【課題】中和工程を必要としないで、両末端シラノール基封鎖の低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンを高割合で簡便に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】環状オルガノポリシロキサンを、水と水混和性有機溶媒との混合溶媒中で、該環状オルガノポリシロキサンの開環反応を促進する固相触媒との接触下において加水分解することを含む、下記一般式(2)：


（式中、R¹およびR²は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、、pは1≦p≦20の整数である。）
で示される分子鎖両末端がシラノール基で封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】十分な反応性を有するシロキサンオリゴマーであって、反応残渣が生じないシリル化剤として有用な新規な環状ポリオルガノシロキサンシラザンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)：
【化１】


(式中、R₁〜R₄は炭素原子数1〜8の非置換または置換の一価炭化水素基であり、mは１≦m≦100の整数、nは１≦n≦100の整数、m+nは3≦m+n≦200の整数である。(SiR₁R₂O)単位と(SiR₃R₄NH)単位とはランダムに結合していてもよい。)
で示される環状ポリオルガノシロキサンシラザン。 （もっと読む）

【課題】未加水分解の残基が殆どなく、しかも副生物が極めて少なく高収率である両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：
ＳｉR^１R^２（OCOR³）_２ （１）
（式中、R¹およびR²は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、R³は炭素原子数1〜4のアルキル基）
で示されるジオルガノジアシルオキシシランを、シクロペンチルメチルエーテル中において、少量の水の存在下、部分加水分解および縮合反応に供し、
（Ｂ）工程（Ａ）で得られた反応混合物を、大過剰量の水で洗浄することにより、前記ジオルガノジアシルオキシシランの加水分解を完全に進行させるとともに加水分解副生物であるカルボン酸を有機相から抽出、除去し、
（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた有機相からシクロペンチルメチルエーテルを留去させる、
工程を有する両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズなどの眼用レンズに好適なポリマーを与えるモノマーとして好適に使用可能な、シリコーン化合物を高純度で提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ）及び／または（ａ’）で表されるシリコーン化合物の純度が８７％以上であり、（ａ）及び／または（ａ’）の加水分解物であるジヒドロキシアルキル基を有するシリコーン化合物の含有率が０．４％以上、３％以下であるシリコーン化合物。


（ここで、Ａはシロキサニル基を表す。Ｒ¹は重合性基を有する炭素数１〜２０の置換基を表す。Ｒ²〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０の置換基または−Ｘ−Ａを表す。Ｘは置換されていてもよい炭素数１〜２０の２価の置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、シラン化合物の提供、あるいは液晶セル用ガラス部材に貼着するための光学用接着フィルムであって、剥離性フィルムの剥離安定性に優れ、液晶セル用ガラス部材からの再剥離性や被着体汚染性に優れ、貼着後の耐久性に優れる光学用感圧式接着フィルムを形成し得る新規なシラン化合物を有する感圧式接着剤の提供を目的とする。
【解決手段】一般式（１）で表されるシラン化合物、および活性水素基含有α，β−不飽和単量体（Ｂ）と、α，β−不飽和単量体（Ｃ）と、下記一般式（２）で表される化合物（２）とを反応させ、単量体（Ｂ）と単量体（Ｃ）との重合体（Ｄ）；単量体（Ｂ）と化合物（２）との反応生成物であるシラン化合物（Ｅ）；および、単量体（Ｃ）と化合物（２）との反応生成物であるシラン化合物（Ｆ）；の混合物を得ることを特徴とする、接着剤用樹脂組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】接着付与剤として使用した場合であっても白金触媒の活性を低下させることがない新規の３級アミン化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される３級アミン化合物。


（式中、Ｒ¹は水素原子ではなく、活性水素を有しない有機基であって、少なくとも２個のＲ¹がアルコキシシリル基含有基を表し、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表す。複数のＲ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】分子が結晶化しにくいため、安定な薄膜を形成しやすく、有機ＥＬ素子用青色発光材料として用いた場合に、低電圧駆動、長寿命化、などの優れた特性を有する、高いガラス転移温度(Ｔｇ)を示す化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式［１］で表される化合物からなる有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。一般式［１］
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【課題】 より安価かつ容易に高純度なトリシリルアミンを得ることができるトリシリルアミンの製造方法を提供することを目的とする
【解決手段】 ペルヒドロポリシラザンを、無酸素または低酸素雰囲気下で加熱分解するトリシリルアミンの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】硬化性シリコーン組成物用接着性付与剤の原料として有用な有機ケイ素化合物、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】新規な有機ケイ素化合物は式（１）で表され、この化合物はアルケニル官能性コハク酸無水物と特定構造を有する有機ケイ素化合物とのヒドロシリル化反応によって製造できる。


式（１）の化合物は硬化性シリコーン組成物のための接着性付与剤として有用である。式（１）の化合物を硬化性シリコーン組成物に添加することによって、アルミニウム又はポリフェニレンサルファイドに対する硬化性シリコーン組成物の接着力を高めることができる。 （もっと読む）

本出願は、ａ≧２かつｂ≧２であり、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^１は、独立して水素またはメチル基である構造式を有する環状シロキサン化合物、上記環状シロキサンのいずれかと、追加のシリコーンとを含む組成物、上記環状シロキサンのいずれかまたは上記組成物を含むエマルション組成物、および塩素末端ブロック化ポリジメチルシロキサンと、少なくとも３つの炭素原子を含むジオール官能化合物と、を反応させる工程を含む上記環状シロキサン化合物の調製方法に関する。
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【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物（具体的例示：２，４，６−トリシクロプロピル−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン）を含有するＳｉ含有膜形成材料を用いてＰＥＣＶＤ法によりＳｉ含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、低い誘電率を有する機械強度に優れた電気絶縁膜を作製するためのプレカーサーとして有用なスピロ型シクロトリシロキサン誘導体を提供することにある。
【解決手段】一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数が１乃至３のアルキル基を表す。但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は同時に水素原子ではない。また破線を伴う実線は単結合又は二重結合を表す。）で表されるシクロトリシロキサン化合物を用いて形成させた膜は、所望の低い誘電率を有し、機械強度に優れた電気絶縁膜となる。 （もっと読む）

本発明は、（２０Ｓ，２２Ｅ）−２−メチレン−１９−ノル−２２−エン−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ_３ 類似体、およびより具体的には（２０Ｓ，２２Ｅ）−２−メチレン−１９−ノル−２２−エン−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ_３、およびそれらの薬学的用途を開示する。この化合物は、ビタミンＤ受容体に対して顕著な結合活性および転写活性を示し、未分化細胞の増殖を阻止し、それらの単球への分化を誘発することにおいて明白な活性を示し、したがって抗癌剤として、特に白血病、結腸癌、乳癌、皮膚癌または前立腺癌の治療または予防のための用途を証明する。 （もっと読む）

【課題】実質的に無臭化されており、油剤として使用した場合であっても、他の化粧料原料成分と相溶性に優れるアルキル変性ポリジメチルシロキサン精製品を製造する方法を提供する。また、特有の臭気について実質的に無臭化されており、他の化粧料配合成分との溶解性、混合性の良い化粧料原料および該精製品を含有する化粧料を提供する。
【解決手段】ヒドロシリル基含有ポリジメチルシロキサンと炭素原子数２〜３０のα−オレフィンとをヒドロシリル化反応させることにより、アルキル変性ポリジメチルシロキサンを合成する工程〔Ａ〕および前記工程〔Ａ〕によって得られた粗製品を、水素化触媒の存在下、（ｃ）沸点が７０℃以上であり、活性水素原子を実質的に含有しない有機溶媒中で水素添加反応による無臭化処理を行う工程〔Ｂ〕を有することを特徴とするアルキル変性ポリジメチルシロキサン精製品の製造方法および該精製品を含有する化粧料。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示される遷移金属錯体化合物からなる脂肪族又は脂環式不飽和結合を有するシロキサンの不飽和炭素へのケイ素導入反応用触媒。
Ｘ_t−Ｍ−Ｒ¹_s（Ｙ_u） （１）
（Ｍは遷移金属原子、Ｒ¹はＨ、アルキル基、アリール基、又はＳｉＲ₃基。ＲはＨ、１価炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はシロキサン残基。Ｘは脂肪族不飽和基を有する環状体、トリスピラゾリルボレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ポルフィン、又はフタロシアニン。Ｙはアンモニア分子、カルボニル分子、酸素原子、酸素分子、アミン分子、ホスフィン分子、又はホスファイト分子。０＜ｓ≦３、０≦ｔ＜２、０≦ｕ≦１２、ｓ、ｔは遷移金属原子の酸化数がＩＩ価又はＩＶ価となるような数。）
【効果】本発明の触媒を用いて不飽和結合含有シロキサンと≡Ｓｉ−Ｈ基を反応させると、炭素炭素二重結合を有する有機ケイ素化合物が合成できる。 （もっと読む）

【課題】炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に炭窒化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。
【解決手段】以下の式によって表されるアミノシラン及びそれらの混合物からなる群より選択される前駆体を用いることを含む、炭窒化ケイ素膜を形成するための方法とする：
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【課題】トリアジン構造を有する被膜形成性、水溶性、樹脂との相溶性に優れた有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）


〔Ｒ⁰は水素原子、ヘテロ原子又はカルボニル炭素を間に挟んでも、置換基を有してもよい１価の炭化水素基で、少なくとも１つが-----Ｘ−Si(ＯＲ¹)n(Ｒ²)3-n構造の基である。（鎖線は結合手、Ｘは２価の炭化水素基、Ｒ¹は独立に水素原子又はアルキル基、Ｒ²はアルキル基、ｎは１〜３。）〕で示されるメラミン骨格を有する有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適した低誘電率絶縁膜用材料として有用な、新規な環状シロキサン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（２０）
【化１】


（式中、Ｒ^１８は炭化水素基を表し、Ｒ^１９は水素原子又は炭化水素基を表す。ｇは２乃至１０の整数を表し、ｈは１乃至３の整数を表す。）で示される環状シロキサン化合物［具体的例示:２，４，６−トリス（メトキシメチル）−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン］。 （もっと読む）