【課題】すすぎ工程において界面活性剤を必要としない、界面活性剤を含有する洗浄組成物を使用した自動、業務用食器洗浄機中での食器洗浄方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤を、洗剤の重量に基づいて１５重量％を超えない量で洗浄工程において使用する。界面活性剤の量は、食器上に界面活性剤の層を提供するに十分であり、いかなるリンス剤を添加することもなく水性すすぎ工程において被覆作用を奏する。 （もっと読む）

【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、炭素数が１０〜２０の高級脂肪酸塩を除く陰イオン界面活性剤と、イオン性界面活性剤とは異なるアルカリ金属塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陰イオン界面活性剤は、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩およびリン酸エステル塩からなる群から選択された少なくとも一つである。また、ここで用いられるアルカリ金属塩は、例えば、塩化物塩、炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、ギ酸塩および酢酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一つである。 （もっと読む）

【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化１]


式中、Ｘ^１及びＹ^１は、互いに異なって、水素原子、−ＳＯ_３Ｍ、−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２又は−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｔ−ＣＯＯＭを表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、価数を表す。 （もっと読む）

【課題】泡立ちが良く、且つ、低刺激性で肌に優しい洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄剤組成物は、下記成分（Ａ）を１〜１５重量％、下記成分（Ｂ）を２５〜５０重量％含有する。
成分（Ａ）：アルキルリン酸又はその塩、Ｎ−アシルアミノ酸又はその塩、及びＮ−アシル−Ｎ−カルボキシアルキルグリシン又はその塩から選択される１以上のアニオン性界面活性剤
成分（Ｂ）：下記式（１）で表されるデカグリセリンモノアルキルエーテル
Ｒ¹Ｏ−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ₂）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数１４〜１８のヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基を示す。ｎはグリセリンの重合度を示し、１０である） （もっと読む）

【課題】身体清拭、特に顔や乳幼児のお尻の清拭に用いた場合の肌荒れの問題がなく、且つ金属、プラスチックス、塗膜等の硬質表面の清拭後に拭き残りが生じにくく清拭性良好な湿潤ワイパーを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物（例えば旭化成ケミカルズ社製ペリセア（登録商標））を含有することを特徴とする湿潤ワイパー。
【化１】


（上記一般式（１）において、Ｒ¹は炭素数１〜２３の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩を示し、Ｚは−ＮＲ'−（Ｒ'は水素又は炭素数１〜１０の炭化水素基）、−Ｏ−、又は−Ｓ−を示し、ｊ、ｋは０、１、２のいずれかであり、かつｊ、ｋは同時に０ではなく、ｎは２〜２０の整数を示す。Ｘは分子量１００万以下の炭化水素鎖を示す。） （もっと読む）

【課題】低反射率をもたらす、シリコンウェハー表面でのピラミッドの均一かつ密な分布を与える。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を有する、シリコンウェハーをテクスチャ形成するためのテクスチャ形成前処理組成物。１種以上の界面活性剤を有するテクスチャ形成前処理組成物でシリコンウェハーを濡らす工程に続いて、テクスチャ形成工程を有する、シリコンウェハーのテクスチャ形成方法。 （もっと読む）

【課題】曳糸性がなく、剤を手に取った際には垂れにくく、剤を肌に塗布した際には、伸ばしやすく、更に十分な洗浄実感が得られる皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｅ）：
（Ａ）ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 ０．２５〜１８質量％、
（Ｂ）成分（Ａ）以外のカルボキシル基を有するアニオン界面活性剤 ２〜１５質量％、
（Ｃ）両性界面活性剤 ０．５〜１５質量％、
（Ｄ）アクリル酸／メタクリル酸アルキル共重合体 ０．１〜１．２質量％、
（Ｅ）水
を含有し、成分（Ｂ）及び（Ｃ）の質量割合が（Ｃ）／（Ｂ）＝０．２〜１．５であり、かつ成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の質量割合が（Ａ）／（（Ｂ）＋（Ｃ））＝０．１〜０．６である皮膚洗浄剤組成物。 （もっと読む）

水との接触時に乳化可能な自動乳化洗浄組成物であって、典型的な一実施形態において該組成物は、該組成物の全質量を基準として、（ａ）約１％〜約９９質量％の複数の二塩基エステルの混合物；（ｂ）約１％〜約４０質量％の、有機カチオンで中和された有機アニオンから成る複数の界面活性剤の混合物を含み、該アニオン及びカチオンのいずれか又は双方が、界面活性を有し、その複合体は、該二塩基エステル溶媒混合物中に可溶である。複数の界面活性剤の混合物は、典型的には、カチオン性界面活性剤及びアニオン性界面活性剤であり、非イオン性界面活性剤と併用されるかどうかを問わない。複数の二塩基エステルは、アジピン酸、グルタル酸、及びコハク二塩基酸の混合物に由来し、特定の一実施形態では、混合物は、アジピン酸ジアルキル、メチルグルタル酸ジアルキル及びエチルコハク酸ジアルキルを含み、そして該アルキル基は、個別に、Ｃ_１〜Ｃ_１２炭化水素基を含む。 （もっと読む）

【課題】低温や高温での保存安定性が高く、手に取った際の伸ばしやすさに優れた皮膚洗浄剤を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｆ）：
（Ａ）ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 ０．５〜１０質量％、
（Ｂ）高級脂肪酸又はその塩 ２〜２０質量％、
（Ｃ）アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体 ０．０５〜１．５質量％、
（Ｄ）（ジ）グリセリンモノ脂肪酸エステル又は（ジ）グリセリンモノアルキルエーテル ０．１〜５質量％、
（Ｅ）両性界面活性剤 ０．５〜１０質量％、
（Ｆ）水
を含有し、３０℃における粘度が１００〜１０００dPa・sである皮膚洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】基本性能である洗浄特性を低減させることなく、低刺激性で、かつ洗浄後に生じやすい痒みを起こしにくいという効果を奏する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る洗浄剤組成物は、陰イオン性界面活性剤（Ａ）、マルトオリゴ糖（Ｂ）、およびスメクタイト系粘土鉱物（Ｃ）を含有することを特徴とする。陰イオン性界面活性剤（Ａ）としては脂肪酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩から選ばれる少なくとも一種が好ましく、マルトオリゴ糖（Ｂ）としてはマルトテトラオース及びマルトペンタオースから選ばれる少なくとも一種が好ましく、スメクタイト系粘土鉱物（Ｃ）としてはスメクタイト族のモンモリロナイト及びサポナイトから選ばれる少なくとも一種が好ましい。 （もっと読む）

【課題】異種材料が複合化されたポリアミド樹脂成形体より、ポリアミド以外の付着物や被覆物などを容易に分離、除去することが可能な、ポリアミド樹脂成形体用洗浄液、およびそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属水酸化物および／またはアルカリ土類金属水酸化物と、アミンとが水に溶解されている。洗浄液１００質量％中に、アルカリ金属水酸化物および／またはアルカリ土類金属水酸化物を３〜４０質量％含み、かつアミンを０．５〜１０質量％含む。 （もっと読む）

【課題】ガラスモールドに付着した除去の困難なプラスチック汚れを人の手を使わずに除去し、且つガラスモールドを腐食させない洗浄剤及びその洗浄方法を提供する。
【解決手段】メタ珪酸ソーダ、下記の一般式（１）で表されるリン酸エステル、及び水酸化アルカリ金属、アンモニア、アルキルアミン類、アルカノールアミン類及び水酸化テトラアルキルアンモニウムから選択される１つ以上のアルカリ剤を含有することを特徴とするガラスモールド用洗浄剤組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数５〜１８の炭化水素基を表し、Ａ^１は炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｘは水素原子又はＲ^２−Ｏ−(Ａ^２Ｏ)_ｍ−で表される基を表し、Ｒ^２は炭素数５〜１８の炭化水素基を表し、 Ａ^２は炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｎ及びｍはそれぞれ０〜５０の数を表す。） （もっと読む）

【課題】選択ビタミンＢ類、すなわち、ピリドキシンおよびその塩類、ならびにチアミンおよびその塩類を使用する改良された眼科用溶液に関し、溶液をより効果的に防腐処理をし、コンタクトレンズ上にカチオン性防腐剤が沈着するのを一定程度減少させること。
【解決手段】０．００１〜１０重量％の、チアミン(B1)、リボフラビン(B2)、ナイアシン(B3)、デクスパンテノール、パントテン酸(B5)、およびピリドキシン(B6)からなる群から選択される防腐剤増強剤、ならびに少なくとも０．０００１重量％のカチオン性防腐剤を含むコンタクトレンズ用溶液であって、前記溶液が０．２モルパーセント以下の塩化物濃度を有する。 （もっと読む）

【課題】滑剤としての機能を損なうことなく、製造や使用に際して割れや欠けがなく、また、使用に際して、その磨耗量を調整することができ、かくして、ブロックの寿命を調整することもできる高級脂肪酸金属塩ブロックを提供する。
【解決手段】ヒドロキシ基を有していてもよい高級脂肪酸の金属石鹸であって、この高級脂肪酸金属石鹸における金属種が周期律表第２族元素、第１２族元素又は第１３族元素である高級脂肪酸金属石鹸１００重量部に対して、酸性リン酸エステルの金属塩０．０１〜１０重量部を含有させてなる高級脂肪酸金属塩ブロックであって、上記酸性リン酸エステルの金属塩における金属種が周期律表第１族元素、第２族元素、第１２族元素又は第１３族元素の金属である高級脂肪酸金属塩ブロックが提供される。 （もっと読む）

本発明は、好ましくはそのフッ素化部分を有するイオン性界面活性剤、並びにヒドロフルオロ−及び／又はヒドロクロロフルオロ−オレフィンから選択される溶媒を含む溶媒及び洗浄組成物を提供する。更に、本発明は、ヒドロフルオロ−又はヒドロクロロフルオロ−オレフィン及びかかる界面活性剤を含む、乾燥、ドライクリーニング、及び撥汚組成物を提供する。更に、本発明は、ヒドロフルオロ−オレフィン又はヒドロクロロフルオロ−オレフィン、並びにメタノール、エタノール、又はイソプロパノールのようなアルコールを含む乾燥組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性と再汚染防止性に優れ、洗濯物に帯電防止性を付与することができ、また洗濯物を消臭することのできるドライクリーニング用洗浄剤組成物及びそれを用いたドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 テルペン系溶剤を５容量％以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

この発明は、モノビニル官能性ジアルキルホスフィン酸、同エステルおよび同塩の製造方法であって；ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）をオレフィン（ＩＶ）を用いて、触媒Ａの存在下でアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）に変換させ、ｂ）生成したアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、式（Ｖ）のアセチル化合物を用いて、触媒Ｂの存在下で、モノビニル官能性ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）に変換させる方法に関し、ここに、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、同一または互いに異なって、また互いに独立して、とりわけＨ、Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１８アラルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アルキルアリールであり、ＸはＨ、Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１８アラルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アルキルアリール、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、および／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒ＡおよびＢは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または、遷移金属および／または遷移金属化合物および少なくとも１つの配位子から構成される触媒系である。
（もっと読む）

式（Ｉ）又は（ＩＩ）：
【化１】


（式中、
Ａは、Ｒ_f−（ＣＨ₂）_k−［（ＣＦ₂ＣＦ）_y−（ＣＨ₂ＣＨ₂）_z］_mＯであり、炭素数約８〜約２２であり、
Ｒ_fは、Ｃ_nＦ_2n+1であり、
ｎおよびｋは、それぞれ独立して１〜約６であり、
ｙ、ｚおよびｍは、それぞれ独立して１、２、３又はこれらの混合であり、
ｗは、１又は２又はこれらの混合であり、
Ｍは、水素、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、又はアルカノールアンモニウムイオンである）
の化合物を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた安定性、優れた泡性能と、すすぎ時から乾燥後までの良好な使用感を有する、皮膚又は毛髪用の洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】次の成分
（Ａ）アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤
８〜５０重量％
（Ｂ）ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、脂肪酸変性シリコーン及び分岐ポリグリセロール変性シリコーンから選ばれる１種以上の変性シリコーン
０．１〜３重量％
及び（Ｃ）多価アルコールのエチレンオキサイド付加物と炭素数８〜２２の分岐脂肪酸とのエステル、多価アルコールと炭素数８〜２２の分岐脂肪酸とのエステルのエチレンオキサイド付加物及びポリエチレングリコールと炭素数８〜２２の分岐脂肪酸とのエステルからなる群から選ばれる１種以上の化合物
０．０５〜３重量％
を含有し、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）の重量比率 [（Ｂ）／（Ｃ）]が、０．３〜３である、皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 ガラス又はシリコン基板表面の平坦性を損ねることなく、優れたパーティクルの除去性を実現し、低起泡性かつ経時安定性に優れた電子材料用洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】アニオン成分が一般式（１）で示されるアニオン性界面活性剤（Ａ）と、炭素数６〜１８のアルケン及び一般式（２）で示される有機溶剤からなる群から選ばれる１種以上の有機溶剤（Ｂ）と、アルカリ成分（Ｃ）とを含有してなり、前記（Ｂ）のＳＰ値が６〜１３であり、有効成分濃度０．１〜１５％における２５℃でのｐＨが１０〜１４であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｒ¹［−（ＯＡ¹）_a−Ｑ^- ］_b （１）
Ｒ³［−（ＯＡ²）_c−ＯＨ］_d （２） （もっと読む）