【課題】 触媒を完全に、かつ穏やかに除去し、除去された触媒を全て除去工程から反応器に戻すことの可能な、ニトロ芳香族化合物の水素添加により芳香族アミンを製造する方法を提供する。
【解決手段】 ニトロ芳香族化合物の接触水素添加を行い、次いで、少なくとも1種類の芳香族アミンと水とを含む反応混合物から触媒を除去するアミンの製造方法であって、メンブラン濾過により連続的に触媒の除去を行い、このメンブラン濾過は、懸濁液側の圧力が５〜５０バールであり、懸濁液側と透過液側の圧力差が０．３バール以上であり、かつ懸濁液側の流動速度が１〜６ｍ／秒で行われることを特徴とするアミンの製造方法が得られた。 （もっと読む）

本発明は、光学活性金属−配位子錯体触媒の存在下に、プロキラル又はキラルオレフィンを、一酸化炭素及び水素と、反応させて、光学活性アルデヒド又は光学活性アルデヒドから誘導された生成物を製造する不斉ヒドロホルミル化方法に関する。 （もっと読む）

本発明の対象は、ａ）場合により前処理された担体をレニウム化合物の溶液で処理し、ｂ）乾燥させ、還元雰囲気中で８０〜６００℃で熱処理し、ｃ）白金化合物の溶液に含浸させ、再び乾燥させることによる方法によって得られる、担体上に、触媒の全質量に対してレニウム０．１〜２０質量％及び白金０．０５〜１０質量％を含有する触媒並びにこの触媒上でカルボニル化合物を接触水素化することによるアルコールの製造方法である。 （もっと読む）

水素の選択酸化のための触媒は、菫青石のような不活性な内核、及びアルミン酸リチウム担体で構成される外層で構成される。上記担体は、その上に白金族金属及びプロモーター金属、例えば、それぞれ白金及びスズを分散させて成る。この触媒は脱水素化プロセスにおける水素の選択酸化に特に効果的である。 （もっと読む）

式（Ｉ）の新規ビス−キレート化組成物［式（Ｉ）において、Ｍは第ＶＢ族元素であり；Ｒ¹及びＲ²は水素及び一価ヒドロカルビル基から選ばれ；又はＲ¹及びＲ²は一緒に結合してジラジカルを形成し；Ｒ¹又はＲ²の一方が水素又は一価ヒドロカルビル基であり、Ｒ¹及びＲ²の他方がＡｒ中の元素に結合したヒドロカルビル基であり、Ａｒは１，２−アリーレンから選ばれ；Ｑは１，２−アリーレン、２，２’−ビスアリーレン及びアルキルジラジカルから選ばれ；Ｗは式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）から選ばれ；Ｍは上記の通りであり；各Ｒは水素及び一価ヒドロカルビル基から選ばれ；Ｘはアルキル及びアリールジラジカルから選ばれ；Ａｒ¹及びＡｒ²は１，２−アリーレンから選ばれ；Ａｒ³及びＡｒ⁴は一価アリール基から選ばれ；式（ＩＶ）中のｎは０又は１である］を開示し、この組成物はカルボニル化用触媒の配位子として有用である。
【化１】


【化２】


【化３】


【化４】


【化５】

（もっと読む）

酸化的脱水素化（ＯＤＨ）によるアルカンからのオレフィンの生産のために有用な触媒及び方法が開示されている。そのＯＤＨ触媒は、ランタニド金属、その酸化物及びそれらの組合せからなる群から選択された主要成分金属を含む。その主要成分金属は、より好ましくは、サマリウム、セリウム、プラセオジム、テルビウム、それらの対応する酸化物及びそれらの組合せからなる群から選択される。主要成分金属添加量は、好ましくは、約０．５から約２０重量パーセント、そして、より好ましくは、約２から約１０重量パーセントである。選択的に、そのＯＤＨ触媒は微量レベルで存在するＶＩＩＩ族プロモータ金属をさらに有する。ＶＩＩＩ族プロモータ金属は、好ましくは、白金、パラジウム又はそれらの組合せであり、好ましくは、約０．００５から約０．１重量パーセントのプロモータ金属添加量で存在する。選択的に、そのＯＤＨ触媒は耐熱性支持体に保持される。 （もっと読む）

本発明は式（Ｉ）の、２，３−ジアミノプロピオン酸誘導体のエナンチオマー体を式（ＩＩ）の化合物から不斉水素化により製造するための方法に関する。
【化１】

（もっと読む）

本発明は、水素化可能な前躯体を、水素-含有気体と、及び水素化触媒であって、二酸化チタンをルチル結晶質相において含む担体上に1種又はそれよりも多い種類の活性な水素化触媒成分を備える水素化触媒とに、接触させ、触媒的に水素化し、1,4-ブタンジオール及び、随意に、ガンマ-ブチロラクトン及び/又はテトラヒドロフランを生産するための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、アルケンとカルボン酸と分子状酸素含有ガスとを反応帯域にて触媒の存在下に高められた反応温度Ｔで反応させて、反応帯域からカルボン酸アルケニルと酸素とからなる出口流を形成させることによるカルボン酸アルケニルの製造方法を提供し、この方法においては触媒を分圧Ｐにて必要に応じカルボン酸の存在下にアルケンと接触させ、出口流は２容量％未満の酸素からなり、アルケンの分圧を減少させおよび／または反応温度を低下させてベンゼンの形成を抑制しおよび／または触媒の阻止を抑制することを特徴とする。 （もっと読む）

式Ｉ（式中、Ｒは、例えばメチルまたはフェニルを表す）で示されるフェロセンジホスフィンにおいて、対応する金属錯体の触媒特性は、多くの場合、ＣＰ環の一方または両方の構造変化により明確に影響を受け、選択した基材に関する触媒反応が最適化され顕著に改善され得る。この型のジホスフィン配位子は、新規な製造法を用いることにより利用し易くなる。
（もっと読む）

（ａ）フェノール系化合物を（ｂ）カルボン酸アリル又は炭酸アリルと、（ｃ）少なくとも１つの、強く結合された、非置換性の安定な配位子で錯化された遷移金属又は希土類金属触媒の存在下において、反応させることによってアリルエーテルを形成せしめることを含むアリルエーテルの製造方法。遷移金属又は希土類金属触媒錯体の配位子は（ｉ）オレフィン含有配位子若しくは芳香族含有配位子又は（ｉｉ）ポリマー配位子若しくはヘテロ原子含有多座配位子であることができる。 （もっと読む）

【課題】複雑な代謝経路や生体内物質の分布の解明あるいは生体内の微量物質の定量を可能とする新規な酸素同位体標識有機カルボニル化合物およびこのものの効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１個の酸素原子が酸素同位体で標識された有機カルボニル化合物。酸素同位体が^１７Oまたは^１８Oである有機カルボニル化合物。
下記一般式（１）で示される酸素同位体標識有機カルボニル化合物
【化１】


（式中、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子又は有機基を表し、その中少なくとも一つは有機基である） （もっと読む）

微孔質シリカゲルの合成および合成ガスからのＣ_２酸素化物合成のための触媒の製造に対するその適用につき開示する。ゾルゲルプロセスにより生成されかつ塩基性溶液中で加熱され、次いで乾燥および／または焼成されるシリカゲルの小粒子は、かくして触媒支持体として微孔質シリカを形成する。塩基性溶液はアルカリ金属およびアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、蟻酸塩および酢酸塩の１種または混合溶液とすることができる。得られる微孔質シリカにはロジウム塩および他の遷移元素塩（プロモータ先駆体として）の溶液を含浸させ、次いで乾燥および／または焼成し、かくして微孔質シリカ支持されたロジウム系触媒を形成する。ロジウム塩はＲｈＣｌ_３もしくはＲｈ（ＮＯ_３）_３とすることができる。プロモータ先駆体は水可溶解の遷移金属塩、稀土類金属塩、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩とすることができる。得られる触媒は、緩和なプロセス条件下におけるＣＯの水素化によるＣ_２−酸素化物の合成にて高い活性および選択率を示す。 （もっと読む）

【課題】オレフィンと硫化水素からメルカプタンを製造する方法
【解決手段】水素と、ヘテロポリ酸のような強酸と少なくとも一種の周期律表の第VIII族金属とから成る触媒組成物との存在下で反応を実行する。 （もっと読む）

【課題】オレフィンからα，β−不飽和アルデヒドおよびα，β−不飽和カルボン酸を高選択率かつ高収率で得ることができるパラジウム含有触媒、その製造方法およびそれを用いたα，β−不飽和アルデヒドおよびα，β−不飽和カルボン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】パラジウム金属１．０モルに対してイリジウム金属０．０１〜０．４モルを含有するパラジウム含有触媒とする。 （もっと読む）

【課題】チオエーテルと硫化水素からメルカプタンを製造する方法
【解決手段】水素と、ヘテロポリ酸のような強酸と周期律表の第VIII族金属とから成る触媒組成物との存在下で反応を行う。 （もっと読む）

ＣＯの水素化によるＣ_２−酸化物の合成のための触媒につき開示する。この触媒はＲｈ−Ｍｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−Ｍ_２／ＳｉＯ_２、特にＭｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−およびＭ_２並びに添加剤で構成される。Ｍ_１はＬｉもしくはＮａとすることができる一方Ｍ_２はＲｕもしくはＩｒとすることができる。Ｒｈの含有量は０．１〜３重量％であり、Ｍｎ／Ｒｈの重量比は０．５〜１２であり、Ｆｅ／Ｒｈの重量比は０．０１〜０．５であり、Ｍ_１／Ｒｈの重量比は０．０１〜１であり、Ｍ_２／Ｒｈの重量比は０．１〜１．０である。触媒は、各成分の対応化合物の溶液を所望量にてＳｉＯ_２のキャリヤに含浸させて作成され、次いで２８３〜４７３Ｋにて乾燥する。使用に先立ち、触媒は水素または水素含有ガスにより５７３〜６７３Ｋにて少なくとも１時間にわたり、４７３〜６７３Ｋにおける２〜２０時間の乾燥の後もしくは焼成の後に還元される。これら触媒はＣＯおよびＨ_２をエタノール、アセトアルデヒド、酢酸および他のＣ_２−酸素化物まで高変換率および高選択率にて緩和な条件下に変換することができる。 （もっと読む）

第二級アルコール、第三級アルコール、ケトン、またはその混合物から選択された化合物と、一酸化炭素および水素を、（ｉ）ＶＩＩＩ族金属源と、（ｉｉ）一般式（Ｉ）Ｒ^１−Ｒ^２Ｍ^１−Ｒ−Ｍ^２Ｒ^３Ｒ^４（式中、Ｍ^１およびＭ^２は独立にＰ、Ａｓ、またはＳｂであり、Ｒ^１およびＲ^２は一緒になって２個の遊離価がＭ^１に結合する二価の置換または非置換の環状基を表し、Ｒ^３およびＲ^４は独立に置換または非置換のヒドロカルビル基を表し、または一緒になって２個の遊離価がＭ^２に結合する二価または置換の環状基を表し、Ｒは二価の脂肪族架橋基を表す）を有する二座配位子と、（ｉｉｉ）ｐＫ_ａが３以下である酸（酸はＶＩＩＩ族金属よりも化学量論的に過剰である）とをベースとする触媒の存在下で反応させることを含む、第二級アルコールおよび／または第三級アルコールおよび／またはケトンから第一級アルコールを製造する方法。 （もっと読む）

アルカノールおよび触媒系の存在下でビニルエステルを一酸化炭素と反応させることを含む、ビニルエステルのアルコキシカルボニル化方法。前記方法で使用される触媒系は、ａ）ＶＩＩＩ Ｂ属金属またはその化合物、およびｂ）一般式（Ｉ）の二座配位子［前記式中、Ｒは共有結合性架橋基であり、Ｒ^１は、それが結合しているＱ^２と共に、置換されていてもよい２−Ｑ^２−トリシクロ［３．３．１．１｛３．７｝］デシル基またはその誘導体（２−ＰＡ）を形成し、Ｒ２およびＲ３は、独立して、２０個まで原子を有する一価の基を表すか、あるいは一緒になって２０個まで原子を有する二価の基を形成し、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、リン、ヒ素、またはアンチモンを表す］を組み合わせることによって得ることができる。該方法は、式（ＩＩ）ＣＨ_２（ＯＨ）ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）Ｒ^２８の３−ヒドロキシプロパン酸エステルまたは酸を製造するために実施される。該方法は、式（ＩＩＩ）の乳酸エステルまたは酸を製造するためにも実施できる。

（もっと読む）

本発明は、炭疸病治療用の有力な致死因子（ＬＦ）阻害剤を調製するために使用する光学活性α−アミノ酸基質を調製するためのプロセスに関する。本発明はさらに、炭疸病治療用の有力なＬＦ阻害剤の合成のためのプロセスに関する。具体的に、本発明は、テトラ置換エン−スルホンアミド酸又はエステルの、高収率かつ鏡像異性体選択性の高い新規の不斉水素化反応に関する。 （もっと読む）