【課題】低い転移温度（Ｔｇ）を有し、液相温度が低く、さらに液相温度における粘度η（ｄＰａ・ｓ）の対数ｌｏｇηが、精密プレス成形に使用するガラスプリフォーム材、及び精密プレス成形に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．５５以上、アッベ数（νｄ）が５０以上を有し、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＲＯ−Ｌｉ_２Ｏ系ガラス組成物であって、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５２０℃以下であることを特徴とする該ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂に替わるＬＥＤ素子被覆材料およびそのような材料によって被覆されたＬＥＤ素子の提供。
【解決手段】軟化点が６１０℃以下、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が５０×１０^−７〜８５×１０^−７／℃である発光ダイオード素子被覆用ガラス。Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＺｎＯ系ガラス、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＰｂＯ系ガラスまたはＢ_２Ｏ_３−Ｐ_２Ｏ_５−ＺｎＯ系ガラスである前記発光ダイオード素子被覆用ガラス。発光ダイオード素子が前記ガラスによって被覆されているガラス被覆発光ダイオード素子。 （もっと読む）

【課題】ＬＣＤ用基板ガラスなどに適している、泡欠点および原料未溶解物欠点が少ない、無アルカリガラスの提供と、泡欠点および原料未溶解物欠点を容易に低減できる無アルカリガラスの製造方法の提供。
【解決手段】アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３ 、Ｂ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを母組成とするガラスであって、粘度が１０^２ｄＰａ・ｓとなる温度が１６００℃以下であり、前記母組成の総量１００％に対して質量百分率表示で硫黄をＳＯ_３ 換算で０．００１〜０．１％含有する無アルカリガラス、および、該母組成のガラス原料に硫酸塩をＳＯ_３ 換算で０．０１〜５％になるように調製し、溶解するガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】蛍光媒体の励起効率を向上させることで蛍光特性を向上させ、それによりエキシマレーザー等の紫外域のレーザー光を蛍光ガラスに照射して生じる緑色蛍光を計測する光学系を有する光軸調整用光学部品やビームプロファイラー等のレーザービーム計測装置等に好適に使用することが可能な蛍光ガラスを提供すること。
【解決手段】蛍光ガラスを、Tb³⁺を蛍光媒体として紫外光励起によって緑色蛍光を呈する蛍光ガラスとし、該蛍光ガラスの陰イオンをF^-からなるものとし、ガラス中の全陽イオンに対してTb³⁺が５〜２５ｍｏｌ％、Ce³⁺が０．０５〜１０ｍｏｌ％とすること。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜５、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜３５、ＺｎＯを１０〜２５、Ｂi_２Ｏ_３を２０〜６０、ＢaＯを５〜２０、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜１０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１かつ（ＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２）を０．１〜３含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂi_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。
重量％で、Ｂ_２Ｏ_３/ＺｎＯの比が、１以上であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】誘電率が高く、かつ緻密性の高い焼成体を低温焼成で得られるようにする。
【解決手段】モル％表示で、ＳｉＯ_２ １５〜４０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ １〜２５％、ＭｇＯ ０〜７％、ＢａＯ ５〜２５％、ＺｎＯ ０〜３５％、ＴｉＯ_２ ３〜１５％、ＺｒＯ_２＋ＳｎＯ_２ ０〜１０％、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３ ２５〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ １５〜４５％である無鉛無アルカリガラス。質量％で、前記ガラスの粉末３０〜７０％と、ＢａとＴｉを含有しモル比（Ｔｉ／Ｂａ）が３．０〜５．７であるＢａ−Ｔｉ化合物の粉末３０〜７０％とからなるガラスセラミックス組成物。前記ガラスセラミックス組成物を焼成して得られる誘電体。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】重量％でＢ_２Ｏ_３を２２〜３８、Ｂi_２Ｏ_３を３５〜６５、ＢａＯを４〜２０、ＳiＯ_２を０〜１０、ＺｎＯを０〜５、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜７、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１、かつＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２を０．１〜３含み、さらにＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯを１０以下、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０以下含むＢ_２Ｏ_３−Ｂi_２Ｏ_３−ＢａＯ系無鉛低融点ガラスで、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】 射出成形及びプレス成形に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】 低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、Ｐ₂Ｏ₅と、ＢａＯ及びＳｒＯあるいはいずれか一方の酸化物と、を含むとともに、Ｐ₂Ｏ₅１００重量部に対して、ＢａＯ及びＳｒＯの酸化物の合計添加量を２０〜１２０重量部の範囲内の値とする。 （もっと読む）

【課題】 薄型化、軽量化を実現する高強度ガラス材を用いた平面型画像表示装置を提供する。
【解決手段】 二枚の基板ＳＵＢ１とＳＵＢ２、該二枚の基板の間に設けられた発光部ＰＭＧを有し、少なくとも一枚の基板がＳｉＯ₂を主成分とし、Ｌａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕより選ばれた少なくとも一種を１〜２０重量％含有するガラス材で構成した。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル用のガラス基板に反りを生じることなく積層される緻密な誘電体膜、及び鉛などの有害物を含有しない環境負荷が小さいガラス組成物を用いて形成される誘電体膜の製造方法を提供。
【解決手段】ガラス基板の反りを抑制することのできる、２以上の誘電体層を有する誘電体膜であって、ガラス基板上に設けられる最下層の誘電体層（Ａ）は、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、及び一般式：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す。）で表されるアルカリ金属の酸化物を０〜１２ｍｏｌ％含むガラス組成物から形成され、かつそのガラス転移点は、４８０℃〜５４０℃であり、一方、最下層の上に設けられる誘電体層（Ｂ）を形成するガラス組成物のガラス転移点は、４３０℃〜４８０℃である誘電体膜などにより提供。 （もっと読む）

【課題】 強化しなくても割れや破壊の起こりにくいガラスを提供する。
【解決手段】 質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５５〜７２％、Ａｌ₂Ｏ₃ １１〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜１２％、ＣａＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、Ｎａ₂Ｏ ６〜１５％、Ｋ₂Ｏ １〜１５％、Ｌｉ₂Ｏ ２〜１５％、ＺｎＯ ０〜１０％含有し、且つＬｉ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）の値がモル比で０．３〜２の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

ガラス材料を均一に溶融することができ、また清澄プロセスを短縮若しくは不要とすることができるガラス溶融装置及びガラス溶融方法を提供する。ガラス溶融装置２００は、内部に２８ＧＨｚの高周波を発振するジャイロトロン２０２を有する発振機２０１と、発振機２０１からのミリ波を伝送する円形導波管２０３と、セラミックス製の窯１１１を内部に設置するアプリケータ２０４と、窯１１１内で溶融ガラスの温度を測定する熱電対２０６及び発振機２０１に電源を供給する電源盤２０７を制御するＣＰＵ２０５とを備える。窯１１１は、調合されたガラス材料（以下「バッチ」という。）を投入するバッチ投入口１１２をその上部に備え、また、窯１１１の内部で誘電加熱により均一に溶融されたバッチをバス１２１に落下させる出口端１１３をその下部に備える。
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【課題】 プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。
【解決手段】 Ｐｂ、及びＢｉを実質的に含有せずにガラス転移点が４３０℃〜５４０℃であるガラス組成物であって、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、アルカリ金属の酸化物：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す）を０〜１２ｍｏｌ％、及びＢａＯを３〜２０ｍｏｌ％含むことを特徴とするガラス組成物によって提供。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰｂＯ含有ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス組成物およびＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス組成物は、モル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３５〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃ ０．１〜５％を含有することし、また、本発明のＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系封着材料は、モル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３５〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃ ０．１〜５％を含有するＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス組成物からなるガラス粉末と耐火性フィラー粉末とを混合した封着材料であって、混合割合は体積％表示で、ガラス粉末が４０〜９０％、耐火性フィラー粉末が６０〜１０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＰｂフリーかつＴＣＲやＳＴＯＬを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料および有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３モル％〜４５モル％、
Ｂ_２Ｏ_３：０〜４０モル％（ただし、０は含まず）、
ＳｉＯ_２：１７モル％〜７２モル％（ただし、７２モル％は含まず）、
ＺｒＯ_２：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）、
Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種以上：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）。 （もっと読む）

【課題】ＰｂフリーかつＴＣＲやＳＴＯＬを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有する厚膜抵抗体用ガラス組成物、導電性材料、ＢａＴｉＯ_３および有機ビヒクルが混合される厚膜抵抗体用ペースト。これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３モル％〜４５モル％、
Ｂ_２Ｏ_３：０〜４０モル％（ただし、０は含まず）、
ＳｉＯ_２：１７モル％〜７２モル％（ただし、７２モル％は含まず）、
ＺｒＯ_２：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）、
Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種以上：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）。 （もっと読む）

【課題】 環境汚染を防ぐために、絶縁層を形成するガラス組成物中にＰｂＯを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】
ガラス組成がＳｉＯ₂ ：１６〜３２ｍｏｌ％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：４〜８ｍｏｌ％、Ｂ₂ Ｏ₃ ：２０〜３５ｍｏｌ％、Ｌｉ₂ Ｏ＋Ｎａ₂ Ｏ＋Ｋ₂ Ｏの２種以上を含み合計が８〜１４ｍｏｌ％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯの合計が３〜１６ｍｏｌ％、ＺｎＯ：６〜３３ｍｏｌ％、Ｃｕ₂ Ｏ：０．０１〜３ｍｏｌ％、Ａｇ₂ Ｏ：０．０１〜１ｍｏｌ％、前記Ｂ₂ Ｏ₃ とＺｎＯの組成比が、ＺｎＯ／Ｂ₂ Ｏ₃ ＝０．２７〜１．３、を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、平均粒径１〜５μｍで、最大粒径が２０μｍ以下に粒度調整されたガラスフリットであり、ガラス転移点が５００℃以下、平均線膨張係数が６５〜８０×１０⁻⁷ ／℃、耐水減量値０．１ｍｇ／ｃｍ² 以下で耐水性に優れたもので絶縁層を形成するための無鉛硼珪酸塩ガラスフリットである。 （もっと読む）

【課題】ガラスシール近傍の基材や濾過膜の浸食を有効に防止することができ、１０年以上に渡る長期間の使用を前提とする多数回の薬洗に耐え得る、優れた耐食性を有するセラミックフィルタを提供する。
【解決手段】セラミック多孔体からなる隔壁２４を有し、その隔壁２４によってセル１８が形成された基材１２と、その平均細孔径が隔壁２４の表面に比して小さいセラミック多孔体からなり、隔壁２４の表面に配置された濾過膜１４と、少なくとも基材１２の端面Ｓ_Eを被覆するように配置されたガラスシール１６とを備え、ガラスシール１６が、シリカを５５〜６５ｍｏｌ％、ジルコニアを１〜１０ｍｏｌ％含有し、カルシア、バリア及びストロンチアの群から選択される少なくとも１種のアルカリ土類金属酸化物を含有し、酸化亜鉛を実質的に含有しない無アルカリガラスにより構成されたものであるセラミックフィルタ１０。 （もっと読む）

【課題】従来の技術の欠点を回避し、所望の要求を高い程度に満たす背面照明付きディスプレーを提供すること。
【解決手段】携帯電話、自動車、テレビ、コンピュータ、家庭およびカメラ用の背面照明付きディスプレー、特にフラット・ディスプレー（１）であって、ガラス中空体を有しかつ外部電極を持つ少なくとも１つの発光手段（３）を具備するディスプレーにおいて、発光手段（３）のガラス中空体のためのガラス組成は、損失角（ｔａｎδ）および誘電率（ε’）から算出される商に、ｔａｎδ／ε’＜５×１０^−４が適用されるように、選択されることを特徴とするディスプレー。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ−ＬＣＤ用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板などとして使用されるガラス中の泡を、ヒ素またはアンチモンを使用せずに低減する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をＳＯ_３換算で１ｐｐｍ以上、０．０２％未満含有し、質量百分率表示でＮａおよび／またはＫをＲ_２Ｏ（Ｒは、Ｎａ、Ｋを意味する）換算で０．０３％以上、０．１％未満含有する。 （もっと読む）