【課題】高屈折率を有するビスナフタレンスルフィド系化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式(I)：


（Ｒは、水素原子又はメチル基）で表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物、及び1,1'-チオビス(2-ナフトール)と、Ｈ_２Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−Ｘなる(メタ)アクリル酸ハライドとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させる工程を含む、式(I)で表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物の製造方法。但しＲはＨ又はＣＨ_３であり、Ｘはハロゲンである。 （もっと読む）

【課題】繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる新規な化合物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される反応性化合物。一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性骨格を示し、Ｄは下記一般式（ＩＩＩ）で示される基を示す。ｍは１以上８以下の整数を示す。一般式（ＩＩＩ）中、Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を１つ以上含む２価の連結基を示す。
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【課題】リビングカチオン重合の開始種に用いることができ、かつ、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル並びにそれを開始種としてリビングカチオン重合可能なビニル系モノマーを重合して得られ、可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合が可能な重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）



（式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子である）で表わされるビニルエーテル及びこれを開始種としてビニル系モノマーをリビングカチオン重合して得られる重合体。 （もっと読む）

【課題】重合することにより、優れた耐熱性を有する硬化物を形成することができる新規のエポキシ化合物、その製造方法、前記新規のエポキシ化合物を得る上で有用な新規のケトン化合物、その製造方法、前記新規のエポキシ化合物を含む樹脂組成物、及び前記樹脂組成物を硬化して得られる優れた耐熱性を有する硬化物を提供する。
【解決手段】本発明の脂環式エポキシ化合物は、下記式（１）で表される。式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子、鎖状脂肪族炭化水素基、環状脂肪族炭化水素基、及びこれらが組み合わされてなる基から選択される基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、隣接する炭素原子と共に結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
【化１】
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【課題】相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え得るポリウレタン組成物に適した多官能含フッ素アルコール及びポリウレタン組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）又は（III）で表される含フッ素アルコール及び撥水性ポリウレタン用組成物。


［式中、Ｒｆ_１及びＲｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び／又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状のフッ化炭化水素基を表す。ただし、Ｒｆ_１はｑ価であり、Ｒｆ_２は１価である。ｑは２以上の整数を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Ｑで置換されていてもよく、このＱを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量で３５質量％以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも３００以下となる。またｑが２以上のとき、複数のＱは同一でも異なってもよい。］ （もっと読む）

【課題】電子線やＥＵＶを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、
Ｘは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基などを表すが、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。］
〔２〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高架橋性、高屈折率、高透明性、低線膨張率などの優れた特性を効率よく付与するのに有用な化合物を提供する。
【解決手段】酸触媒の存在下で、フルオレノン類と、ヒドロキシル基を有する縮合多環式炭化水素とを反応させ、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有する化合物を得る。


（式中、環Ｚ^１およびＺ^２は縮合多環式炭化水素環、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂおよびＲ^２は同一又は異なって置換基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍは０又は１以上の整数、ｎは１以上の整数を示す。）
上記式（１）で表される代表的な化合物には、９，９−ビス［（ポリ）ヒドロキシナフチル］フルオレン類などが含まれる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れ、樹脂原料などとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】前記化合物を、下記式（１）で表される新規なジベンゾフルオレン化合物（例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）−２，３：６，７−ジベンゾフルオレンなど）で構成する。


（式中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｅは酸素原子又は硫黄原子、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一又は異なって置換基を示し、Ｒ^４はアルキレン基を示す。ｋは０〜２の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは０以上の整数、ｎは０以上の整数である。） （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化物や重合体を与える含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及びそれを含有する光硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示す。）
で表される含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及び当該含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有する光硬化性樹脂組成物により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】安定性を有し、かつ硬化物において透明性及び耐熱着色性に優れ、十分なガスバリア性を示し、クラックが生じにくい光学部品用硬化性樹脂原料組成物およびこれを用いた光学部品を提供する。
【手段】下記式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体Ａを含有する光学部品用硬化性樹脂原料組成物。


（式中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基から選ばれる基である。ただしＡ^１とＡ^２とは異なる。Ｒ^Ａは二重結合を含まない置換基を表す。ｎは０〜８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ビスフェノール化合物からビスフェノール化合物のジオキシアルキレンエーテルを製造する方法において、工業化にあたって効率的であり、かつ副生成物が少なく、純度の高いビスフェノール化合物のジオキシアルキレンエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】ビスフェノール化合物（Ａ）に炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを付加して、該ビスフェノール化合物のジオキシアルキレンエーテル（Ｂ）を製造する方法において、触媒（Ｃ）の存在下、水及び下記溶剤（Ｓ１）との混合溶媒（Ｓ）中で３０〜８０℃の反応温度で反応させる工程（Ｉ）を含むことを特徴とするビスフェノール化合物のジオキシアルキレンエーテル（Ｂ）の製造方法。
溶剤（Ｓ１）：該溶剤１００ｇに該ビスフェノール化合物のジオキシアルキレンエーテル（Ｂ）を１ｇ以上溶解する溶剤。 （もっと読む）

【課題】組成物の流動性に優れると共に、近年の電子部品関連材料に適する耐湿信頼性と、環境調和のためハロゲンフリーで高い難燃性を実現する熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び該組成物を用いた半導体封止材料、並びにこれらの性能を与えるポリヒドロキシ化合物、及びエポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（G；ヒドロキシル基、グリシジルオキシ基、Ｘ；直接結合、酸素原子、Ｒ；水素原子、Ｃ１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、ｊ及びｋ；１〜４の整数、ｎ；０〜５の整数、Ｒ’；ナフチルメチル基、アントニルメチル基、ｍ；１〜４の整数。）で表わされる化合物。前記化合物を含有する熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】組成物の流動性に優れると共に、高度の耐湿信頼性と、高い難燃性を有する熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び該組成物を用いた半導体封止材料を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（G；ヒドロキシル基、グリシジルオキシ基、Ｘ；直接結合、酸素原子、Ｒ；水素原子、Ｃ１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、ｊ及びｋ；１〜４の整数、ｎ；０又は１、Ｒ’；ナフチルメチル基、アントニルメチル基、ｍ；１〜４の整数。）で表わされる化合物を含有する熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】スルホニル基含有モノマー、該スルホニル基含有ポリマーの製造方法、スルホニル基含有水素化ポリマー、及び、スルホニル基含有水素化ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とする共役ジエン化合物。


式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ、水素、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、又は、置換基を有してもよいフェニル基を示す。Ｒ^１〜Ｒ^５は、同一でもよいし異なっていてもよい。Ｘは、ＣＯ_２Ｒ^６、ＣＯＮＲ^６_２、ＣＯＲ^６、ＯＣＯ_２Ｒ^６、ＮＣＯＮＲ^６_２、ＮＣＯ_２Ｒ^６、ＣＳ_２Ｒ^６、ＣＳＮＲ^６_２、ＣＳＲ^６、ＳＣＳ_２Ｒ^６、ＮＣＳＮＲ^６_２、ＮＣＳ_２Ｒ^６を示す。Ｒ^６は、置換基を示す。Ｙは、炭素数１〜１２のアルキレン基を示す。ただし、Ｙが炭素数１のメチレン基の場合はＲ^１およびＲ^２は水素原子である。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、液晶組成物に大きな屈折率異方性、広い液晶相温度範囲及び高い保存安定性をもたらし、当該液晶組成物を重合させることによりパターン解像度が高く、耐熱性が高く、さらにヘイズ・白ムラが少ない高分子膜をもたらす重合性化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を構成部材とする重合性液晶組成物を提供する。
【化１】
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【課題】フッ素化合物が有する低吸水性に加え、親水性および透明性を有する材料を得るための含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式（１）中、ａ、ｂはそれぞれ独立に０〜２の整数であり、ａ＋ｂ＝２である。ｃは０以上の整数である。ｄとｅはそれぞれ独立に０〜２の整数であり、１≦ｄ＋ｅ≦４である。）で表される含フッ素重合性化合物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタのアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる１０−（置換カルボニルオキシ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物の製造法及び、該（メタ）アクリレート化合物並びに該（メタ）アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物をアシル化することよりなる１０−アシルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物の製造法及び該（メタ）アクリレート化合物並びに該（メタ）アクリレート化合物を含む重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】工業的に適しており、着色を抑えた無色透明な（ポリ）チオール化合物を安定的に得ることができる光学材料用（ポリ）チオール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学材料用（ポリ）チオール化合物の製造方法は、有機(ポリ)ハロゲン化合物または（ポリ）アルコール化合物とチオ尿素とを反応させてイソチウロニウム塩を生成し、得られたイソチウロニウム塩を加水分解して（ポリ）チオール化合物を製造する方法であり、前記チオ尿素中のカルシウムの含有量が、１．０重量％以下である。 （もっと読む）