【課題】炭素数１０以上の三環式飽和炭化水素化合物の異性化反応において高選択率および高収率でアダマンタン類を製造することができる触媒および当該触媒を用いてアダマンタン類を製造する方法を提供すること。
【解決手段】ＭＷＷ型のトポロジーを有するゼオライトを含有し、全表面積に占める外表面積の割合が０．３以上であり、外表面積が１４５〜６００ｍ²／ｇである触媒である。 （もっと読む）

【課題】接触分解触媒、処理方法およびそれらの使用を提供すること。
【解決手段】本発明の触媒は、工業的な接触分解装置に加えられるとき、８０以下、好ましくは７５以下、より好ましくは７０以下の初期活性、０．１〜５０ｈの自己平衡時間、および３５〜６０の平衡活性を有している。上述の方法は、接触分解における触媒の活性および選択性をより均質にすることを可能にすること、および接触分解触媒の選択性を顕著に向上させることによって、乾性ガスおよびコークスの生成量を明らかに低減させて、蒸気を有効に利用し、ＦＣＣ装置におけるエネルギー消費を低減させる。 （もっと読む）

少なくとも１０のシリカ対アルミナのモル比を有するゼオライトＹを７００から１０００℃までの温度での焼成にさらすステップを含む変性ゼオライトＹを調製するための方法であって、（ｉ）水蒸気の分圧が７００から８００℃までの温度で最大で０．０６バールであり、（ｉｉ）水蒸気の分圧が８００から８５０℃までの温度で最大で０．０８バールであり、（ｉｉｉ）水蒸気の分圧が８５０から９００℃までの温度で少なくとも０．０３バールであり、（ｉｖ）水蒸気の分圧が９００から９５０℃までの温度で少なくとも０．０５バールであり、（ｖ）水蒸気の分圧が９５０から１０００℃までの温度で少なくとも０．０７バールである上記方法、上記方法によって得られる変性ゼオライトＹ、少なくとも１０のシリカ対アルミナのモル比を有しており、その赤外線スペクトルが、３７００ｃｍ^−１にピークを有するが、３６０５及び３６７０ｃｍ^−１には実質的にピークがないゼオライトＹ、及びゼオライトＹが、過重水素化ベンゼンとの交換により測定して最大で２０マイクロモル／グラムの酸性度を有する少なくとも１０のシリカ対アルミナのモル比を有するゼオライトＹ。 （もっと読む）

【課題】分子篩作用（又は形状選択性）を有し触媒活性に優れた新規触媒と、異性化工程及び／又は吸着分離工程を行わなくても、高純度のパラキシレンを効率よく製造することが可能な方法を提供する。
【解決手段】結晶子径が２０〜３００ｎｍであるＭＦＩ型ゼオライトの外表面をシリケートで修飾してなる触媒であって、前記シリケートの厚みが０．５〜２０ｎｍであることを特徴とする触媒、並びに、該触媒とベンゼン及び／又はトルエンを接触させて、アルキル化又は不均化反応を行うことを特徴とするパラキシレンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１種のゼオライトを含んでおりかつ少なくとも部分的に結晶化している固体材料または成形体を製造する方法の提供。
【解決手段】（ｉ）少なくとも部分的に結晶化した固体材料をその母液から分離する工程（ＩＩ）、（ｉｉ）固体材料を成形体に成形する工程（Ｓ）、または、（ｉｉｉ）固体材料または成形体をか焼する工程（Ｃ）、のうちの少なくとも１つの工程の後で、この固体材料または成形体を水を含有する組成物と接触させることを特徴とする方法。上述の固体材料または成形体を化学反応、特に少なくとも１個のＣ−Ｃ二重結合を有する化合物と少なくとも１種のヒドロペルオキシドとの反応、における触媒として使用する方法。 （もっと読む）

【課題】プロピレンと酸素と水素からプロピレンオキサイドをより効率的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】シリル化剤と接触させた活性炭と貴金属からなる貴金属担持物およびチタノシリケートの存在下に、液相中、プロピレン、酸素および水素を反応させることを特徴とするプロピレンオキサイドの製造方法。 （もっと読む）

ワックス質成分含有炭化水素原料の脱ロウ法は、原料を、ＺＳＭ−４８およびＭＴＴフレームワーク型のモレキュラーシーブを含む触媒系と、脱ロウ条件下に接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】過酸化水素を媒体としてプロピレンのエポキシ化反応を行うことにより、効率的にプロピレンオキサイドを製造する方法を提供する。
【解決手段】過過酸化水素を媒体としてプロピレンのエポキシ化反応を行うことによりプロピレンオキサイドを製造する方法であって、有機溶媒存在下、以下の方法により調製された、結晶化時にＴｉ(チタン)を導入したＭＷＷ構造を持つ結晶性チタノシリケート触媒を用いるプロピレンオキサイドの製造方法。
＜結晶性チタノシリケート触媒の調製方法＞
（ａ）Ｓｉ（ケイ素）化合物およびＴｉ（チタン）化合物を構造規定剤存在下、加水分解して調製したゲルを、水熱合成により水存在下で加熱処理を行い層状の結晶前駆体を調製し、該層状の結晶前駆体を焼成により結晶化してＭＷＷ構造を持つ結晶性チタノシリケートを調製する方法 （もっと読む）

【課題】合成ガスから１段でジメチルエーテル（ＤＭＥ）合成を収率よく製造する触媒およびそれを使用して製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム、ＣｕおよびＺｎを含む粒子状固体の表面にアルミニウムを含まないシリカを主原料とした水熱合成により形成されたＺＳＭ−５膜でコーティングしてなる触媒を用いることで、合成ガスを主成分とするガスからジメチルエーテル（ＤＭＥ）を１段反応で収率良く製造することが出来る。 （もっと読む）

沸石に一価金属を担持し、その後の蒸気処理による、ＭＯＲ構造型の選択的な脱アルミニウム化された沸石の調製。連続的に水素型に変換し、および／または、金属を担持する脱アルミニウム沸石は、酢酸および／または酢酸メチルを生成するカルボニル化方法の触媒としての用途に適している。 （もっと読む）

【課題】メタロアルミノホスフェート（ＭｅＡＰＯ）モレキュラーシーブの製造方法：
【解決手段】（a) アルミニウムAl、燐Pおよび金属Meの少なくとも２つの供給源を含む均一な溶液を作り、（b) 上記溶液に第１のＭｅＡＰＯモレキュラーシーブを加え、この第１のＭｅＡＰＯモレキュラーシーブ添加する前および／または後にpHを変えて非晶質の先駆体を作り、（c) 水から非晶質の先駆体を分離し、必要に応じて非晶質の先駆体を成形し、（d) 必要に応じて水で洗浄し、450℃以下の温度で非晶質の先駆体を乾燥し、（e) 上記の非晶質の先駆体を有機テンプレート-含有水溶液および段階(a)で既に存在していないAl、PまたはMeの供給源と接触させ、（f)上記の非晶質の先駆体を自己発生条件下で結晶化させて、結晶質モレキュラーシーブの濃縮度を初期の先駆体に対して増加させて、第2のＭｅＡＰＯモレキュラーシーブを得る。 （もっと読む）

本願は、ＥＭＭ―１２モレキュラーシーブであって、合成されたままの形態および焼成形態では、Ｘ線回折パターンは１４．１７オングストロームから１２．５７オングストロームの範囲で格子面間隔最大値のピークを有し、１２．１オングストロームから１２．５６オングストロームの範囲で格子面間隔最大値のピークを有し、８．８５オングストロームから１１．０５オングストロームの間は非分離拡散であり、１０．１４オングストロームから１２．０オングストロームの範囲の格子面間隔最大値のピークと、８．６６オングストロームから１０．１３オングストロームの範囲の格子面間隔最大値のピークとの間に谷を示し、最下点でバックグランドに対して補正される測定強度は、１０．１４オングストロームから１２．０オングストロームの範囲の最大値と、８．６６オングストロームから１０．１３オングストロームの範囲の最大値とを接続する線上の同一のＸＲＤ格子面間隔ポイントの５０％以上であるモレキュラーシーブに関する。 （もっと読む）

この開示はモノアルキル芳香族化合物の製造方法に関するものであり、アルキル化可能な芳香族化合物及びアルキル化剤を含む供給原料をアルキル化反応条件下でEMM-12を含む触媒と接触させることを含み、前記EMM-12が、その合成されたままの形態及び焼成された形態で、14.17 〜12.57 Åの範囲のd-間隔最大、12.1 〜12.56 Åの範囲のd-間隔最大、及び約8.85〜11.05Åの区別できない散乱を有するピークを含むＸ線回折パターンを有し、又は10.14 〜12.0 Åの範囲のd-間隔最大及び8.66 〜10.13 Åの範囲のd-間隔最大を有するピークの間に谷を示し、最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが10.14 〜12.0 Åの範囲及び8.66 〜10.13 Åの範囲の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上であるモレキュラーシーブである。 （もっと読む）

【課題】内側部分（コア）および外側部分（シェル）とを有し、Ｓｉ／金属の比が内側部分より外側部分の方が高いクリスタライトから成り、このクリスタライトの結晶横断面で金属および珪素が連続的に分布している結晶メタロシリケート組成物の製造方法。
【解決手段】：（a) OH^-アニオンと金属源とを含む水溶性媒体を用意し、（b) 無機珪素源と、任意成分のテンプレート剤とから成る水溶性媒体を用意し、（c) 任意成分の有機珪素源を含む任意成分の非水溶性媒体を用意し、（d) 所望の結晶質メタロシリケートを結晶させるのに有効な条件下で上記水溶性媒体（a)と（b)と任意成分の（c)とを混合し、（e) 所望のメタロシリケートを回収する段階から成り、結晶化前の上記混合物(a)+(b)+(c)中のＳｉ有機／Ｓｉ無機の比が<0.3で、OH^-/SiO₂のモル比が少なくとも0.3で、結晶化前の上記混合物(a)+(b)+(c)のpHが13以上である。
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【課題】ケトン類からオレフィンを製造するための触媒であって、触媒活性に優れ且つオレフィンの選択率の高い触媒を提供する。
【解決手段】結晶径が１００ｎｍ以下のＺＳＭ−５型ゼオライトから成るケトン類からオレフィンを製造するための触媒。本発明の好ましい態様においては、結晶の外表面の酸点を不活性化され、不活性化はジフェニルシランによる表面処理によって行われる。 （もっと読む）

【課題】リーン条件下で燃料を燃焼させて生成した窒素酸化物を含有する排ガスを硫黄酸化物と一酸化炭素と水素の存在下に接触させて、広い範囲の温度において、触媒の劣化なしに、燃費の悪化をきたすことなく、高い選択率にてその窒素酸化物を接触還元するための触媒を提供する。
【解決手段】本発明によれば、リーン条件下で燃料を燃焼させて生成した窒素酸化物を含有する排ガスを一酸化炭素と水素の存在下、又は一酸化炭素と水素と硫黄酸化物の存在下に接触させて、その窒素酸化物を接触還元するための触媒であって、水、珪素源、アルミニウム源、ロジウム源、水酸化アルカリ金属及び水酸化アルカリ土類金属から選ばれる少なくとも１種の鉱化剤、アルカリ金属塩からなる塩析効果剤、酸からなる水素イオン濃度調節剤及びテトラエチルアンモニウム源及びテトラプロピルアンモニウム源から選ばれる少なくとも１種の型剤を含有する水性混合物を水熱処理した後、洗浄し、乾燥し、焼成することによって得られる、０．５〜５．０重量％のロジウムを担持したアルカリ金属（及びアルカリ土類金属）−ＺＳＭ−５を含む触媒が提供される。また、０．５〜５．０重量％のロジウムを担持したＨ−ＺＳＭ−５を含む触媒も提供される （もっと読む）

排ガスの希釈を必要とすることなく、３００℃〜７００℃超の運転温度で燃焼排ガス中の窒素酸化物を還元するための安定な高温触媒を生産するプロセス。ゼオライト材料が、ゼオライトを部分的に脱アルミニウム化してほぼ定常状態とするのに十分であるがその化学構造を完全に崩壊させるには十分ではない温度及び継続時間で、蒸気処理される。鉄がゼオライト材料に添加される。ゼオライト材料は、そのゼオライト材料を安定化するのに十分な温度、湿度及び継続時間で焼成される。蒸気処理ステップ、焼成ステップ及び他のステップの範囲、順序及び継続時間についての例及び詳細が提供される。 （もっと読む）

ＳｉＯ_２および第ＩＶ族金属酸化物（ＴｉＯ_２またはＺｒＯ_２など）を含む結晶骨格を有するＭＣＭ−４１触媒が提供される。触媒は、酸性度が低く、炭化水素原料材の芳香族飽和を含む方法で用いるのに適切である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、Ｈ型結晶性メタロシリケート触媒の新規な性能改善の方法を提供することを目的とし、特に、グリセリンからのアクロレインの製造方法において優れた性能を示す結晶性メタロシリケート触媒を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ｈ型結晶性メタロシリケート触媒の製造方法であって、Ｈ型結晶性メタロシリケートを酸性水溶液で処理した後に熱処理する工程を有し、該処理工程前後において結晶性メタロシリケートの組成の変化率が２０％以下であり、かつ処理後のＨ型結晶性メタロシリケートの格子外へテロ原子の量が全へテロ原子の５モル％以下であることを特徴とするＨ型結晶性メタロシリケート含有触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ノルマルパラフィン系炭化水素から低流動点の中間留分を高い収率で得ることを可能とする、高活性且つ高異性化選択性である炭化水素の水素化異性化触媒を提供すること。
【解決手段】 本発明の炭化水素の水素化異性化触媒は、１０又は８員環からなる一次元状細孔構造を有し且つ下記式（１）で定義される骨格構造を構成する元素のうちの固体酸性の発現に寄与する元素の含有率Ａが０．２モル％未満である第１のゼオライト類の存在下で水熱合成された、第１のゼオライト類と同一の骨格構造を有し且つ下記式（１）で定義される含有率Ａが０．２〜８モル％である第２のゼオライト類と、元素の周期表第８族及び第６族からなる群より選択される少なくとも１種の金属とを含むものである。
【数１】


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