【課題】フォトレジストパターンの残渣物及びエッチング残渣物を効果的に剥離除去することができ、金属に対する防食性に優れ、さらには長時間の継続使用も可能なフォトリソグラフィ用剥離液、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ用剥離液は、（Ａ）フッ化水素酸、（Ｂ）一般式（ｂ−１）で表される塩基性化合物、及び（Ｃ）水を含有する。式中、Ｒ^１ｂからＲ^５ｂは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ^１ｂからＲ^５ｂの少なくとも１つは水素原子である。Ｒ^１ｂからＲ^４ｂのうちいずれか１つとＲ^５ｂとが相互に結合して環構造を形成してもよい。Ｙ^１ｂ及びＹ^２ｂは炭素数１〜３のアルキレン基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。ｎが２以上のとき、複数のＲ^５ｂ同士及び複数のＹ^１ｂ同士は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ^５ｂ同士が相互に結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】合成樹脂を含む複合材料、又は合成樹脂が付着した固体基材から、合成樹脂を溶解・剥離するための溶剤組成物の提供。
【解決手段】（ａ）Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ノルマルプロピルブロマイド、γ−ブチロラクトン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンからなる群より選択される有機溶媒３０質量％〜９５質量％、（ｂ）塩基性無機化合物０．５質量％〜５．０質量％、及び（ｃ）グリセリン４．５質量％〜６５質量％からなる合成樹脂溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドに固着した樹脂を含むインクに対して良好な洗浄性能を有するインクジェット記録装置用洗浄液セットを提供する。
【解決手段】少なくともバインダー樹脂を含有する水性インクを吐出して記録媒体上に画像を形成するインクジェット記録装置のインク吐出口又はインク吐出口近傍でインク吐出に影響を与える部位を洗浄するためのインクジェット記録装置用洗浄液セットであって、水性インクの粘度を低下させる成分を含有する第１の洗浄液と、インク吐出口又はインク吐出口近傍でインク吐出に影響を与える部位で固化した水性インクを溶解させる水及び水溶性有機溶剤を含み、第１の洗浄液とは異なる第２の洗浄液と、からなる。 （もっと読む）

【課題】油中製造法等の液中製造法により造粉された粉末に好適な洗浄剤、及びその洗浄剤を用いて油中製造法等により高い清浄度ではんだ粉末を製造する。
【解決手段】液中ではんだ粉末を造粉する造粉工程と、該造粉工程で得られたはんだ粉末を洗浄剤にて洗浄する洗浄工程とを有し、その洗浄剤として、Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドンジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、スルホラン、γ―ブチロラクトンの中から選ばれる一種以上の成分を含む洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】非有毒かつ環境に優しいクリーニング組成物、従来の高有機含有量系クリーニング組成物に比肩するクリーニング効率を有するクリーニング組成物を提供すること。
【解決手段】Ａ半導体基材がアルミニウムを含む用途におけるフォトレジストおよびエッチング後／アッシング後残留物除去のための水に富んだヒドロキシルアミン調合物。クリーニング組成物は、約２〜約１５ｗｔ％のヒドロキシルアミン；約５０〜約８０ｗｔ％の水；約０．０１〜約５．０ｗｔ％の腐食防止剤；約５〜約４５ｗｔ％の、：ｐＫａ＜９．０を有するアルカノールアミン、水混和性溶媒、およびそれらの混合物からなる群から選択される成分を含む。そうした組成物の使用は、一方で両方の材料を含む基材でアルミニウムを保護しながら、Ａｌ基材での効率的なクリーニング能力、最小限のケイ素エッチングを示す。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】インク流路の洗浄を十分に行うことができる洗浄液の機能と、印字検査に用いたインクの洗浄残渣の凝集を防ぎ、インク流路部材への侵食もなく、インクの充填時に問題を起こさない充填液としての機能を持つ洗浄液兼充填液などの提供。
【構成】インクジェット記録装置及びインクカートリッジの液体流路の洗浄液兼充填液であって、下記構造式（１）で示されるアミド化合物の少なくとも１種を合計量で１０．０〜４５．０質量％含有し、かつフッ素系界面活性剤を含有する洗浄液兼充填液。
＜構造式（１）＞


（式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】各種染毛剤による皮膚染着の汚れを効果的に除去する性能を有し、しかも皮膚に対する刺激の少ない染着除去剤組成物、およびこうした染着除去剤組成物を用いて染着による汚れを効果的に除去する方法を提供する。
【解決手段】本発明の染着除去剤組成物は、染毛剤を使用したときの皮膚染着の汚れを除去するために用いる染着除去剤組成物であって、（Ａ）非イオン性界面活性剤、および（Ｂ）還元剤を含有し、泡状に吐出して使用されるものであり、必要によって（Ｃ）浸透剤および（Ｄ）アルカリ剤を夫々含有するものである。 （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂若しくはその硬化物、又は油脂が付着した被洗浄物に対して、洗浄効果の優れた溶剤組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン１００重量部に対して、（ｂ）Ｎ−メチル−２−ピロリドンを４０〜４５０重量部含むことを特徴とする、硬化性樹脂若しくはその硬化物、又は油脂が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れた非水組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で示される成分（ａ）多鎖多親水基型化合物と成分（ｂ）油性成分又は非水溶媒とを含有し、かつ実質的に水分を含有しないことを特徴とする非水組成物。
【化１】
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【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】油状物及び高分子樹脂状汚れに共通に作用し、洗浄力、安定性があり、耐久力、危険度の低いグレードであることと共にアルコールソルベントをも含ませて速乾性をキープすることを可能ならしめる水性処理組成物を提供する。
【解決手段】ＮＭＰとジメチルイミダゾリジノン，グルタル酸ジメチル，コハク酸ジメチルをメインのベースにして、相溶性のある親水性の界面活性剤と、テルペン系炭化水素、低級１価アルコールをバランスよく配合した。 （もっと読む）

本発明は、加熱された洗濯プロセスの間の発煙および／または曇りを低減するための組成物ならびに方法を提供する。この組成物は、発煙低減性界面活性剤パッケージ、および所定の量の遊離アルコールを含む洗浄性界面活性剤を含んでいる。この発煙低減性界面活性剤パッケージは、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤またはそれらの混合物を含んでいる。これらの界面活性剤は、これらの界面活性剤を含む該組成物と接触した衣類が、少なくとも約２５０°Ｆに加熱された時に、発生する煙または曇りが、低減および／または排除されるように選択される。また、この組成物を用いる方法も提供される。
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本発明は、ＶＯＣ（揮発性有機化合物）のごく少量を含む１以上の特殊な溶媒に基づく環境に配慮した、多目的、費用対効果の高い組成物に関する。組成物は、好ましくはオン系の組成物である。本発明の好ましい実施態様において、組成物はＶＯＣが無い場合でさえある。それらの低燃焼性又は非可燃性並びにそれらの低ＶＯＣ含有量のため、その組成物はより高い職場の安全性、保険コストの削減、及び環境立法に起因するコストの削減を保証する。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料にダメージを与えることなく、エッチング残渣やレジスト残渣等の洗浄性能に優れた電子デバイスの洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１、Ｒ_２は各々独立して水素原子、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ_１及びＲ_２が共に水素原子になることはない。）
で表されるアミン類、フッ化物、及び水を含む洗浄用組成物を用い、アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料を含有する電子デバイスの製造プロセスにおいて発生する有機物及び／又は無機物を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】消泡剤を使用せずに気泡の発生を大幅に抑えるとともに良好な濡れ性を有する液体吐出装置用前処理液及びそれを含むカートリッジの提供。
【解決手段】着色剤を含まない液体吐出装置用処理液であって、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒは炭素数８〜１１のアルキル基を表す。）
で示されるＮ−アルキル−２−ピロリドンを含有する液体吐出装置用処理液及びそれを含むカートリッジである。 （もっと読む）

【課題】 ろ過膜の洗浄を短時間で効果的に行い、ろ過膜に付着した微粒子、その他の汚染物を高度に除去することができ、これにより使用開始後に汚染物が出ない清浄なろ過膜を迅速に得ることが可能なろ過膜の洗浄方法および洗浄剤を得る。
【解決手段】 超純水製造に使用されるろ過膜を、超純水製造工程での使用に先立って予備的に洗浄する方法において、前記ろ過膜に対する溶解性を有し、かつ水との相溶性を有する有機溶媒の水溶液からなる洗浄剤によってろ過膜を洗浄するか、あるいはさらに有機性アルカリの水溶液によってろ過膜を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】除去対象の過酸化アセトン、特には、三量体型の過酸化アセトンに対する結合能を有する抗体を新たに創製し、創製された抗体を利用して、抗原抗体反応を応用して、該三量体型の過酸化アセトンを、固定化された抗体に結合させ、回収することで、完全に拭き取り除去する方法と、該拭き取り除去作業に利用される、抗体を固定化した、拭き取り処理材料を提供する。
【解決手段】過酸化アセトンと類似する構造を有する3-[12-(2-カルボキシエチル)-9,12-ジメチル-7,8,10,11,13,14-ヘキサオクサ-スピロ-[5.8]テトラデック-9-イル]-プロピオン酸に対するモノクローナル抗体のうち、該過酸化アセトンに対する交叉反応性を示すものを選択し、過酸化アセトンを、固定化された抗体に結合させ、回収することで、完全に拭き取り除去する。 （もっと読む）