【課題】レゾルシン水混合物の着色を抑制すること。
【解決手段】レゾルシンと、該レゾルシン１００重量部に対して１０〜１００重量部の水とを含むレゾルシン水混合物であり、さらに酸を含むことを特徴とするレゾルシン水混合物、及び該混合物を、下記（Ａ）〜（Ｃ）からなる群から選ばれる少なくとも１つの条件で保存することを特徴とするレゾルシン水混合物の保存方法。
（Ａ）酸素濃度３％以下の不活性ガス雰囲気下
（Ｂ）１０〜６０℃の温度条件下
（Ｃ）ステンレス製、ハステロイ製またはガラス製の容器中 （もっと読む）

【課題】環境負荷が低減され工業的な実施に好適であり、且つ高純度で色相が良好なフルオレン誘導体の製造法を提供する。
【解決手段】酸触媒存在下、フルオレノンと式（Ｉ）で表される化合物とを反応させて、式（ＩＩ）で表されるフルオレン誘導体を製造する方法において、反応終了後、フルオレン誘導体を含む混合液にアルカリを添加した後、添加したアルカリおよびアルカリの反応物を除去することなく、濃縮により未反応の式（Ｉ）で表される化合物を分離する事を特徴とするフルオレン誘導体の製造法。


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【課題】 性能のロバスト性が向上したポジ型フォトレジストを提供すること。
【解決手段】 フォトレジスト組成物は、少なくとも１つの完全保護カリックス［４］レゾルシンアレンと少なくとも１つの非保護カリックス［４］レゾルシンアレンとのブレンドであって、完全保護カリックス［４］レゾルシンアレンが酸不安定性基で保護されたフェノール基を有する、ブレンドと、光酸発生剤と、溶媒とを含み、ブレンド及び光酸発生剤は溶媒に可溶である。フォトレジスト組成物を用いて基板上にレジスト像を生成するためのプロセスもまた開示される。 （もっと読む）

【課題】ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、変性アクリル樹脂等の原料として有用な高純度１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンおよびその製造法を提供する。
【解決手段】ヘテロポリ酸触媒の存在下、シクロドデカノンと２−メチルフェノールを反応させ、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンを製造する方法において、４．０×１０^３Ｐa以下の減圧還流下、３０〜９０℃の温度範囲で水のみを反応系外へ抜き出して反応させることにより副生成物三種が０．５重量％以下に低減された高純度１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンが得られる。 （もっと読む）

【課題】電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、解像力及びパターンのラインエッジラフネスに優れたネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造のカリックスアレン誘導体（Ａ）、活性エネルギー線を照射することで酸を発生する酸発生剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含有し、前記カリックスアレン誘導体（Ａ）は、構造式が同じで立体配座が同じ化合物の純度が８０重量％以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】液相乃至臨界相にてモノクロルベンゼンと水との反応によりフェノールを得るフェノールの製造方法であって、多量の副生物の発生を伴うことなく、高収率下にフェノールを得る方法を提供する。
【解決手段】液相乃至臨界相にてモノクロルベンゼンと水との反応によりフェノールを得るフェノールの製造方法であって、触媒としてゼオライトＨ−ＺＳＭ−５を用いるフェノールの製造方法。Ｈ−ＺＳＭ−５はＳｉ／Ａｌモル比が２５以下であることが好ましい。該モル比が過大であると触媒の活性が不十分な場合がある。なお、Ｈ−ＺＳＭ−５の調製の観点から、Ｓｉ／Ａｌモル比は１０以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ヘキサフルオロアセトンとフェノールをフッ化水素を用いる製造方法において、簡便な精製方法を適用しながらも収率を向上させ、かつ、環境への付加を減らすことのできるビスフェノールＡＦの製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化水素の存在下、ヘキサフルオロアセトンとフェノールを反応させて２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを製造する方法であって、反応開始時においてフェノール１モルに対しヘキサフルオロアセトン０．５５〜２倍モルかつフッ化水素が８〜２００倍モルとする２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】困難な操作を伴わないナフタレン誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物（Ｉ）を、触媒および水素の存在下で還元することにより、下記一般式（II）で表わされる化合物（II）を製造する。


（Ｒ₇およびＲ₈のうち少なくとも一つは−Ｑ^１−ＣＨＯを表し、Ｒ₇およびＲ₈の残りとＲ_１〜Ｒ_６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基、−Ｑ^２−ＯＨ、または−Ｑ^３−ＯＲ’を表わす。Ｒ_７’、Ｒ_８’は、Ｒ_７、Ｒ_８とそれぞれ同じである。ただし、Ｒ_７が−Ｑ^１−ＣＨＯであるときＲ_７’は−Ｑ^１−ＣＨ_２ＯＨを表し、Ｒ_８が−Ｑ^１−ＣＨＯであるときＲ_８’は−Ｑ^１−ＣＨ_２ＯＨを表す。Ｑ^１〜Ｑ^３はそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表わし、Ｒ’は炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表わす。） （もっと読む）

ポリシクロヘキシルベンゼンのトランスアルキル化方法において、少なくとも一種のポリシクロヘキシルベンゼンを含む供給原料がトランスアルキル化条件下で10を越えるシリカ/アルミナモル比を有するゼオライトUSYを含む触媒を用いてベンゼンと接触させられて前記ポリシクロヘキシルベンゼンの少なくとも一部をシクロヘキシルベンゼンに変換する。 （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、新規なカリックスアレーン誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−１）で示されるカリックスアレーン誘導体。
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【課題】 新規の薬剤を提供すること。
【解決手段】 本発明の主題は、一般式（Ｉ）の化合物の薬剤としての使用にある。：


｛式中、Ｒ₅は−[Ａ]−ＣＨ₃、−[Ａ]−Ｃ(ＯＨ)ＺＺ’又は−[Ａ]−Ｃ(Ｏ)Ｚ”基（ここで、−[Ａ]−はアルキレン、アルケニレン若しくはアルキニレン基又は単結合を表わし、Ｚ、Ｚ’及びＺ”は水素原子又は随意に置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル若しくはアリール基を表わす）を表わし、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は明細書に規定した通りである｝ （もっと読む）

【課題】本発明は、実用的で工業的に有利なＨＨＴＰの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法は、カテコールを硫酸の存在下で電解酸化させることにより、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレンを得る方法である。 （もっと読む）

【課題】 従来のエポキシ樹脂用硬化剤より、硬化性が向上し、得られた樹脂のガラス転移温度が高い硬化剤、および硬化剤に適したジヒドロキシナフタレン系重合体を提供し、この硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供すること。
【解決手段】 下記式（１）のジヒドロキシナフタレン系重合体（ｎ：１〜１０、ｍ、ｍ´：０〜４、ｍ＋ｍ´≧１）を提供し、それからなるエポキシ樹脂用硬化剤、この硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供する。また、式（１）の重合体を、式（２）のジヒドロキシナフタレン類と、式（３）のビフェニル化合物と、式（４）の芳香族化合物を縮合反応させて得る製造方法も提供する。
【化１】
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【課題】水素化ホウ素化合物を用いることなく、カルボン酸エステル化合物をアルコール化合物に還元する新規な製造方法を提供する。
【解決手段】イミダゾリウム塩（Ａ）、ルテニウム化合物（Ｂ）及び塩基（Ｃ）を反応させてルテニウム錯体を得る第１工程、及び
第１工程で得られたルテニウム錯体の存在下、カルボン酸エステル化合物を水素で還元する第２工程を含むことを特徴とするアルコール化合物の製造方法。
好ましいイミダゾリウム塩（Ａ）は、分子内にアミノ基とイミダゾール環とを有し、該アミノ基と該イミダゾール基とが連結基を介して結合している部分構造を含む。 （もっと読む）

【課題】包接化合物等としての利用が期待でき、官能基の導入による機能化が可能なクラスター化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物（Ａ）と一般式（２）で表される化合物（Ｂ）を反応させて得られる芳香族化合物と、金属化合物と、を接触させて得られるクラスター化合物である。


（一般式（１）中、Ｘは、炭素数１〜１０の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数２〜１０の置換若しくは非置換のアルケニル基、又はアルキニル基、炭素数７〜１０の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数１〜１０の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、ｍは、０又は１を示す。）（一般式（２）中、Ｒは、炭素数１〜８の置換又は非置換のアルキレン基を示す。） （もっと読む）

【課題】高純度で、しかも工業的に、簡易に、特に溶媒回収が容易であり、高収率で得ら
れる９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの製造方法を提供する。
【解決手段】９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類の脂肪族ケトン付加
物を、該脂肪族ケトン溶媒又は該脂肪族ケトンと水の混合溶媒の存在下に、前記付加物が
分解する温度以上に昇温して前記付加物を分解及び溶解した後、冷却し、析出した脂肪族
ケトン付加物を分離し、精製脂肪族ケトン付加物を得る。その後、精製脂肪族ケトン付加物より該脂肪族ケトンを乾燥除去して９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類を製造する。 （もっと読む）

【課題】液晶材料製造中間体である１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１２）で表される１，７，８−トリフルオロナフタレン誘導体を、脱保護反応を行うことにより、１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体を製造する。


（Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、置換されていても良いＣ１〜６のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等を、Ｒ^８は、水酸基の保護基を表す。） （もっと読む）

【課題】流動層反応器を用いて気相発熱反応を実施する方法において、除熱管を長期間使用している場合に生ずる除熱管及び反応器の経年劣化を抑制する方法を提供する。
【解決手段】複数の除熱管を内部に有する流動層反応器に反応原料を供給して気相発熱反応させる気相反応方法であって、
前記複数の除熱管に、前記流動層反応器の中心に向けた方向で冷媒を導入して前記流動層反応器内を除熱した後、前記冷媒を前記流動層反応器から放射状に導出することを含む方法。 （もっと読む）

【課題】高度に精製されたジヒドロキシベンゼンを効率的に得る精製方法を提供する。
【解決手段】第一抽出：粗ジヒドロキシベンゼン１に水２を添加した後、抽出溶剤４に接触させて抽出、ジヒドロキシベンゼン、ヒドロキシアセトフェノン、水を含む第一区分５と、イソプロペニルフェノール、抽出溶剤を含む第二区分６とに分離蒸留：第一区分を蒸留、水を含む第三区分７と、ジヒドロキシベンゼン及びヒドロキシアセトフェノンを含む第四区分８とに分離、第四区分を蒸留、精製されたジヒドロキシベンゼンである第五区分９と、ヒドロキシアセトフェノンが濃縮されたジヒドロキシベンゼンである第六区分１０とに分離第二抽出：第六区分に水１１を添加した後、抽出溶剤１３に接触させて抽出、ジヒドロキシベンゼン、水を含む第七区分１４と、ヒドロキシアセトフェノン及び抽出溶剤を含む第八区分１５とに分離回収：第七区分からジヒドロキシベンゼン１８を回収。 （もっと読む）

【課題】ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、変性アクリル樹脂等の原料として有用な環状炭化水素誘導体を腐食性が強く、専用の設備が必要となる塩化水素ガスを用いることなく、高純度かつ高収率で工業的に有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】ヘテロポリ酸触媒の存在下、環状ケトン類とフェノール類等を反応させることを特徴とする、式（３）で表される環状炭化水素誘導体の製造方法。


(式中、ｎは整数を、ｍ１、ｍ２、ｋ１、ｋ２は０又は整数を、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂはアルキル基等を、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂはアルキレン基を示す。) （もっと読む）