【課題】陰イオン界面活性剤を含有していても、被洗物への柔軟性付与効果と抗菌性付与効果のいずれも優れ、かつ、被洗物の黄ばみ発生も抑制された液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤（ａ）と、陰イオン界面活性剤（ｂ）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（ｃ）とを含有することを特徴とする液体洗浄剤。式（ｃ１）中、ｎは２〜６の整数である。Ｒ^１は炭素数８〜１８のアルキル基であり、Ｒ^２は水素原子、炭素数８〜１８のアルキル基、又は（ＣＨ_２）_ｍＮＨ_２である。ｍは２〜６の整数である。
［化１］
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【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、陽イオン界面活性剤と、解離により陽イオン界面活性剤に対して対イオンとなる陰イオンを生成可能な、イオン性界面活性剤とは異なる塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陽イオン界面活性剤は、例えば、脂肪族アミン塩、脂肪族四級アンモニウム塩、芳香族四級アンモニウム塩および複素環四級アンモニウム塩のうちの少なくとも一つである。また、ここで用いられる塩は、例えば、陰イオンとして塩素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、ギ酸イオンおよび酢酸イオンのうちの一つを生成可能な塩の群から選択された少なくとも一つのものである。 （もっと読む）

【課題】起泡性界面活性剤と共に使用することにより泡立ち速度に優れる増泡剤及びそれらを含む洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）


［但し式中Ｒ^１は炭素数６〜１０のアルキル基を示し、Ａ^１Ｏ、Ａ^２Ｏは、各々独立にオキシエチレン基、オキシプロピレン基から選ばれる基を示し、Ａ^１Ｏ、Ａ^２Ｏが同時にオキシエチレン基、オキシプロピレン基の混合でも良い。ｍ，ｎは互いに独立に０以上の整数であり、１≦ｍ＋ｎ≦２の関係がある。］で表される脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物からなる増泡剤。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、銅配線を腐食させることなく、配線金属の腐食抑制の目的で添加されている防食剤などの有機残渣、および研磨された銅配線金属の銅の残渣の除去性に優れる銅および銅合金配線半導体用の洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨工程に続く洗浄工程において使用される洗浄剤であって、ＨＬＢが１５〜３５であって分子内に少なくとも１個の水酸基を有するアミン（Ａ）、ＨＬＢが１０〜３０であって分子内に少なくとも１個の３級アミノ基を有しかつ水酸基を含まないアミン（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが７．５〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】洗浄力に優れ、かつ泡質、泡持続性に優れる液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】特定のα−スルホ脂肪酸エステル塩（Ａ）と、特定のα−スルホ脂肪酸ジ塩（Ｂ）と、特定のアルキルアミンオキサイド（Ｃ）と、特定の第３級アルキルアミン（Ｄ）とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｄ）成分で表される質量比が６０／４０〜９７／３であることよりなる。前記（Ａ）成分の含有量は、１０〜３５質量％であり、（Ａ）成分／（Ｂ）成分で表される質量比が５０／５０〜８０／２０、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／（Ｃ）成分で表される質量比が５０／５０〜９０／１０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】乾燥時間の短縮と固体脂に対する洗浄力も良好な低泡性の食器洗い乾燥機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される化合物（式中、ｍ＋ｎは１０〜５０）及び（Ｂ）一般式（Ｉ）で表される化合物（式中、ｍ＋ｎは１〜３である）及び一般式（ＩＩ）で表される化合物（式中、ｍ＋ｎは１〜３である）を含有する自動食器洗い乾燥機用液体洗浄剤組成物。
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【課題】デリケート繊維に対する浸透力、風合い感に優れる液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】式（１）で表される非イオン界面活性剤Ａ、及び、アルキル鎖長の異なる二種のアミドアミンＢ、Ｃを含有し（Ｂのアルキル鎖長７〜21、Ｃのアルキル鎖長１５〜１７）、Ｃ／Ａの質量比が０．０１〜０．２０であり、Ｃ／Ｂの質量比が０．７〜５．０である衣料用液体洗剤組成物。


（Ｒ^１は炭素数７〜２１の炭化水素基であり、Ｒ^２は−Ｘ−が−Ｏ−の場合は水素であり、−Ｘ−が−ＣＯＯ−の場合は炭素数１〜６のアルキル基又はアルケニル基。） （もっと読む）

【課題】低反射率をもたらす、シリコンウェハー表面でのピラミッドの均一かつ密な分布を与える。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を有する、シリコンウェハーをテクスチャ形成するためのテクスチャ形成前処理組成物。１種以上の界面活性剤を有するテクスチャ形成前処理組成物でシリコンウェハーを濡らす工程に続いて、テクスチャ形成工程を有する、シリコンウェハーのテクスチャ形成方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】高濃度のアルカリ洗浄剤に溶解させることができ、溶解安定性に優れたアルカリ洗浄剤用消泡剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物（Ａ）、及び一般式（２）で表されかつＨＬＢが１０〜１６である化合物（Ｂ）を含有してなるアルカリ洗浄剤用消泡剤であって、前記化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の重量比［（Ａ）／（Ｂ）］が８０／２０〜５／９５であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】原料に、動植物由来のものであって、しかもバージンではない使用済みのものを用いてなる、車体クリーン化剤を提供する。
【解決手段】車体クリーン化剤を、廃食用油を源資とするリサイクル脂肪酸由来の脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル及び脂肪酸石鹸の中から選ばれた少なくとも一種の薬剤を含んでなるものとする。車体クリーン化剤にはさらに界面活性剤を配合するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高濃度のアルカリ洗浄剤に溶解でき、低温安定性に優れたアルカリ洗浄剤用消泡剤の提供。
【解決手段】式（１）、及び式（２）で表される化合物を含有してなるアルカリ洗浄剤用消泡剤。


［式中、Ｒ¹は炭素数８〜２４のアルキル基又はアルケニル基；ｋ＋ｍ＋ｎ＝１．０〜１０．０を満たす数である］


［式中、Ｚはアミン又はアンモニア残基］ （もっと読む）

【課題】低浴比の濯ぎ条件下でも、衣料に優れた柔軟性をもたらす衣料の処理方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３からなる衣料の処理方法。
工程１：下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アミン又はその酸塩、及び陰イオン性界面活性剤を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比＝１．６〜２０の洗浄剤組成物を用いて、浴比３〜１５の条件下で衣料を洗浄する工程
工程２：工程１で使用した洗浄水を衣料から脱水する工程
工程３：工程２で得られた衣料を、柔軟剤組成物と浴比３〜２０の条件下で接触させる工程
（Ａ）：式Ｒ^１−Ｘ−〔（ＥＯ）_ｎ／（ＰＯ）_ｍ〕−Ｒ^２の非イオン性界面活性剤
（Ｒ^１は炭化水素基、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−、Ｒ^１−Ｘ−の炭素数は８〜２２、ｎは５〜２５、ｍは０〜５、Ｒ^２はＨ又は炭素数１〜３の炭化水素基）
（Ｂ）：式Ｒ^３−Ｏ−〔（ＥＯ）_ｎ１／（ＰＯ）_ｍ１〕−Ｈの非イオン性化合物
（Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素基、ｎ１は５〜２５、ｍ１は０〜５） （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造において、表面の微細な凹凸パターンの少なくとも一部にチタン、窒化チタン、タングステン、アルミニウム、銅、スズ、窒化タンタル、ルテニウム、及びシリコンからなる群から選ばれる少なくとも１種の物質を含むウェハのパターン倒れを誘発しやすい洗浄工程を改善するための、保護膜形成用薬液を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンを形成されたウェハにおいて該凹凸パターンの少なくとも凹部表面の一部がチタン、窒化チタン、タングステン、アルミニウム、銅、スズ、窒化タンタル、ルテニウム、及びシリコンからなる群から選ばれる少なくとも１種の物質を含むウェハの洗浄時に、少なくとも前記凹部表面に撥水性保護膜を形成するための撥水性保護膜形成剤を含む薬液であり、該撥水性保護膜形成剤が非水溶性の界面活性剤であることを特徴とするウェハの撥水性保護膜形成用薬液。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び起泡性に優れる液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤（Ａ）及びアニオン性界面活性剤（Ｂ）を含有してなる液体洗浄剤組成物。
【化１】


式中、Ｒ^１は炭素数８〜２４のアルキル基又はアルケニル基；Ａ^１Ｏ及びＡ^２Ｏは、それぞれ独立にオキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基；ｍ＋ｎは０．５〜１００の数であり、ｍ及びｎのいずれか一方は０でない。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩とを含有する粉末洗浄剤組成物において、アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩が合一して形成される水不溶分の発生を低減できる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１〜１０００μｍのアルカリ金属珪酸塩（ａ１）の表面に、表面処理剤（ａ２）が存在して複合化されているアルカリ金属珪酸塩粒子（Ａ）と、平均粒径が０．１〜５０μｍのアルミノ珪酸塩（Ｂ）とを含有する粉末洗浄剤組成物であって、（ａ２）が、融点４５℃〜９０℃、分子量２００〜７００、透湿率０〜２％、２０℃の水１００ｇに対する溶解度０．５ｇ以下の非イオン性有機化合物及び／又は陽イオン性有機化合物である、粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】同じ洗浄液を長時間使い続けても液晶パネルに不具合を生じることなく、かつ、液晶汚れに対する洗浄力に優れた液晶除去用洗浄剤組成物及び液晶パネルの洗浄方法を提供する。
【解決手段】式（１）［Ｒ^１はＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３、Ｒ^２はＣＨ_３、ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３を示す。］で表される芳香族化合物と、水と、式（２）で表される化合物及び炭素数７〜２２のアルキル基又はアルケニル基を有するＨＬＢが１１以上のアルキレンオキサイド付加型ノニオン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも一種と、特定の化学構造を有する窒素誘導体化合物１質量％以上とを含有する液晶除去用洗浄剤組成物。
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