【課題】貯蔵安定性が良好でｉ線に対し高感度なレジストを与えるフォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法の提供。
【解決手段】光により酸を発生する成分(A)，それにより対アルカリ溶解性が増大する樹脂成分(B)を含有し，成分(A)が式：


〔m¹,m⁴,m⁶は0-5,m²,m³,m⁵は0-4,X^-は一価の多原子アニオン〕のスルホニウム塩を含むものである，化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】ブロモフルオロアルコールを、スルフィン化剤を用いてスルフィン化する際に、有機塩基を使用することによって、ヒドロキシフルオロアルカンスルフィン酸アンモニウム塩を得る。これを酸化してヒドロキシフルオロアルカンスルホン酸アンモニウム塩を得る。これを原料とし、エステル化を経てオニウム塩に交換することで、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得る。 （もっと読む）

式（Ｉ）（Ｒ^１〜Ｒ^４は特許請求の範囲に定義したとおりである）で表される新規のＯ−アルキルＳ−ヒドロキシアルキルカルボノチオエートおよびＯ−アルキルＳ−アルコキシアルキルカルボノチオエート、それらの製造ならびにフレーバーおよびフレグランスとしてのそれらの使用を提供する。また、前記物質および少なくとも１種のさらなるフレーバー原料を含むフレーバーおよびフレグランス組成物を提供する。

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本発明は、コンジュゲートである化合物による、代謝障害を処置する方法に関する。本発明のコンジュゲートは、サリチル酸、トリフルサル、ジフルニサル(diflusinal)、サルサラート、IMD 0354、イブプロフェン、ジクロフェナク、リコフェロン(licofelone)またはＨＴＢ、ならびに、１種以上の抗酸化剤からなる。
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【課題】ＰＤＥIVおよびＴＮＦ抑制剤として有用な化合物を提供する。
【解決手段】下式の化合物またはそのＮ−オキシドもしくはその薬学的に許容しうる塩。


［式中、Ｒ^１は置換されていてもよい低級アルキル基を表し；Ｒ^２は置換されていてもよいシクロアルキル基等を表し；Ｒ^３は場合により置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表し；Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は独立して窒素原子、ＣＸまたはＣＨを表し、但し、Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３の少なくとも１つはＣＨ以外であり；Ｚ^１およびＺ^２は独立して酸素原子または硫黄原子を表し；Ｚ^３は−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＺＣＨ_２−、−ＣＺ−ＣＺ−、−ＣＨ_２−ＮＨ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＸ_２−Ｏ−、−ＣＨ_２−Ｓ−等を表し；Ｚは酸素原子または硫黄原子を表し；Ｘはハロゲン原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び（Ｄ）酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、有機酸のアンモニウム塩の反応とその都度の遊離の有機酸への変換のための方法であって、アンモニウム塩の水溶液を、有機抽出剤と接触させ、塩分割を、前記水溶液及び前記抽出剤が液状の物質状態で存在する温度と圧力で行い、その際、ストリッピング媒体もしくはエントレイナーガスが導入されて、ＮＨ₃が前記水溶液から除去され、かつ形成された有機の遊離酸の少なくとも一部が前記の有機抽出剤中に移行する前記方法に関する。さらに、本願に記載の発明は、有機酸、好ましくはカルボン酸、スルホン酸もしくはホスホン酸、特にα−ヒドロキシカルボン酸もしくはβ−ヒドロキシカルボン酸を、そのアンモニウム塩から、アンモニアの遊離及び除去を行い、そして同時に遊離される酸を、好適な抽出剤を用いて水相から抽出することによって遊離させるための改善された方法を提供する。前記方法は、反応的抽出に相当する。有機酸をそのアンモニウム塩水溶液から反応的抽出することは、ストリッピング媒体もしくはエントレイナーガス、例えば窒素、空気、蒸気又は不活性ガス、例えばアルゴンなどの使用によって明らかに改善することができる。遊離されるアンモニアは、連続的なガス流によって水溶液から除去され、再び製造方法に供給することができる。遊離酸は、蒸留、精留、結晶化、逆抽出、クロマトグラフィー、吸着などの方法又は膜法によって抽出剤から得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、圧電特性に優れかつ耐熱性に優れた有機圧電体、有機圧電材料および超音波振動子ならびに測定の安定性に優れる超音波探触子を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、または下記一般式（１）で表される化合物の残基をＲ１若しくはＲ２を介して側鎖に有する重合体であることを特徴とする有機圧電体。一般式（１） Ｒ１−Ａ１−（Ｌ１−Ａ１）ｎ−Ｒ２
（式中、Ａ１は、−ＮＨＣＳＮＨ−、−ＮＨＣＳＯ−または−ＮＨＣＳ−を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に無置換の芳香族基、アルキル基若しくはアルコキシ基で置換された芳香族基、またはアルキル基若しくはアルコキシ基で置換されたシクロアルキル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表し、ｎは０〜１００の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】デンドリマー化合物に強誘電性を付加することにより、有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化１】


（式中、Ａｒは芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｑは酸素原子または硫黄原子を表す。Ｌは連結基または単結合を表し、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子または置換基を表す。Ｗは置換基を表す。ｍは２以上の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ディスコティック液晶に強誘電性を付加することにより、有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化１】


（式中、Ａｒはベンゼン、ベンゾキノン、アントラキノン、トリフェニレン、トルクセン、トリシクロキナゾリン、ジベンゾピレンのいずれかを示す。Ｑ_１及びＱ_２は酸素原子または硫黄原子を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は水素原子または置換基を表す。Ｗ_１及びＷ_２は置換基を表す。Ｌ_１及びＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。ｎ及びｍは１以上の整数を表す。但し、ｎ及びｍの和は２〜８の整数である。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含むレジスト組成物。［式中、Ｒ^５１〜Ｒ^５３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち少なくとも１つは水素原子の一部が下記一般式（ｂ１０−１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。］
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【課題】有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料、及びそれを用いた超音波探触子を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化１】


（式中、Ｘ_１及びＸ_２は炭素原子または窒素原子を表す。Ｙ_１及びＹ_２は水素原子または置換基を表し、ｎ１及びｎ２は０〜４の整数を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は水素原子または置換基を表す。Ｑ_１及びＱ_２は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｗ_１は単結合または酸素原子を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｐは５以上の整数を表す。） （もっと読む）

化合物：
Ｒ_ｆ−Ｏ−（ＣＦ_２）_ｎ−ＣＦ＝ＣＦ_２（ＩＩ）
（式中、Ｒ_ｆは、１つ以上の酸素原子で中断されるフッ素化直鎖又は分枝鎖アルキル残基を表し、ｎは０又は１である）を、水及び有機溶媒を含む反応媒体中でＺ−アニオン（Ｚ−アニオンは、ＣＮ⁻、ＳＣＮ⁻及びＯＣＮ⁻又はこれらの組み合わせから選択される）と処理する工程による飽和部分フッ素化アルコキシカルボン酸又はその塩の調製方法。
一般式：
Ｒ_ｆ−Ｏ−（ＣＦ_２）_ｎ−ＣＦＨ−ＣＦ_２−Ｚ（Ｉ）
（式中、Ｒ_ｆは上記のように定義したものであり、ｎは０又は１であり、Ｚはニトリル（−ＣＮ）基、アジド（−Ｎ_３）基、チオシアネート（−ＳＣＮ）基又はシアネート（−ＯＣＮ）基である）の部分フッ素化エーテルの製造方法であって、前記方法が、一般式（ＩＩ）（式中、Ｚ−アニオンがＣＮ⁻、ＯＣＮ⁻、ＳＣＮ⁻又はＮ_３⁻である）のフッ素化オレフィンを処理する工程を含む、方法。ＺがＳＣＮ、ＯＣＮ及びＮ_３から選択される、上述の一般式（Ｉ）の化合物。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンであり；Ｒ^２０は塩基解離性部位を有する二価の基であり；Ｒ^３０は２価の連結基であり；Ｒ^４０は酸解離性基を有する基である。］。
［化１］
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【課題】熱カチオン重合時にフッ素イオン生成量を減ずることができ、且つ熱カチオン重合性接着剤に低温速硬化性を実現できる新規なスルホニウムボレート錯体を提供する。
【解決手段】新規なスルホニウムボレート錯体は以下の式（１）の構造で表される。


式（１）中、Ｒ_１はアラルキル基であり、Ｒ_２は低級アルキル基であり、Ｒ_３は低級アルコキシカルボニル基である。Ｘはハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。 （もっと読む）

【課題】長期間保存してもインクの吐出安定性の低下が少なく保存性に優れるインクジェットインクを与える光酸発生剤を提供する。
【解決手段】カチオン重合性化合物および光酸発生剤を含有する活性光線硬化型インクジェットインクに用いられる活性光線硬化型インクジェットインク用光酸発生剤であって、光酸発生剤が、下記の精製工程を有する製造方法により製造されたものであることを特徴とする。［精製工程：トリアリールスルホニウム塩を、６０℃以上、トリアリールスルホニウム塩の分解温度（℃）未満の温度範囲で、加熱処理する加熱工程および該加熱工程の後に行われるプロトン除去工程を有し、該加熱処理工程の加熱温度をｔ（℃）とし、加熱時間をｈ（ｈｒ）としたとき、Ｋ−５９ｈ≧８２である工程。Ｋは、加熱時間ｈをｘ軸とし、加熱温度ｔをｙ軸として加熱時間−加熱温度曲線を求めｘ＝０からｘ＝ｈまで積分した値である。］ （もっと読む）

【課題】ペンタフルオロスルファニル化合物、及びその工業的に有利な製造方法の提供。
【解決手段】〔１〕下記一般式（１−ａ）又は（１−ｂ）で表される多環系ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物、及び〔２〕特定のペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と特定の有機ホウ素化合物とを反応させる前記多環系ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製造方法。
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【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物；式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも１つは式（ｂ１−１−０）で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^２は単結合又はアルキレン基、ｐは１〜３の整数である。Ｗは炭素数２〜１０のアルキレン基である。］
［化１］
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物；式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも１つは式（ｂ１−１−０）で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^１はカルボニル基を含む２価の連結基、ｐは１〜３の整数である。Ｗは炭素数２〜１０のアルキレン基である。］
［化１］
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