【課題】非常に高い温度に耐えられない分野で使用可能であり、その実施に関する熱負荷の低下にも寄与し、４５０℃未満の温度で行なわれ、触媒の構成元素のためにナノワイヤの不純物をもたらさず、結晶性に関して組織され、欠陥をほとんど有しないシリコン及び／又はゲルマニウムナノワイヤを組み立てる方法を提供する。
【解決手段】生じるナノワイヤの成長によって基板上にシリコン及び／又はゲルマニウムのナノワイヤを組み立てる方法であって、シリコンを含む前駆体とゲルマニウムを含む前駆体とを、前記基板に存在する酸化銅を含む化合物と接触させることを含む方法。 （もっと読む）

ポリマー／無機ナノ粒子からのコンポジットナノ顆粒、とりわけ、第1のポリマーおよび無機ナノ粒子から形成された第1のコンポジットナノ顆粒、第1のコンポジットナノ顆粒に第2のポリマーを形成することによって得られる第2のコンポジットナノ顆粒、第2のコンポジットナノ顆粒に第3のポリマーを形成することによって得られる第3のコンポジットナノ顆粒、および、同様の方法を用いて（N−1）番目のコンポジットナノ顆粒にN番目のポリマーを形成することによって得られるN番目のコンポジットナノ顆粒を開示する。前記したコンポジットナノ顆粒のいずれか1を含む組成物を開示する。その調製方法およびその使用も開示する。
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【課題】トリクロロシランの分解とポリマーの生成を効果的に抑制し、トリクロロシランの回収率が高いトリクロロシランの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】トリクロロシランの製造装置１０は、テトラクロロシランと水素とを含む原料ガスを転換反応させて反応生成ガスを生成する転換炉２０と、転換炉２０から反応生成ガスを供給され、この反応生成ガスを冷却してトリクロロシランを含む反応生成物を回収する冷却器３０とを備え、冷却器３０には、反応生成ガスを冷却する冷却液を噴霧するノズル４０，４２が２以上備えられ、これらノズル４０，４２は冷却液の平均液滴径が異なるものを有し、その噴霧量がそれぞれ調整可能である。 （もっと読む）

【課題】優れた断熱性と強度とを両立させた成形体を提供する。
【解決手段】けい酸カルシウム水和物結晶の多孔性凝集体の表面が熱硬化性樹脂で被覆された粒子及びこれを用いて得られる成形体。 （もっと読む）

【課題】液粘度などの性状の安定なシリカ分散液を作製することができるシリカ分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】気相法シリカとオキシ塩化ジルコニル及び塩基性塩化ジルコニルの少なくとも一方とを混合し、分散させてシリカ分散液を調製する分散液調製工程と、分散液調製工程で調製されたシリカ分散液に加熱処理を行なう加熱処理工程とを有している。 （もっと読む）

本発明は、シラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体の製造方法であって、水性媒質中において、ａ）エポキシ官能性を含む、少なくとも１種のシラン化合物と、ｂ）エポキシ官能性を有しない、コロイドシリカ粒子を改質することが可能な少なくとも１種のシラン化合物と、ｃ）コロイドシリカ粒子とを、任意の順序で混合して、ａ）およびｂ）に由来するシラン化合物を含有するシラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体を形成するステップを含む方法に関する。本発明はまた、前記方法によって得ることが可能な分散体にも、またコーティング用途におけるその分散体の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】粒子成長に必要な塩以外の金属成分を含まず、低粘度で安価であり、且つバインダー力や塗料等の補強効果に優れるシリカゾルを提供することにある。
【解決手段】分鎖状シリカ粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルにおいて、
上記分鎖状シリカ粒子は、微粒子が、他の材質からなる接合部を介することなく、微粒子同士が直接結合し一定方向に伸長した主鎖部と、該主鎖部の途中から枝分かれした、少なくとも一箇所の枝分かれ部を有するシリカゾル。 （もっと読む）

体積が１ｍ^３〜１０ｍ^３であり、高さが１ｍ〜１０ｍである反応器チャンバと、反応物質を供給するための反応器ノズルとを有することを特徴とするフレーム反応器を開示する。 （もっと読む）

【課題】水素化クロロポリシランを含む液体中の水素化クロロポリシランを選択的に塩素化してクロロポリシランを製造して、塩素化反応で発生する有害な塩素を含む排ガスを生成させないクロロポリシランの製造方法を提供する。
【解決手段】水素化クロロポリシランの量から算出される反応当量未満の塩素を添加し、密封下で反応させることにより、塩素を完全に消費して選択的にクロロポリシランを生成させる省エネルギーで安全な製造方法。 （もっと読む）

本発明における四ハロゲン化ケイ素および冶金グレードのケイ素からトリハロシランへの水素化のための反応器は、冶金用ケイ素粒子の床と、１つまたは複数の気体流入ポートと、１つまたは複数の固体流入ポートと、１つまたは複数の固体排出管と、トリハロシランを反応器から取り出すための１つまたは複数のポートとを含む。
反応器に流入する四ハロゲン化ケイ素／水素供給流中に供給ケイ素粒子を同伴させ、その流れをケイ素粒子の床に衝突させることの結果としての内部研磨および摩耗によって、床粒子の上に新しい表面が創出される。
本発明は、トリハロシランの収率が高く、ＭＧＳの燃焼速度が速く、反応器から流出するトリハロシラン流出物中の微細な粉塵キャリーオーバーとしての使用済みＭＧＳの除去、および床を除去するためのシャットダウンの間の時間が長い、という利点を有する。
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材料の溶融物を冷却し、溶融物内に材料の固体のシートを形成する。シートは移送され、切断されて少なくとも１つのセグメントになり、セグメントは冷却室で冷却される。その材料はシリコン、シリコンゲルマニウム、ガリウム、および窒化ガリウムを用いることができる。冷却室はシートの応力または歪みを防止するよう構成される。一例を挙げると、冷却はガス冷却で行う。 （もっと読む）

本発明は、基材およびそれに適用されているケイ酸鉄（ＩＩ）含有被覆を含む顔料、これらの顔料の調製方法、ならびにそれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】高収率で高純度の有機無機ハイブリッド材料として有用なかご型有機基修飾金属酸化物を効率良く得る製造方法を提供する。また、上記のかご型有機基修飾金属酸化物を必要によりナノメートルサイズでしかも単分散な微粒子として連続的かつ短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】有機基修飾金属酸化物前駆体液と水性媒体とを流路に導入し、該流路中で加熱加圧下において前記両液を混合して、かご型有機基修飾金属酸化物を生成させる、かご型有機基修飾金属酸化物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質プロファイルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。
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油及び35ミクロン以下の平均粒径を有する金属酸化物粒子を含む金属酸化物の粒状物の分散物であって、該分散物は、該分散物の合計重量を基準にして１０重量％未満の、水及び水混和性溶媒を含む、前記の分散物。 （もっと読む）

【課題】 中空粒子の特性を向上させたり、中空粒子に新たな機能を付与したりすることのできる形状を有する中空粒子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 外形が長軸と短軸を有し、かつ長軸を回転軸とする回転対称性をもつ、細長い形状であり、外形をなす殻の内部に外形とほぼ相似の空洞が形成されている中空粒子を作製する。この中空粒子は、第１の材料からなり、外形が長軸と短軸を有し、かつ長軸を回転軸とする回転対称性をもつ形状である核粒子を作製する工程と、第１の材料とは異なる第２の材料からなる層で核粒子の表面を被覆し、核粒子と第２の材料からなる層との複合体粒子を形成する工程と、複合体粒子から核粒子を除去し、第２の材料からなる層を殻とする中空粒子を作製する工程とで作製できる。核粒子は、結晶構造に異方性があり、１つの軸方向への結晶成長が他の軸方向への成長よりも速い材料を用いて、単結晶が成長する条件下で作製する。 （もっと読む）

【課題】溶液中、特に非極性溶媒中でケイ素系材料で作製されたナノワイヤの安定なディスパーションを得ることのできるナノワイヤおよび該ナノワイヤを溶媒中に分散させる方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１個の金突起部をその表面上に含むケイ素系材料で作製されたナノワイヤを、溶媒中に分散させる方法を提供し、該方法は、各ナノワイヤの少なくとも１個の金突起部に、Ｘ−Ｓ−Ｒの有機硫黄誘導体をグラフトするステップを含む（式中、Ｘは水素またはチオール保護基であり、Ｒは少なくとも１個のヘテロ原子を含有する可能性のあるＣ_２からＣ_４０炭化水素基である）。 （もっと読む）

予備分散液の高圧粉砕による、１００ｎｍ以下の平均粒径を有する表面改質された二酸化ケイ素粒子の分散液の製造方法であって、該予備分散液は、ａ）１０〜５０質量％の表面改質された二酸化ケイ素粒子、ｂ）一般式（Ａ）：Ｈ_３Ｃ（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−［Ｏ−（ＣＨ_２）_ｏ］_ｐ−ＯＨの少なくとも１種のグリコールモノエーテル、ｃ）一般式（Ｂ）：Ｈ_２ｘ＋１Ｃ_ｘ−Ｏ−ＣＨ_２−（ＣＨＲ）−［Ｏ−ＣＨＲ］_ｙ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ_ｚＨ_２ｚ＋１の少なくとも１種のカルボン酸エステル、ｄ）モル比Ａ／Ｂは１０：９０〜４０：６０であり且つｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｘ、ｙ及びｚは互いに独立している、を含む、製造方法。この方法によって得られる分散液。分散液の液相の分離による、表面改質された二酸化ケイ素粒子の顆粒の製造方法。この方法によって得られる顆粒。分散液及び顆粒をコーティング材料に用いる使用。 （もっと読む）

一般式Ｈ−（ＳｉＨ_２）_ｎ−Ｈ（式中、ｎ≧２である）の高級ヒドリドシランの製造方法において、−１種又は複数種の低級ヒドリドシラン−水素、及び−周期律表の第ＶＩＩＩ属遷移金属の元素及びランタニドを含む１種又は複数種の遷移金属化合物を、５バールを上回る絶対圧で反応させ、その後減圧し且つ得られた反応混合物から高級ヒドリドシランを分離する、高級ヒドリドシランの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化シランが存在する空間を形成する構造物に対するハロゲン化物による反応器の腐食を抑制できると共に、その構造物の十分な機械的強度を実現可能なシリコンの製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ及びＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属によりハロゲン化シランを還元してシリコンを得るシリコンの製造方法において、ハロゲン化シランが存在する空間を形成する構造物の材料として、鉄の質量分率が１０％以下のニッケル基合金を用いる。 （もっと読む）