ZrO2とMgO及び又はCaOを含み、ZnS:50〜95mol%、ZrO2:4〜49mol%、MgO及び又はCaO:0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


61 - 80 / 387