【課題】 ガラス原料中のＳ量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの作製に用いられるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｓ含有量をＳＯ_３換算で１５ｐｐｍ以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径４５〜１８０μｍのＳｉＯ_２原料を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ６００℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ａｇ電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含まず、モル百分率で、Ｂ_２Ｏ_３ ２６〜４５％、ＳｉＯ_２ ４２超〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜８％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ １〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ４〜２０％、ＺｎＯ ０〜５％、ＣｕＯ＋ＭｏＯ_３＋ＣｅＯ_２＋ＭｎＯ_２＋ＣｏＯ ０〜６％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス（封着部）の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、３０〜３３％のＰ₂Ｏ₅と、６３〜６９％のＳｎＯと、０〜３％のＺｎＯと、０．１〜３％のＷＯ₃、ＴｅＯ₂、ＧｅＯ₂、Ｇａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＣａＯ、及びＳｒＯからなる群より選ばれる少なくとも１種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が２５０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、２７〜３３％のＰ₂Ｏ₅、５０〜７０％のＳｎＯ、０．５〜３％のＴｅＯ₂、０〜１０％のＺｎＯ、０〜５％のＣａＯ、０〜５％のＳｒＯ、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜５％のＧａ₂Ｏ₃、０〜３％のＧｅＯ₂、０〜３％のＩｎ₂Ｏ₃、０〜３％のＬａ₂Ｏ₃、及び０〜３％のＷＯ₃を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス１の封着層６の形成に使用される。 （もっと読む）

【課題】導体形成用としてより優れた特性を発揮できるＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３系結晶化ガラス組成物を提供する。
【解決手段】モル％で１）ＳｉＯ_２：７〜１７％、２）Ｂ_２Ｏ_３：３０〜４０％、３）ＺｎＯ：４０〜５０％ならびに４）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏ少なくとも１種：６〜１３％を含むことを特徴とする導体形成用無鉛ガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を０〜８、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１２、ＺｎＯを２〜７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．５〜３、ＣｕＯを０．５〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３を８０〜９０、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．１〜３、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜３含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】エネルギー消費を少なくディスプレイ部材用ガラスペーストを製造する方法を提供することができる。
【解決手段】基板用ガラスを製造する際に生じる端材またはディスプレイ基板用ガラス回収品を粉砕して回収ガラス粉末とし、該回収ガラス粉末と他のガラス粉末および有機成分を混合することを特徴とするディスプレイ部材用ガラスペーストの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】透過率が低く、十分な反射率や緻密さを有するＬＥＤ素子用基板を得ることができるガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】このガラスセラミックス組成物は、ＬＥＤ素子用基板の製造に用いられるガラスセラミックス組成物であって、３０〜４５質量％のホウケイ酸系ガラス粉末と、３５〜５５質量％のアルミナ粉末、および１０〜２５質量％のチタン化合物の粉末を含有する。ホウケイ酸系ガラス粉末は、ＳｉＯ_２を４０〜６５質量％、Ｂ_２Ｏ_３を８〜２０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１２質量％、ＲＯを合計で９〜２８質量％、Ｒ_２Ｏを合計で０．５〜８質量％含有し、「Ｂ_２Ｏ_３の３倍」＋「ＲＯの２倍」＋「Ｒ_２Ｏの１０倍」の値が１０５〜１４５の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】電極用ペーストを構成するための新たな低融点ガラスを提供する。
【解決手段】モル％で表示して、実質的に、Ｐ₂Ｏ₅：２５〜５５％、Ｔ−ＳｎＯ：３０〜６５％、Ｔ−ＦｅＯ：５〜２０％の成分からなり、ＳｎＯ比が５０％以上であるガラス組成物とする。ただし、Ｔ−ＳｎＯおよびＴ−ＦｅＯは、当該ガラスに含まれる全ての錫または鉄の酸化物をＳｎＯまたはＦｅＯに換算した全酸化錫量または全酸化鉄量を示す。ＳｎＯ比は、Ｔ−ＳｎＯに対するＳｎＯの比率である。このガラス組成物の比重は、アルミニウム金属微粒子の比重に近い。したがって、本発明によるガラス組成物は、アルミニウム金属微粒子を含む電極用ペーストにおけるガラスフリットとしての使用に適している。 （もっと読む）

【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２を５〜５０％、ＳｒＯを３〜５０％、及び、ＳｉＯ_２を１５〜８５％を含有し、ＳｒＴｉＯ_３結晶及び／又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが２０以上であり、Ｑ値が１０００より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が３００未満である。 （もっと読む）

【課題】配向性の良好な超伝導結晶を連続的に形成できるＢｉ系ガラス材料及び及び超伝導材料の製造方法を提案する。
【解決手段】Ｂｉ系ガラスのガラス組成として、下記酸化物基準のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３１０〜５０％、ＳｒＯ３０〜６０％、ＣａＯ５〜３０％、ＣｕＯ０〜１０％を含有することを特徴とする。また、超伝導材料の製造方法は、銅又は銅合金の表面に、上記のＢｉ系ガラスを接触させた状態で熱処理し、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機ＥＬ照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が２ｍｍ以下であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５以上の板ガラス。ガラス組成としてＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、ＺｎＯ、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜６０％含み、あるいはＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、Ｇｄ↓２Ｏ↓３、ＷＯ↓３、Ｔａ↓２Ｏ↓５、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜７０％含む。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、アルミニウム（Ａｌ）の仕事関数より電極配線としての見かけの仕事関数が小さくなるアルミニウム電極配線用のガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウムより仕事関数が小さい元素の酸化物から構成される。この酸化物は、バナジウム（Ｖ）の酸化物と、アルカリ土類金属の酸化物と、アルカリ金属の酸化物とから構成され、アルカリ土類金属の元素としてはカルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）及びバリウム（Ｂａ）の元素の内少なくともバリウムを含む１種以上の元素がなり、アルカリ金属の元素としてはナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）及びセシウム（Ｃｓ）の元素の内少なくとも１種以上の元素がなる。バナジウムの元素が五酸化バナジウム（Ｖ_２Ｏ_５）として含まれているとした場合に、五酸化バナジウムを４０〜７０重量％含む。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が３００℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも４０℃以上低いものである。 （もっと読む）

【課題】５３０〜５７０℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。

【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％未満、ＭｇＯ ０〜８％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ １０〜２０％、ＢａＯ ０〜８％、ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３０％、Ｎａ_２Ｏ １〜９％未満、Ｋ_２Ｏ ６超〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量） ９〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２（Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２の合量） ０〜６％未満を含有し、且つ歪点が５３０〜５７０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法であって、（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、（ｄ）フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、（ｅ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造法であって、（ａ）ガラス形成原料であるＳｉ前駆体およびＴｉ前駆体を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して透明ガラス体を得る工程と、（ｃ）透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、成形ガラス体を得る工程と、（ｄ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程と、を含む製造法。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子の視感度補正用近赤外線カットフィルタガラスにおいて、特に近紫外線吸収特性をもつガラスを提供することを目的とする。また、近赤外線カットフィルタガラスを固体撮像素子の保護用カバーガラスとして用いることが可能であり、特にプラスチック製パッケージとの接合に好適である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】Ｕの含有量が６〜２０ｐｐｂである近赤外線カットフィルタガラスである。また、α線放出量が０．００２〜０．０２ｃ／ｃｍ^２・ｈ、かつ波長５５０〜７５０ｎｍの分光透過率において５０％の透過率を示す波長が６１５ｎｍとなるように換算した場合に、波長３１５ｎｍにおける透過率が０．３％未満である近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくかつ表面電荷密度が大きい半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、ＺｎＯ ５０〜６５％、Ｂ_２Ｏ_３ １９〜２８％、ＳｉＯ_２ ７〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜５％の組成を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス。 （もっと読む）