【課題】半導体の微細加工に利用できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｔ^１は、単結合又は芳香族炭化水素基を表し、Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｌ^２及びＬ^３は、単結合又は２価の炭素数１〜６の飽和炭化水素基を表し、環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、炭素数３〜３６の炭化水素環を表し、Ｒ^１及びＲ^２は、水素原子等を表し、Ｒ^３及びＲ^４は、ヒドロキシ基等を表し、Ｒ^５は、水素原子又はメチル基を表し、ｔは、０〜２の整数を表し、ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；ｒは１又は２；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基、但し、Ａ^１１が単結合の時、ｓ＝１かつＸ^１０は酸素原子である；Ｒ^２は、酸に不安定な基を表す。］ （もっと読む）

【課題】相溶性が良好で、各種電気化学デバイスにも好適に用いられ、持続的に優れる帯電防止効果を有する、塩素イオン且つ金属塩フリ−の不飽和第４級アンモニウム塩、該不飽和第４級アンモニウム塩からなる帯電防止剤の提供。
【解決手段】３級アミン化合物とトリフルオロメタンスルホン酸エステルを有機溶媒の存在下で反応させた後、有機溶媒を不活性ガスバブリングで除去することにより、一般式（１）（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基を、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に炭素数１〜３のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ_４は炭素数１〜３のアルキル基又はアリール基を表し、Ｚは炭素数１〜３のアルキレン基を表す。)で示される不飽和第４級アンモニウム塩化合物を高純度、高収率で合成し、当該化合物からなるオリゴマー又は／及びポリマーを帯電防止の有効成分として帯電防止層を形成させる。
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【課題】被塗装物を劣化させることなく除去が可能な塗膜を形成できる化合物、塗料組成物、及び該塗料組成物により形成される塗膜を除去する塗膜除去方法の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物、及び一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、反応可能な基を有する化合物とを反応させて樹脂を含有する塗料組成物が得られる。前記塗料組成物を被塗装物上に塗布して得られる塗膜は酸化剤溶液で分解し、その塗膜の分解物を前記被塗装物から除去することができる。




<ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、特定の２価の基を表す。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^２は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、Ｒ^３は−Ｒ^４１−Ｒ^４２で表される基である。Ｒ^４１は無置換の炭素数１〜９のアルキレン基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜９のフッ素置換アルキル基である。ただし、Ｒ^４１とＲ^４２との炭素数の合計は１０以下である。
［化１］
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【課題】反応効率が良好であるとともに、塩基発生時に炭酸ガスの発生もないカルボン酸化合物、塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
本発明に係るカルボン酸化合物は、光の照射によりカルボン酸が光環化反応を起こして塩基が発生する塩基発生剤として作用し、エポキシ系化合物等の塩基反応性化合物に適用した場合には、塩基発生反応が連鎖的に行われるため反応効率が良好であるとともに、塩基発生時に炭酸ガスの発生もない。また、本発明に係る感光性樹脂組成物は、硬化膜に炭酸ガスの気泡による凸凹を生じさせることもなく、製品特性及び製品価値の高い硬化膜を提供することができる。かかる効果を奏する本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 適度な強度の酸を発生させ、かつ、発生酸の移動、拡散を適度に制御することが可能であり、また、基板との密着性を損なわない酸発生単位をベースポリマーに導入することができるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を用いた高分子化合物、該高分子化合物をベースポリマーとして用いた化学増幅型レジスト組成物および、該化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される重合性アニオンを有するスルホニウム塩。
【化１】
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【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を重合してなる重合物を提供する。
【解決手段】特定の式で示される１０−アルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】沸点の低い有機溶媒類に対しても溶解性に優れ、また液晶配向膜の高チルト角発現が可能なポリイミドを与え得るそのモノマーとしての側鎖置換脂環式テトラカルボン酸二無水物及びその製造法の提供。
【解決手段】ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸−２：４，６：８−二無水物のビシクロオクタン環に側鎖置換基を導入した下記式［１］で表される化合物及びその製造方法。


（式中、Ｒ¹は、炭素数１〜２０のアルキル基及びシアノアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】発光効率に優れる発光素子の製造に有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構成単位及び芳香族アミンを構成単位を有する高分子化合物。


式中、ｎ^１及びｎ^２は１〜５の整数を示し、Ｒ^１〜Ｒ^１０は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は１価の複素環基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち隣接する基同士は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ^７〜Ｒ^１０のうち隣接する基同士は互いに連結して環構造を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】 永久圧縮歪の発生がより一層抑制された、電子写真画像に欠陥を生じさせにくい帯電部材の提供。
【解決手段】 導電性支持体および表面層を有する帯電部材であって、該表面層が、ポリマー鎖がアダマンタン基に由来する２価の基によって架橋されてなる化合物を含有することを特徴とする帯電部材。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率を有する活性エネルギー線硬化物を与えるウレタン（メタ）アクリレート化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


のアルコール化合物と２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートから選ばれる化合物を反応させて得られる化合物。 （もっと読む）

【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）にて表されるアントラセン誘導体。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−Ｏ−（Ｒ−Ｏ）_ｍ−で表される基。Ｒは、ヒドロキシル基を有していてもよい２価の炭化水素基。ｍが２以上の場合、複数のＲは同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供。
【解決手段】特定式に示される１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物及び該（メタ）アクリレート化合物を重合してなる重合物である。 （もっと読む）

【課題】有既存のモノマーとの重合によって架橋度及び性質が制御された機械的な架橋構造を持つ架橋ポリマーを製造できるとともに、該架橋ポリマーを解架橋できるロタキサン、該ロタキサンからなる架橋剤、該架橋剤を利用した架橋方法、該架橋方法により架橋して得られた架橋ポリマー、及び該架橋ポリマーの分解方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも１つの重合活性基を有する２つのクラウンエーテル分子からなる輪成分と、該輪成分の空孔部分を貫通する、特定構造の軸成分とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高炭素密度、高耐熱性、高屈折率及び蛍光特性等の高い機能性を有するフェノール樹脂、これを含む硬化性組成物及び硬化物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物をフェノール成分とし、酸性触媒の存在下、アルデヒド類、ジメチロール化合物類、アルケン類、ケトン類からなる群より選択される少なくとも１種である架橋剤で重合して得られるフェノール樹脂。


（式（１）中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立にヒドロキシアリール基を示す。） （もっと読む）

【課題】高輝度で発光する電界発光素子となる電子デバイスを提供する。
【解決手段】式（１）で表される構造単位及び式（１）と類似の置換基を有する特定な構造単位からなる群から選ばれる１種以上の構造単位を有する高分子化合物を含む層を電荷注入層及び／又は電荷輸送層として備える電子デバイス。


（式（１）中、Ｒ^１は所定の１価の有機基を表し、Ｒ^２は所定の１価の有機基を表し、ｍ２は１〜３の整数を表す。Ｒ^２は複数個ある場合は、同一でも異なっていてもよい。式（１）中の水素原子は、Ｒ^１、Ｒ^２以外の置換基と置き換えられてもよい。） （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、大きな屈折率異方性を有し、重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性と高い配向性を有する重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする重合性液晶組成物、更に、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【化１】
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【課題】
表面硬度が高いハードコート層を形成できるハードコート剤の成分と有用な重合性ジアセチレン化合物、及びハードコート剤として有用な紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
式（Ｉ）
【化１】


〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等を表し、Ｇ_１及びＧ_２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の脂肪族基等を表し、Ｚ_１及びＺ_２は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、Ａ_１及びＡ_２は、炭素数６〜２０の２価の芳香族基を表す。〕
で示される重合性ジアセチレン化合物、及び、この化合物を含有する紫外線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）