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Fターム[4G062MM23]の内容

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【課題】本発明は、安価な単体原料を用いて、組成を制御することにより、未反応のLiSが残存しにくく、Liイオン伝導性に優れた硫化物固体電解質材料を得ることができる硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、硫化リチウム(LiS)、単体硫黄(S)および単体リン(P)を含有し、S元素とP元素との総モル比:S/Pが、4以下であり、Li元素とP元素との総モル比:Li/Pが、3以下となるように原料組成物を調製する原料組成物調製工程と、上記原料組成物に対して、メカニカルミリングを行い、硫化物ガラスを合成するガラス化工程とを有することを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


本発明は、高周波受信機、送信機、およびトランシーバを低温同時焼成セラミック(LTCC)材料から形成する方法に関する。低k厚膜誘電体テープの2つ以上の層、および互いに接触し、および低k厚膜誘電体テープの2つ以上の層、および互いに接触し、高周波トランシーバの経済的な大量生産技術を支援する改善された性質および性能を有する低k高kのLTCC構造を形成する。本発明は、LTCC受信、送信、およびトランシーバ構造、ならびにそのような構造から製造されたデバイスにも関する。
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【課題】鉛フリーで、かつ半導体やガラス基板中に移動して抵抗値を変化させる成分を含まない、ガラス組成物を結合剤として含む高導電性ペースト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ金属を含まないビスマス系導電ガラス(A)を結合剤として含み、さらに、導電性金属粉末および金属含有化合物(B)、高分子物質(C)、及び(C)を溶解もしくは分散させることのできる溶剤もしくは液状物質(D)を含む高導電性ペースト組成物とする。 (もっと読む)


【課題】
近年においては、鉛フリー化が求められ、Bi系のフリットガラスを用いるように なってきた。しかし、Bi系のフリットガラスは、アルカリ金属を添加して、低融点
化されているが、アルカリ金属は半導体やガラス基板中に移動し、抵抗値を変化させ るため、アルカリ金属を含まない組成物にする事が好ましい。また従来のガラス組成 物は、絶縁ガラス組成物であり、導電性は有していなかった。
【解決手段】
本発明者は、ガラスペースト組成物中のガラス組成物として、バナジウム系の導電ガ
ラス組成物を用いることにより、導電性を付与し、さらに、鉛フリーであり、アルカリ
金属を含有しない低温焼成型の導電性ガラスペースト組成物を発明した。本発明は、導
電ガラス組成物を結合剤として、また機能性フィラーとして機能するように設計した。 (もっと読む)


【課題】ドーパント濃度分布が小さい金属ドーパント含有多孔質石英ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】複数のガス供給ノズルが同心円状に配置された多重管バーナーの中央ノズルから、金属ドーパント前駆体、および、SiO2前駆体と、を供給し、該多重管バーナーの酸水素火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記多重管バーナーは、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置における火炎温度の最高点T1(℃)が該多重管バーナーの中心軸の延長線上にはなく、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置において、該火炎温度の最高点T1(℃)となる部位(基端)と該多重管バーナーの中心軸の延長線(先端)とを結ぶ仮想線を引いた場合に、該仮想線の先端方向の延長線上における火炎温度の最高点をT2(℃)とするとき、T1−T2≧30℃であり、前記基材の回転軸と、前記多重管バーナーの中心軸と、が一致しないように前記多重管バーナーを配置し、製造される多孔質石英ガラス体におけるドーパント濃度分布に応じて、前記回転軸からの前記T1となる部位までの距離と、前記回転軸からの前記T2となる部位までの距離と、の大小関係を調整することを特徴とする多孔質石英ガラス体の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、EUVリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるEUVリソグラフィ用フォトマスク基板等のEUVリソグラフィ用光学部材を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】紫外線をシャープに遮断し、可視光線透過率が高く、耐ソラリゼーションが向上した紫外線遮断ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100重量%とし、酸化物組成として、
(1)P:65〜85重量%、
(2)Al:5〜17重量%、
(3)MgO:0〜10重量%、CaO:0〜10重量%、SrO:0〜10重量%、BaO:0〜12重量%及びZnO:0〜10重量%であって、MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計量として2〜18重量%、
(4)TiO:0.05〜2.5重量%、
(5)B:0〜10重量%、並びに
(6)SiO:0〜5重量%
を含有するリン酸塩系ガラスからなる紫外線遮断ガラス。 (もっと読む)


【課題】実質的にPbOを含まないにもかかわらず、封入温度が低く、且つ実用上、十分な化学的耐久性、特に耐酸性を有する半導体封入用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、アルカリ金属酸化物(LiO、NaO、KO)の2種以上、BおよびBiを含み、且つ実質的にPbOを含まないことを特徴とし、10dPa・sおける温度が660℃以下であり、且つ30〜380℃における熱膨張係数が85〜105×10−7/℃であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リチウムイオン電池またはリチウム空気電池の固体電解質として使用する場合に要求される固体電解質の厚みであっても、充分な機械的強度を有するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスを提供すること。また、化学的にも安定で、表面を研磨した際に露出するピットが少なく、高いリチウムイオン伝導性を有するガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】 表面を研磨した時に露出する最大幅30μm以上の空孔の数が、1cmあたり50個以下であるリチウムイオン伝導性ガラスセラミックス。
ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度における昇温速度が50℃/hを超え1200℃/h未満であることを特徴とするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】熱的安定性に優れ、高品質なガラス成形品を安定供給可能なフツリン酸ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン成分として、P5+を30〜50カチオン%、Zn2+を30〜50カチオン%、Na+を10〜30カチオン%、Li+を0〜7カチオン%、K+を0〜7カチオン%、Ba2+を0〜2カチオン%、含むフツリン酸ガラスであって、P5+の含有量に対するO2-の含有量のモル比(O2-/P5+)が3.4以上、かつF-とO2-との合計含有量に対するF-の含有量のモル比(F-/(F-+O2-))が0.05以上であるフツリン酸ガラス。 (もっと読む)


【課題】黄変現象が効果的に抑制ないしは防止できる無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物のモル%表示で、A)下記の組成;(1)SiO:19〜26.5%、(2)Al:2〜15%、(3)B:33〜57%、(4)ZnO:2〜16%、(5)MgO及びCaOの少なくとも1種:0.1〜9%、(6)SrO及びBaOの少なくとも1種:0.1〜4%、(7)MgO、CaO、SrO及びBaOの合計:0.2〜13%、(8)LiO、NaO及びKOの少なくとも1種:9〜17%、(9)ZrO、TiO及びLaの少なくとも1種:0〜3%を有し、かつ、B)下記の比率;(1)KO/(LiO+NaO+KO):0.40〜0.80、(2)(SiO+B)/(LiO+NaO+KO):4.0〜7.0を有することを特徴とする無鉛ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】点火プラグが細経化されても、高周波雑音電波の発生を十分に抑制し得る抵抗体
形成用ガラス組成物を創案することにより、点火プラグの信頼性および生産性を高めるこ
と。
【解決手段】本発明の抵抗体形成材料は、粗粒ガラス粉末と粗粒セラミックフィラーを含
む抵抗体形成材料において、(1)粗粒ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、S
iO2 35〜60%、B23 25〜55%、Li2O+Na2O+K2O 1〜20%、
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜35%、BaO 0〜14%を含有し、(2)粗
粒セラミックフィラーの平均粒子径D50が50〜300μmであり、(3)粗粒セラミッ
クフィラーの含有量が1〜55質量%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】合成石英ガラスに対してUVレーザ光やUV光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。
【解決手段】合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第1温度で加熱する第1加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第1温度以上の第2温度で加熱する第2加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第2温度以下の第3温度で加熱する第3加熱工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】シリカをベースとし他の成分を1種以上含むガラスからなるナノレベルの粒子径を有する球状ガラス微粒子及びセラミックスの焼結を容易にするための,そのような球状ガラス粒子よりなる焼結助剤を提供する。
【解決手段】組成として,酸化物換算で,SiO2を40〜95モル%,B23を0.5〜40モル%,及びZnOを0.5〜40モル%の量でそれぞれ含有し,かつ平均粒子径が20nm以上1000nm未満であることを特徴とする,球状ガラス微粒子,並びにそのような球状ガラス微粒子を含んでなる焼結助剤。 (もっと読む)


【課題】電子部品の高密度実装に用い、プリント配線板に構造材として多用される細番手のガラス繊維に関し、ホローファイバーの混入のない、均質な品位のガラス繊維、及びその製造方法と、ガラス繊維シート状物を提供する。
【解決手段】ガラス繊維は、酸化物換算の質量百分率表示で、SiO 70〜80%、Al 0〜2%、B 15〜21.5%、MgO 0〜1%、CaO 0〜2%、LiO 0〜2%、NaO 0〜3%、KO 0〜3%、LiO+NaO+KO 2〜5%の組成を含有し、SOの含有量が50ppm以下である。ガラス繊維の製造方法は、光学的な計測により得られるβ−OH値が0.55/mm以上、0.65/mm以下となるように熔融し、紡糸することで本発明のガラス繊維を製造する。ガラス繊維シート状物は、本発明のガラス繊維を有機樹脂材と複合化されて有機樹脂複合材を形成する用途で用いられる。 (もっと読む)


【課題】 現行の「ULE」ガラスに可能なよりも広い温度範囲に亘り安定な熱膨張を有し、表面粗さ要件を満たすように研磨できる低熱膨張ガラスを提供する。
【解決手段】 この低膨張ガラスは、前面5、背面7および厚さTを有する基礎ガラス材料3であって、10質量%から20質量%のチタニアおよび80質量%から90質量%のシリカから実質的になる基礎ガラス材料3、および基礎ガラス材料3の少なくとも前面5に施された、チタニアおよびシリカから実質的になるガラス被覆材料9であって、ガラス被覆材料9中のチタニアの総量が基礎ガラス材料3中のチタニアの総量より少ないガラス被覆材料9を有してなる。基礎ガラス材料3が、ほぼ10℃から100℃の温度範囲において実質的にゼロである熱膨張係数を有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】優れたイオン伝導度を有する硫化物固体電解質、及び、当該硫化物固体電解質中に含まれる結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)に示す化学式で表される結晶化ガラスを含むことを特徴とする、硫化物固体電解質。
75LiS・(25―x)P・xP 式(1)
(上記式(1)中、0<x<25) (もっと読む)


【課題】本発明は、低温同時焼成セラミック基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを有する第1誘電体層が1つ以上積層されたセラミック本体と、前記セラミック本体の上面及び下面のうち少なくとも一面に形成され、前記第1誘電体層の焼成温度で前記第1誘電体層とともに焼結され、10wt%以上の非晶質を含む第2誘電体層と、を含む。本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを含むため、高周波帯域において誘電損失が小さく、第2誘電体層がディオプサイド系結晶を形成する第1ガラス粉末の急激な結晶化による流動性を補充する。これによって、均一な表面を有し、且つ反り現象が発生しない低温同時焼成セラミック基板を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】固体酸化物形燃料電池の動作温度以上の高温域(例えば1200℃〜1300℃)において、高い耐熱性を有して気密に接合された接合部を形成するために用いる固体酸化物形燃料電池用の接合材を提供すること。また、そのような接合材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明により提供される接合材40は、ガラスを主体とする固体酸化物形燃料電池用の接合材である。この接合材を構成するガラスは、ガラスマトリックス中に少なくともフォーステライト結晶が析出しており、あるいは、ガラスマトリックス中に酸化マグネシウム結晶と、クリストバライト結晶、リューサイト結晶およびフォーステライト結晶から選択される少なくとも一種とが析出している。 (もっと読む)


【課題】不要となり回収された無アルカリガラスの資源として有効に利用可能な用途を提供し、さらに電子部品や機械部品へ用いることができる高い電気特性、機械特性を有したセラミックス構造体が製造可能な、安価なガラスセラミックス材料、およびセラミックス構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】無アルカリガラス粉末30〜80重量%と、カルシウムを含む化合物粉末70〜20重量%とからなるセラミックス材料、ならびに、無アルカリガラス粉末30〜80重量%と、カルシウムを含む化合物粉末70〜20重量%とを混合し、850〜1000℃の温度で焼成するセラミックス構造体の製造方法。 (もっと読む)


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