【課題】解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なくパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物に用いられるヒドロキシスチレン誘導体を提供する。
【解決手段】オキシアルキレン基で置換されていてもよいアントラセン基を含有する特定のヒドロキシスチレン誘導体。 （もっと読む）

【課題】重合性官能基を有する新規重合性単量体と、それを熱重合等で得られる塗布型の有機デバイス用材料、特に正孔注入輸送層を均一に形成できる正孔注入輸送材料として好適な重合体を提供する。
【解決手段】Ｚが下記式（２）で表わされる基であり、重合性官能基を含む基が、Ｌ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｐ及びＱの少なくとも１つに結合する下記式（１）で表わされる重合性単量体。
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【課題】リソグラフィ工程において、解像度に優れ、ＤＯＦが広く、ＬＥＲが小さく、さらには感度が高く優れたパターン形状を形成できるレジスト組成物を調製するのに適した、レジスト溶剤に溶解性の高い光酸発生剤を提供する。
【解決手段】ベース樹脂、光酸発生剤及び溶剤を少なくとも含有してなるレジスト組成物において、光酸発生剤が、下記一般式（４）で表される含フッ素スルホン酸塩であるレジスト組成物。


（式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表す。ｎは１〜６の整数を表す。Ｒ^１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、オキソアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。また、Ｒ^１に含まれる炭素上の水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。Ｒ^２は、Ｒ^ＡＯ、Ｒ^ＢＲ^ＣＮのいずれかを表す。Ａは、二価の基を表す。） （もっと読む）

【課題】 バイオマス資源を用いて工業的に有用なポリエステル及びその製造方法を提供する。また、該ポリエステルの構成単位となるモノマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 カシューナッツ殻油由来のカルダノールを用いて、該カルダノールの脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素二重結合を過酸化物で酸化する工程を含む、下記一般式（１）で表される化合物の製造方法、及び当該化合物からの構成成分を繰り返し単位として有するポリエステルの製造方法。


（一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、又はヒドロキシアルキル基を表す。Ｒ^２は水素原子、アルキル基、又はヒドロキシアルキル基を表す。Ｒ^ａ〜Ｒ^ｄはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アシルアミノ基、スルホ基、スルホニル基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物が望まれる。
【解決手段】熱可塑性ポリマー、式（１）


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１８のアラルキル基を表す。Ｒ^３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^４は水素原子又はメチル基を表す。）
で表される化合物、及び、トレハロースを含有する熱可塑性ポリマー組成物、並びに、上記式（１）で表される化合物とトレハロースとを含有する安定剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 側鎖にスルホン酸オニウム塩を組み込まれアニオンが樹脂側に固定されたレジスト樹脂であって、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解度の高い樹脂を提供する。
【解決手段】下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有するスルホン酸塩樹脂。


（式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子、ｎは１〜１０の整数。Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜３のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^ＡＯ、Ｒ^ＢＲ^ＣＮのいずれかを表す。Ｍ^＋は、一価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物を製造するのに好適な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物。［式（１）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。式（２）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは酸素原子であり；ｍは１であり；Ｙ’は、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜（２０−ｍ）の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である］。
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【課題】波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、適切なアルカリ加水分解性を有すると共に、構造の選択により撥水性、滑水性、表面偏在性など各種性能の調整が可能で、例えばフォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成する高分子化合物を提供する。
【解決手段】特定の含フッ素エステル型単量体及び該含フッ素エステル型単量体繰り返し単位を有する高分子化合物、及び該高分子化合物が可視光から波長２００ｎｍ以下までの幅広い波長領域において優れた透明性を有し、また適切なアルカリ加水分解性を有することから、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用で、更に、フォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成するポリマーとして特に有用となる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるフッ素アルコール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基を構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ａａは、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の（ｋ¹＋１）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基である。ｋ¹は１〜３の整数である。）
【効果】本発明のフッ素アルコール化合物は、波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】未反応のヒドロキシプロピオン酸が少なく、また副反応で生成する重質化した生成物等の副生物の発生量を減らしつつ、アクリル酸を長時間にわたり安定して製造することができるアクリル酸の製造方法を提供することにある。また、不純物の少ないアクリル酸を原料として性能および安全面に優れる吸水性樹脂の製造方法を提供する
【解決手段】ポリヒドロキシプロピオン酸および／またはその塩を含む組成物からアクリル酸を製造する方法であって、（ａ）前記組成物中のポリヒドロキシプロピオン酸および／またはその塩を加水分解してヒドロキシプロピオン酸および／またはその塩に転化する工程、（ｂ）前記工程で生成したヒドロキシプロピオン酸および／またはその塩を触媒に接触させて脱水反応を施しアクリル酸を生成する工程、（ｃ）前記工程で生成したアクリル酸を含む反応生成物を冷却して、アクリル酸を含む組成物を得る工程を含む製法により達成される。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）を有するパターンを形成することができる化合物及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物及びこの化合物に由来する構造単位を有する重合体。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよく、Ｒ^２およびＲ^３は互いに結合してこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】液晶配向膜など多様な光反応に応用可能であり、多様な有機化合物または重合体の前駆体として好適に使用可能である、光反応基を有する新規な環状オレフィン化合物および光反応性重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式１で表される光反応基を有する環状オレフィン化合物：
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【課題】フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位となり得る新規なアクリル酸エステル誘導体を提供すること、該アクリル酸エステル誘導体を含有する原料を重合することにより得られる高分子化合物を提供すること、および該高分子化合物を含有する、従来よりもＬＷＲが改善されて高解像度のレジストパターンが形成されたフォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式で示されるカルバモイルオキシアダマンタン誘導体、該カルバモイルオキシアダマンタン誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物、光酸発生剤および溶剤を含有するフォトレジスト組成物。


（式中、Ｒは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】 特殊な材料の使用や特殊な合成方法をとることなく、簡便、且つ比較的安価な方法でウレタン化に用いるのに適した、優れた溶剤溶解性、ウレタン化された樹脂の実使用範囲のガラス転移温度(Tg)を有する高屈折率材料を提供すること。
【解決手段】 ビスフェノール類のアルキレンオキサイド付加物を含有するグリコール成分と、ナフタレンジカルボン酸誘導体及びフタル酸誘導体とを必須成分とする芳香族カルボン酸成分との重縮合物を含有することを特徴とする光学用ポリエステルエーテルポリオール組成物。 （もっと読む）

【課題】フルオロアルキルビニルエーテル、特に一般式 C_nF_2n+1(CH₂CF₂)_a(CF₂CF₂)_b(CH₂CH₂)_cOCH=CH₂で表わされるフルオロアルキルビニルエーテルの貯蔵時や輸送工程において重合抑制が有効に行われる、それの重合抑制方法を提供する。
【解決手段】フルオロアルキルビニルエーテルに、それに可溶性の脂肪族モノアミンまたは脂肪族ジアミンを0.001〜0.1重量％の割合で添加してフルオロアルキルビニルエーテルの重合を抑制する。脂肪族モノアミンとしては、ヒドロキシアルキルアミン、トリアルキルアミンが、また脂肪族ジアミンとしては、アルキレンジアミンが好んで用いられる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）（式中、Ｒ₁はアダマンタン骨格を有する炭素数２０以下の脂肪族環式基（但し、カルボニル基を有する基を除く。）であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基を表す。）で示される化合物。
［化１］
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【課題】洗浄時に優れた耐ゲル化能およびカルシウムイオン捕捉能を発現する重合体の製造に用いることができる、スルホン酸基含有単量体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で表されるポリエチレングリコール鎖含有単量体とエピハロヒドリンとアルカリ化合物とを反応させる工程（工程Ａ）と、上記の工程で得られた反応物と亜硫酸化合物を反応させる工程（工程Ｂ）、を含むスルホン酸基含有単量体の製造方法で得られたスルホン酸基含有単量体である。
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【課題】Ｓｂ等の毒性の高い元素を含まず、かつ熱あるいは光などの活性エネルギー線に対して、高感度なスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるフッ素化アルキルリン酸スルホニウム塩。
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立にアルキル基又はアラルキル基を表し、Ｒ^３は水素、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基等を表し、ｍは、Ｒ^３の個数を表し、０〜５の整数である。Ｒｆは水素の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を表し、１〜５の整数である。Ｒｆはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。〕 （もっと読む）

【課題】原料として入手が容易なオクタフルオロシクロペンテンからの合成が可能であり、且つフッ素含有量が多い新規な含フッ素化合物、並びに該含フッ素化合物をラジカル重合して得られ、透明性が高く、汎用溶媒に溶解できる新規な重合体の製造方法並びに該含フッ素化合物の重合体からなる光学素子、機能性薄膜及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】オクタフルオロシクロペンテンとアリルアルコール又はその誘導体を反応させて合成される式（１）で表される構造を有する含フッ素化合物、及び式（１）で表される構造を有する含フッ素化合物のクライゼン転位反応によって得られる式（２）で表される含フッ素化合物、並びにそれらの含フッ素化合物をラジカル重合して製造される重合体。 （もっと読む）

【課題】積層構造体、電子デバイス用材料、特に正孔輸送及び／又は正孔注入材料として同じ電圧でより高い電流密度を確保できる新規な芳香族化合物、その製造方法、正孔注入及び／又は正孔輸送材料並びに電子デバイスを提供する。
【解決手段】基体と、カチオン中心を有する基の少なくとも１種を側鎖に有する芳香族化合物を含む正孔注入及び／又は正孔輸送層とを有する積層構造体；該積層構造体を有する電子デバイス；カチオン中心を有する基の少なくとも１種を炭化水素側鎖に有する芳香族化合物；脱離基を炭化水素側鎖に有する芳香族化合物；脱離基を炭化水素側鎖に有する上記芳香族化合物を、特定の窒素化合物、リン化合物もしくは硫黄化合物又はそれら化合物の２種以上の組み合わせと反応させることにより、該芳香族化合物をそのオニウム塩に変換することを含む、カチオン中心を有する基の少なくとも１種を炭化水素側鎖に有する上記芳香族化合物の製造方法。 （もっと読む）