【課題】 本発明は、積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造時において、導電ペースト中の有機溶剤により溶解されにくいポリビニルアセタール樹脂を提供する。
【解決手段】 本発明のポリビニルアセタール樹脂は、ケン化度が８０モル％以上で且つ数平均重合度が１０００〜４０００のポリビニルアルコールをアセタール化して得られるポリビニルアセタール樹脂であって、アセタール化度が６０〜７５モル％で、且つ、アセトアルデヒドによりアセタール化された部分とブチルアルデヒドによりアセタール化された部分との比（ブチルアルデヒドによりアセタール化されて消失した水酸基のモル数／アセトアルデヒドによりアセタール化されて消失した水酸基のモル数）が０．１〜２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 焼成物の形状や寸法の制限が少ない固体電解質体の焼成用支持具および固体電解質体の製造方法を提供する。
【解決手段】 焼成用セッターが高純度マグネシアで構成されることから、ペロブスカイト構造酸化物から成る固体電解質との反応が十分に抑制される。また、高純度マグネシアは、1400〜1600(℃)程度の高温でも変形や収縮が無く安定性が高いため、従来のような目砂などを用いる必要もなく、焼成物がセッターに直に接する状態で焼成処理を施すことができる。この結果、焼成物の形状や寸法の制限が緩和されると共に、その変形が抑制され、更に表面粗さの低下も抑制される。更に、マグネシアは酸化物の中でも比較的安価であるから、製造コストが低減される利点もある。すなわち、容易且つ安価に特性の優れた固体電解質体が得られる。 （もっと読む）

【課題】損失成分（μ”）が急激に増大する周波数（Ｆｃ）が１ＧＨｚ以上を有する酸化物磁性材料を実現するとともに、その酸化物磁性材料を用いた１ＧＨｚ以上の周波数帯域での使用が可能なアンテナ素子およびインピーダンス素子を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化鉄と酸化コバルトと酸化ゲルマニウムとを主成分とし、ＧＨｚ帯域で優れた電磁気的性能を有する酸化物磁性材料であり、この酸化物磁性材料を磁芯とすることにより高周波特性に優れた磁性素子を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の保護膜として、良好なイオン二次電子放出係数を有する膜材を提供できる原料粉体およびターゲット材料の提供にある。
【解決手段】マグネシウム塩とGd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm ,Yb、から選ばれる少なくとも１種の塩を溶解させ、アルカリにて均一に共沈させた後、水洗及び乾燥後、１０００℃〜１２００℃で熱処理することにより良好なイオン二次電子放出係数を有する膜材となる酸化マグネシウム粉体を調製する。また調製された酸化マグネシウム粉体を空気中または真空中あるいは還元雰囲気中にて１３００℃〜１６００℃で燒結することで、良好なイオン二次電子放出係数を有する膜材となるターゲット材料を調製する。 （もっと読む）

【課題】従来の熱電変換材料に比して、ＰＦなどの熱電変換特性を損なうことなしに、機械的強度に優れた熱電変換材料を提供する。
【解決手段】熱電変換材料用酸化物と無機物（ここで、無機物は、該熱電変換材料用酸化物であることはない。）との混合物が焼結されてなる熱電変換材料であって、該熱電変換材料用酸化物と該無機物の組み合わせが、下記熱処理条件において反応しない物質の組み合わせであることを特徴とする熱電変換材料。
＜熱処理条件＞圧力：９５０ｈＰａ〜１０５０ｈＰａ、温度：９００℃
前記熱電変換材料用酸化物がカルシウムマンガン系酸化物である前記の熱電変換材料。前記無機物が酸化ニッケル、酸化銅および酸化亜鉛から選ばれる１種以上の酸化物である前記の熱電変換材料。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法により光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善した光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相（１１０）のピーク強度Ｉ１と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のＸ線回折図における２θ＝１５〜４０°の範囲に存在する最大ピーク強度Ｉ２がＩ２／Ｉ１＝０.１〜１であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と３価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

基板上に亜酸化クロムの薄膜を堆積させるためのＡＣまたはＤＣスパッタリングターゲットは、クロムの酸化物、金属クロム、および取込まれた酸素を含有する。ターゲットの抵抗率は、２００オーム．ｃｍ以下である。ターゲットは、クロムの酸化物の粉末と粉末状などの金属クロムとの組合せで作製され得るか、または１００％の酸化クロムもしくは亜酸化物材料で始め、当該材料をターゲット作製処理の前もしくは最中のいずれか一方に還元雰囲気に晒して、酸化クロムおよび／もしくは亜酸化物材料のある割合を金属クロムおよび保持酸素に還元して作製され得る。そのようなターゲットにより、不活性アルゴンガスのみの使用でスパッタリング処理を実行して、酸化クロムの薄膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】真空チャック用部材として優れた吸着力、吸着速度及び耐久性を有し、滑らかでかつ高い平坦度の吸着面を有する多孔質アルミナ質焼結体からなる真空チャック用部材およびその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）アルミナ含有量が９８重量％以上、（ｂ）平均結晶粒径が１０〜４０μｍ、（ｃ）バブルポイント法で測定される貫通気孔分布のモード径が１．５〜４．０μｍ、（ｄ）前記方法で測定される最大貫通気孔径が１０〜２０μｍ、（ｅ）気孔率が３０〜５０％、（ｆ）気体圧力１００ＫＰａで空気を透過させた時の気体透過量が２０００ｍｍ^３／ｍｍ^２／ｓｅｃ以上、である多孔質アルミナ質焼結体からなることを特徴とする真空チャック用部材およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低温域でも大きな起電力が発生するｎ型熱電素子を得ることができるｎ型熱電素子用組成物を提供する。
【解決手段】 ｎ型熱電素子３の材料となるｎ型熱電素子用組成物は、金属元素比率でＣａとＭｎとの合計が１００ｍｏｌ％になるようにＣａ：４０〜６０ｍｏｌ％、Ｍｎ：４０〜６０ｍｏｌ％を含有したＣａＭｎＯ_３に、Ｚｎ，Ｂａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｓｎの少なくとも一種の金属物質を添加してなるものである。このとき、上記の金属物質は、Ｃａ及びＭｎを上記の比率で含有するＣａＭｎＯ_３に、ＣａとＭｎとの合計１００ｍｏｌ％に対して元素換算で合計０．１〜５０ｍｏｌ％だけ添加されている。これにより、低温域におけるゼーベック係数αの絶対値を大きくすることができる。 （もっと読む）

【課題】緻密であり、炭化物の粗粒が無く、チッピングや脱粒の原因にならない複合セラミックスを提供する。
【解決手段】絶縁性の酸化物中に、５〜２５体積％の導電性の炭化物を微細に分散した複合セラミックスにおいて、任意の炭化物粒子の周囲１μｍ以内には別の炭化物粒子が少なくとも１つ存在し、組織中に長径で４μｍ以上の炭化物の粗粒がなく、相対密度が９９％以上であり、平均粒子が０．５μｍのダイヤモンド粒子を用いて鏡面ラップした際の算術平均粗さが０．１Ｒａ以下まで加工できることを特徴とする複合セラミックスを得ることにより、炭化物粗粒がチッピングや脱粒の原因にならず、平滑な面粗度（Ｒａ０．１以下）を得ることができ、快削性も得られる。 （もっと読む）

【課題】 低温域における電気伝導性が良好なｎ型熱電素子を得ることができるｎ型熱電素子用組成物を提供する。
【解決手段】 ｎ型熱電素子３の材料となるｎ型熱電素子用組成物は、金属元素比率でＣａとＭｎとの合計が１００ｍｏｌ％になるようにＣａ：４０〜６０ｍｏｌ％、Ｍｎ：４０〜６０ｍｏｌ％を含有したＣａＭｎＯ_３に、Ｔａ，Ｎｂ，Ｎｄ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｙの少なくとも一種の金属物質を添加してなるものである。このとき、上記の金属物質は、Ｃａ及びＭｎを上記の比率で含有するＣａＭｎＯ_３に、ＣａとＭｎとの合計１００ｍｏｌ％に対して元素換算で合計０．１〜５０ｍｏｌ％だけ添加されている。これにより、低温域における比抵抗ρを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】酸化物セラミックス中に炭化物セラミックスの少なくとも1種を微細分散させた複合セラミックスを提供する。
【解決手段】酸化物セラミックス中に１〜２０体積％の炭化物セラミックスの少なくとも1種が微細分散した複合セラミックスであって、理論密度と比較した際の相対密度が９９％以上であり、炭化物が凝集した５μｍを越える粗大粒がなく、任意の炭化物粒子の周囲２μｍ以内には別の炭化物粒子が少なくとも１つ存在していることを特徴とする複合セラミックスを得ることにより、切削工具、精密製造治具、半導体製造用治具、ヒートシンク、磁気ヘッド基板などに最適な焼結体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性が良好な配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス相と結晶相とを具備する絶縁層２と、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのうちいずれかを主成分として含有する配線層５とを具備する配線基板において、前記絶縁層２が、６〜２９質量％のＳｉＯ_２と、１２〜３４質量％のＢ_２Ｏ_３と、６〜４６質量％のＡｌ_２Ｏ_３と、１５〜３３質量％のＭｇＯと、６〜１９質量％のＢａＯとを含有し、さらに、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２の群から選ばれる少なくとも１種をその合量で１〜１０質量％含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】信頼性が向上するグリーンシートおよびこれを用いたセラミックスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、ペロブスカイト化合物の一般式をＡＢＯ₃（Ａ、Ｂは元素、Ｏは酸素をそれぞれ示す）としたとき、少なくとも元素Ａと元素Ｂからなるとともに元素Ａのモル数が元素Ｂのモル数よりも大きい化合物αと少なくとも元素Ｂを含む化合物βを用いてなることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】抵抗の温度依存性が低く高純度な炭化ケイ素焼結体シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素粉末及び非金属系焼結助剤を含むスラリー状混合粉体を得る工程と、テープキャスティング法を用いて前記炭化ケイ素スラリーからシート状仮成形品を形成する工程と、シート状仮成形品を炭素製スペーサーに挟んだ状態でホットプレス焼結して炭化ケイ素焼結体シートを得る工程と、を含む炭化ケイ素焼結体シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】試料の湾曲、試料両面の電界誘起歪の差を改善する、非鉛圧電多結晶体によって構成された圧電セラミックス、その製造方法、その圧電セラミックスを含む圧電／電歪素子を提供する。
【解決手段】非鉛系圧電結晶体の圧電セラミックスを、相転移点よりも低温の温度領域において、駆動波、特に三角波の電界を印加することによって分極処理し、圧電セラミックスの両面の電界誘起歪の差を１５％に低減する。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ保護膜の耐久性を損うことなく、しかもこのＭｇＯ保護膜を用いたＦＰＤの放電応答特性及び発光効率を向上する。
【解決手段】ＦＰＤ用のＭｇＯ保護膜１３の表面に窪み１３ａを形成するとともに粒子１３ｂを付着させる表面処理用蒸着材１１は、ＭｇＯを主成分とし平均粒径が０．５μｍ〜１ｍｍである。この表面処理用蒸着材１１をＭｇＯ保護膜１３の表面にスプラッシュさせることにより、平均穴径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの窪み１３ａが形成され、かつ平均粒径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの粒子１３ｂが付着される。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、異常放電やターゲットの表面黒化のない酸化物ターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム（Ｉｎ）及びランタン（Ｌａ）を含有する酸化物のターゲットであって、ＬａＩｎＯ_３で表される酸化物を含有することを特徴とする酸化物ターゲット。 （もっと読む）

【課題】プラズマの熱に曝された場合でも、熱応力により破壊することのないプラズマ処理装置用電極部材の製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生用ガスを処理室に供給するためのガス供給口を有するプラズマ発生用電極の上記ガス供給口の前面に装着されるプラズマ処理装置用電極部材の製造方法であって、焼成によりアルミナセラミックスの多孔質体を形成した後、研削および研磨により成型を行い、その後、１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度でもって再焼成する方法である。 （もっと読む）

【課題】カルシウム・コバルト層状酸化物単結晶の焼結体からなる導電性の優れた熱電材
料の提供。
【解決手段】（１）ＪＩＳＺ８８０１の篩い分け法で目開き４ｍｍの篩上の大きさのもの
が少なくとも５０重量％を占める多数のカルシウム・コバルト層状酸化物単結晶フレーク
を有機バインダーにより多数の単結晶フレークの扁平面を同一面に揃えたフィルムを作製
する工程、（２）該フィルムを切断してフィルム片を作製する工程、（３）該フィルム片
の平面を水平状態になるように積層して充填する工程、（４）成形型内に充填した該フィ
ルム片を加圧下で加熱して予備焼結体を作製する工程、（５）該予備焼結体を加熱して脱
バインダーする工程、（６）脱バインダーした該予備焼結体を成形型内に充填し、圧力３
０〜６０ＭＰａの一軸加圧下で、処理時間１〜８時間の条件で放電プラズマ焼結法する工
程、からなる熱電材料の製造方法。 （もっと読む）