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Fターム[4G062MM23]の内容

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【課題】製造工程中の種々の機械的なストレスに十分耐え得る機械的特性を備えるグリーンシートを利用したイオン伝導性固体電解質を製造する方法を提供する。
【解決手段】乾燥工程後のセラミックグリーンシートの水の含水率及び/又は該セラミックグリーンシートが置かれる環境を調整することにより、キャリアフィルムの剥離工程やグリーンシートの積層工程等における機械的ストレスに耐え得るセラミックグリーンシートを利用して、イオン伝導性固体電解質を製造する。これにより、搬送やキャリアフィルムの剥離や積層工程におけるグリーンシート内の欠陥の発生を効果的に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消する半導体パッケージ用カバーガラスを提供する。
【解決手段】半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。 (もっと読む)


【課題】シリコンインゴットに対する不純物汚染防止性に優れ、かつ、高温下での形状安定性にも優れた多結晶シリコン製造用容器を提供する。
【解決手段】少なくともシリコン融液と接触する面の構成成分が、溶融石英ガラス99.75重量%以上であり、Al含有量が150重量ppm以上550重量ppm以下、Fe,Na,K,MgおよびCaの各含有量が25重量ppm以下であることを特徴とする多結晶シリコン製造用容器を用いる。 (もっと読む)


【課題】ファイアスルー性や熱的安定性が良好であり、しかも低温で焼結可能なガラス組成物を創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率や長期信頼性を向上させること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量%表示で、Bi 73.1〜90%、B 2〜14.5%、ZnO 0〜25%、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 0.2〜20%、SiO+Al(SiO、Alの合量) 0〜8.5%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子材料基板を被覆、封着するための低融点ガラスであって、実質的にPbOを含まない無鉛低融点ガラス。
【解決手段】質量%でBを4〜12、Biを83〜93、RO(LiO+NaO+KO)を0.1〜6、Alを0.1〜5含むことを特徴とするB−Bi−RO−Al系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(110〜145)×10−7/℃、軟化点が300℃以上420℃以下である特徴を有す。 (もっと読む)


【課題】EUVL用露光装置の光学系部材として好適な熱膨張特性を有するTiO2−SiO2ガラスの提供。
【解決手段】熱膨張係数が0ppb/℃となる温度が23±4℃の範囲内にあり、熱膨張係数が0±5ppb/℃となる温度幅が5℃以上であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。 (もっと読む)


【課題】 ペースト中での分散性が良好で、ペーストで抵抗体としたとき優れた電気的特性が得られ、且つ価格や供給面でも工業的に利用しやすく、厚膜抵抗体用の鉛を含まない導電粉と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化イリジウムで被覆された酸化ルテニウム粉からなる導電粉であり、平均粒径が20〜80nm且つ酸化イリジウム被覆膜の厚さが0.5〜2nmであり、酸化ルテニウムと酸化イリジウムの合計に対し酸化イリジウムを9〜30質量%及び銅を0.1〜6質量%含有する。この導電粉は、酸化ルテニウム粉と塩化イリジウム酸塩と塩化銅又は酸化銅、若しくは銅を含む酸化ルテニウム粉と塩化イリジウム酸塩とを秤量し、これらの混合物を酸化性雰囲気下にて560〜640℃で焙焼して製造する。 (もっと読む)


相変化記憶材料およびより詳しくは、相変化記憶用途、例えば、光学データおよび電子データの記憶のために有用なテルル化GeAs材料が記載されている。
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本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング/エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング/エンクロージャ/カバー:(1)15MHzから3.0GHzまでの周波数範囲において0.03未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性;(2)赤外線透明性;(3)0.6MPa・m1/2より大きい破壊靭性;(4)350MPaより大きい4点曲げ強度;(5)少なくとも450kgf/mmのビッカース硬度および少なくとも5kgfのビッカース中央/放射亀裂開始限界;(6)約50から100GPaの間のヤング率;(7)2.0W/m℃未満の熱伝導率;および(8)以下の特性の少なくとも1つ:(i)20μmより大きい層の深さ(DOL)および400MPaより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または(ii)20MPa以上の中央張力。 (もっと読む)


【課題】短時間で高いイオン伝導性を有するLiイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスを製造できるLiイオン伝導性硫化物ガラスの製法、前記Liイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製法、及びLiイオン伝導性硫化物ガラスの製法に好適な硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置を提供する。
【解決手段】LiとPとSとを含むLiイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法であって、原料を60℃〜160℃でメカニカルミリング処理してガラス化させるLiイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法である。また、上記Liイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法により製造されたLiイオン伝導性硫化物ガラスを200℃以上360℃以下で加熱するLiイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製造方法である。粉砕容器とボールと粉砕容器内の温度を60℃〜160℃にする温度調整手段を備える硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置である。 (もっと読む)


【課題】化学的にも安定で、リチウムイオンの伝道を阻害するような空孔が無く、高いリチウムイオン伝導性を示すガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度の昇温速度を5℃/h〜50℃/hとするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐熱衝撃性を保持しつつ加熱による軟化加工性を向上させた結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】LiO−Al−SiO系結晶を20〜70重量%含有する結晶化ガラスであって、当該結晶化ガラスにおけるマトリクスガラスとLiO−Al−SiO系結晶の30〜380℃における平均線熱膨張係数の差が35×10−7/K以上であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】紫外線、可視光線、赤外線を利用する各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材、MEMS製造用部材、液晶用ガラス基板に好適に利用可能な熔融石英ガラスの安価な提供。
【解決手段】OH含有量が5ppm以下、Li,Na,K,Mg,Ca,Cuの含有量が各々0.1ppm未満、かつLiとNaの含有量が総量で0.05ppm以下、波長245nmの紫外光に対する厚さ10mmでの内部透過率が95%以上であり、好ましくはAlを重量比で3ppm以下含有し、1215℃における粘性率が1012.0Pa・s以上であり、1050℃、大気中でのCuイオンの熱拡散において、表面から20〜100μmの深さにおけるCuイオンの拡散係数が1×10−10cm/sec以下となる熔融石英ガラスであり、このような熔融石英ガラスは、原料シリカ粉を予めクリストバライト化した後、非還元性雰囲気中で熔融することにより得ることができる。 (もっと読む)


【課題】チウムイオン伝導性粉末を含む成形体を焼成して固体電解質を得る方法において、成形体の焼成時に表面近傍と内部で結晶成長をほぼ均一にし、高いリチウムイオン伝導度を有する固体電解質の製造方法を提供すること。
【解決手段】 熱処理後にリチウムイオン伝導性を呈するガラス粉末、リチウムイオン伝導性を有する無機粉末、又はその両方(以下、これらを「リチウムイオン伝導性粉末」という)を含む成形体を、前記成形体を20℃、1×10Paにおける熱伝導率が50W・m−1・K−1以下のセッターで挟み、焼成する工程を含む固体電解質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】良好な電池特性を示すリチウム二次電池用正極材料に好適な物質およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスはLiVOPO結晶を含有することを特徴とする。ここで、LiVOPO結晶はβ−LiVOPO結晶であることが好ましい。また、本発明の結晶化ガラスは、モル%表示で、LiO 25〜60%、V 20〜40%、P 20〜40%の組成を含有することが好ましい。本発明の結晶化ガラスは、リチウムイオン二次電池正極材料として好適である。 (もっと読む)


【課題】低熱膨張係数を有するガラス組成物、ガラス繊維、印刷回路基板の絶縁層、及び印刷回路基板の提供。
【解決手段】40〜60重量部の酸化ケイ素と、20〜40重量部の酸化アルミニウムと、5〜20重量部の酸化リチウムと、を含むガラス組成物。ガラス組成物を用いて製造されたガラス繊維103とガラス繊維が含浸された高分子樹脂102とを含む、印刷回路基板の絶縁層100。及び印刷回路基板の絶縁層上に形成された回路パターンとを含む、印刷回路基板。 (もっと読む)


本発明は、不透明な着色ガラス・セラミック物品、および、標準的な金属加工工具を使用して所望の形状へと容易に形成することができる、不透明な着色ガラス・セラミック物品の製造に関する。これらの物品に使用するガラス・セラミック材料は、雲母結晶を主要相として含む。所望の色は、前駆体ガラスへの着色料系の添加によってもたらされる。特定の実施の形態では、本発明は、黒色のガラス・セラミック物品を対象とし、黒色は、20重量%の濃度の酸化鉄の添加によってもたらされ、これによって、鉄が豊富な雲母相を有するガラス・セラミック、および/または、鉄が豊富な雲母相と酸化鉄相を有するガラス・セラミックを生じることができる。
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【課題】結晶が析出しにくいプラズマディスプレイパネル配線導体用ガラス組成物の提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを2.5〜3.5%、Bを9〜11%、ZnOを8〜10%、BaOを5〜7%、Biを71〜73%含有するプラズマディスプレイパネル配線導体用ガラス組成物。 (もっと読む)


本発明は、ルテニウム酸化物および/またはポリナリールテニウム酸化物を導電成分として用い、Cu含有ガラスフリットを用いる組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】レーザー光等の照射光による局所加熱に好適であるとともに、低軟化特性と高耐水性を両立させた有機ELディスプレイ用封着材料を創案することにより、信頼性の高い有機ELディスプレイを作製すること。
【解決手段】本発明の有機ELディスプレイ用封着材料は、ビスマス系ガラス粉末55〜100体積%、耐火性フィラー粉末0〜45体積%含有し、且つビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、CuO+Feを0.2〜15質量%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


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