【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】光酸発生剤化合物（ＰＡＧ）の新規の合成方法、新規の光酸発生剤化合物、およびそのＰＡＧ化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】ポジ型またはネガ型フォトレジスト組成物において使用するための、スルホニウム（＞Ｓ＋）成分を含む新規の光酸発生剤化合物（ＰＡＧ）。特に好ましいスルホニウムＰＡＧは、ジフルオロスルホン酸カチオン成分（例えば、Ｒ−ＣＦ２ＳＯ３−、ここで、Ｒは非水素置換基である）を含む。また、スルホニウム含有光酸発生剤を製造するための合成方法は、置換アルキルスルフィドを環化して、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルスルホニウムＰＡＧ（例えば、ＲＳ＋＜（ＣＨ２）４−６（式中、Ｒは非水素置換基である））を合成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】ｉ線に光感応性が高く重合性化合物への相溶性と配合後の貯蔵安定性に優れたスルホニウム塩及びこれを含む酸発生剤の提供。
【解決手段】下式(1)で示されるスルホニウム塩、又は下式(1)及び(2)で示される混合スルホニウム塩を含んでなる光酸発生剤。


〔式中，R¹〜R⁶、R’¹〜R’⁹はアルキル基、アルコキシ基等を表し、Ar¹〜Ar⁵はフェニル基，ナフチル基、フェニレン基又はナフチレン基を表し、m¹〜m⁶、n¹〜n⁹は基の個数を表し、Ｘ^-は一価の多原子アニオンを表す。〕 （もっと読む）

【構成】
一般式（ＩＡ−１−１）
【化１】


で示される化合物、その塩、その溶媒和物、またはそれらのカルボキシ基がエステル化された化合物。
【効果】Ｓ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−６、好ましくはＥＤＧ−１およびＥＤＧ−６）結合能を有する化合物、例えば一般式（ＩＡ−１−１）で示される本発明化合物、その塩、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグはＳ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−６、好ましくはＥＤＧ−１およびＥＤＧ−６）結合能を有し、移植に対する拒絶反応、移植片対宿主病、自己免疫性疾患、アレルギー性疾患等の予防および／または治療に有用である。 （もっと読む）

【課題】高い解像度、良好な形状及び良好なラインエッジラフネスを示すレジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−ＢＢ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれＦ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は２価の飽和炭化水素基、該基中のメチレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ｙ^１は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、かつこれらの基中のメチレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等を表すかＡ^１とＡ^２とが一緒になって置換基を有していてもよい環を形成し；Ａｒ^１は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；ｍ_１及びｍ_２は０〜２；ｍ_３は１〜３；ｍ_４は１〜３の整数、ただしｍ_１＋ｍ_２＋ｍ_３＝３を表す。］ （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有し、レンズ等の光学部材用の樹脂を形成しうる単量体を提供する。
【解決手段】−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｓ−で表される構造を有する硫黄含有化合物。その好ましい例は、一般式（１）：


（式中、Ａは炭素数１〜８の２価の有機基、Ｂは硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいても良い炭素数２〜１２のｎ価の有機基、Ｚは酸素原子または硫黄原子、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、ｎは１〜４の整数である。）で表される化合物である。 （もっと読む）

本発明は、構造式（Ｉ）によって表される化合物、またはその薬学的に許容できる塩に関する。構造式（Ｉ）の変数は本明細書において規定される。構造式（Ｉ）の化合物を含む医薬組成物およびその治療的使用も記載される。
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【課題】ロタマーゼの阻害のための新規化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、（Ｖ）の化合物およびその医薬としての使用。
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【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により一般式（II）で表される酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する一般式（Ｉ）で表される化合物、及び、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（一般式(I)における各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基を含む塩。［式（Ｉ）中、Ｔは、置換基を有していてもよい炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち少なくとも２つは、酸素原子又は硫黄原子で置換されている。］
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【課題】抗微生物活性薬などの医薬品として有用なムチリン類を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）の化合物［式中、Ｒ_２はアリーレンまたはヘテロサイクレンであるか；あるいはＲおよびＲ_２がそれらが結合している窒素原子とともに非芳香族ヘテロサイクレンを形成しており；他の残基は水素あるいは各種置換基を意味する］。
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【課題】優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ原子又はＣ１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、−［ＣＨ_２］_ｋ−を表し、ｋは、１〜１８の整数；Ｘ^２は、単結合、直鎖状又は分岐状のＣ１〜１２の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等；Ｙ^１は、Ｃ３〜３６の脂環式炭化水素基；−Ｘ^２−Ｙ^１基は、少なくとも１つのＦ原子を含む；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

本発明は、メキシレチン（およびメキシレチンの活性代謝物）とアミノ酸若しくはペプチドとのプロドラッグ並びにかかるプロドラッグを含む医薬組成物に関する。上記プロドラッグを用いて、痛みの緩和、不整脈の治療、メキシレチンに伴う有害な胃腸副作用の低減、メキシレチンの生物学的利用能の向上および薬物動態の再現性の改善の方法も提供する。グリシン残基により直接若しくは間接的に結合したリシンまたはアルギニンを包含するオリゴペプチドもここに記載する。 （もっと読む）

【課題】ゴムの耐リバージョン性，耐熱性および耐屈曲性を向上させる加硫剤の提供。
【解決手段】
硫黄加硫の可能なゴム１００重量部に対して、化１で表される、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ビス−チオシアネートを０．５〜２０重量部配合したゴム組成物。
【化１】
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、フッ化アルキル基を有するスルホニウム系カチオン部と、カルボニル基とフッ化アルキレン基を有するスルホン酸塩、又はイミデート化合物よりなるアニオン部より構成される酸発生剤であるレジスト組成物［但し、アニオン部は下記の一般式で表わされる（ｂ２−１），（ｂ２−２）のいずれか一方］。
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本発明の主題は、式（Ｉ）


の［４−（２−クロロ−４−メトキシ−５−メチルフェニル）−５−メチル−チアゾロ−
２−イル］−［２−シクロプロピル−１−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−エチ
ル］−アミンを調製するための新規な方法、および該調製法の新しい中間体である。
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【課題】貯蔵安定性が良好でｉ線に対し高感度なレジストを与えるフォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法の提供。
【解決手段】光により酸を発生する成分(A)，それにより対アルカリ溶解性が増大する樹脂成分(B)を含有し，成分(A)が式：


〔m¹,m⁴,m⁶は0-5,m²,m³,m⁵は0-4,X^-は一価の多原子アニオン〕のスルホニウム塩を含むものである，化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）