【課題】毒性不純物の含量の低下した高純度のマラチオン及びその調製方法を提供する。
【解決手段】本発明のマラチオンは、以下の工程、
(a)トルエン、キシレン及びベンゼンからなる群から選択される有機溶剤で、O,O-ジメチルジチオリン酸の溶液を調製する工程、
(b)O,O-ジメチルジチオリン酸を水に抽出してO,O-ジメチルジチオリン酸の水溶液を生成する工程、
(c)O,O-ジメチルジチオリン酸の水溶液をジエチルマレエートと反応させてマラチオンを形成する工程、及び
(d)工程(c)から得られたマラチオンを、約７．０未満のpHを有する硫黄試薬で処理する工程、
を含むことを特徴とする方法により調製される。 （もっと読む）

【課題】アミノメチレンホスホン酸中の未反応のホルムアルデヒドを収率良く、簡便な設備、簡単な操作で危険物の発生なく除去するための高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法において、回分式蒸留装置を用いて水分濃度が３５〜６０重量％の粗アミノメチレンホスホン酸水溶液を蒸留するに際し、蒸留中に蒸留釜に水を添加する工程を有し、且つ添加する水の総量を粗アミノメチレンホスホン酸水溶液の仕込み重量に対して少なくとも０．５倍量とすることを特徴とする高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法。 （もっと読む）

【課題】卑金属不純物を最小に保持しながら、上記Ｍ（ＲＰＤ）₂錯体を高収率で製造すること。
【解決手段】式（Ｉ）：Ｍ（ＲＰＤ）₂ （Ｉ）［式中、Ｍ＝鉄、ルテニウム、又はオスミウム；Ｒ＝Ｈ又は約１〜４個の炭素原子を有するアルキル基；ＰＤ＝サンドウィッチ型錯体を形成する環状又は開鎖のジエニル系］の有機金属錯体の製造方法において、式（Ｉ）で示される前記錯体は少なくとも約９９．９９％の金属純度を有し；前記方法は、三塩化Ｍ（ＩＩＩ）水和物及びＨＲＰＤ化合物を、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｈ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｃａ、及びＣｕからなるグループから選択される少なくとも１つの還元性金属とアルコール溶剤中で反応させることを有する、有機金属錯体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造用成膜原料、触媒配位子として有用なトリアルキルホスフィンの工業的で高収率な製造法を提供する。
【解決手段】一般式Ｒ−Ｍで表される有機金属化合物と一般式Ｐ−（ＯＲ’）_３で表される有機リン化合物とを、生成するトリアルキルホスフィンとの沸点差が２０℃の範囲内にあるエーテル溶媒中で反応させ、生成したトリアルキルホスフィンを含有する気相部をＡｇＩとＫＩの水溶液に吸収させて生成する一般式Ｒ_３ＰＡｇＩで表される銀錯体をろ過により得、得られた該錯体を含有した水溶液を、金属製反応器にて、１．３３３×１０^−７ＭＰａ〜６．１３３×１０^−２ＭＰａの減圧下で、１７０℃〜３５０℃の温度範囲内に加熱し、発生したガスを−１９６℃〜−５０℃の範囲内の極低温で冷却して捕捉するトリアルキルホスフィンの製造方法。［上記式中、Ｒはアルキル基等を表し、Ｍはハロゲン化マグネシウム等を表し、Ｒ’はアルキル基等を表す。］ （もっと読む）

本発明は、１，２−ジアミノシクロヘキサン−白金（ＩＩ）錯体の製造方法に、特に、オキサリプラチンのための製造方法に関する。前記方法は、簡単な、経済的な、及び産業上の製造に適用可能である。前記方法は、（ＤＡＣＨ）ＰｔＣｌ₂と硫酸銀（Ａｇ₂ＳＯ₄）とを反応させ、及び続く硫酸Ｐｔ錯体（ＤＡＣＨ）Ｐｔ（ａｑ）₂ＳＯ₄とシュウ酸バリウム（ＢａＣ₂Ｏ₄）との、又は硫酸Ｐｔ錯体（ＤＡＣＨ）Ｐｔ（ａｑ）₂ＳＯ₄と水酸化バリウム及びシュウ酸との当量混合物とを反応させて、低い銀含有率及び低い硝酸塩含有率を揺する高純度のオキサリプラチンを得ることを含む。 （もっと読む）

本発明は、有機酸のアンモニウム塩の反応とその都度の遊離の有機酸への変換のための方法であって、アンモニウム塩の水溶液を、有機抽出剤と接触させ、塩分割を、前記水溶液及び前記抽出剤が液状の物質状態で存在する温度と圧力で行い、その際、ストリッピング媒体もしくはエントレイナーガスが導入されて、ＮＨ₃が前記水溶液から除去され、かつ形成された有機の遊離酸の少なくとも一部が前記の有機抽出剤中に移行する前記方法に関する。さらに、本願に記載の発明は、有機酸、好ましくはカルボン酸、スルホン酸もしくはホスホン酸、特にα−ヒドロキシカルボン酸もしくはβ−ヒドロキシカルボン酸を、そのアンモニウム塩から、アンモニアの遊離及び除去を行い、そして同時に遊離される酸を、好適な抽出剤を用いて水相から抽出することによって遊離させるための改善された方法を提供する。前記方法は、反応的抽出に相当する。有機酸をそのアンモニウム塩水溶液から反応的抽出することは、ストリッピング媒体もしくはエントレイナーガス、例えば窒素、空気、蒸気又は不活性ガス、例えばアルゴンなどの使用によって明らかに改善することができる。遊離されるアンモニアは、連続的なガス流によって水溶液から除去され、再び製造方法に供給することができる。遊離酸は、蒸留、精留、結晶化、逆抽出、クロマトグラフィー、吸着などの方法又は膜法によって抽出剤から得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 類縁構造化合物を含有していてもルテニウム含有薄膜を製造することができる（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム、その製造方法、それを用いたルテニウム含有薄膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 類縁構造化合物を含有する（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムから、類縁構造化合物を分離することにより、５重量％以下の類縁構造化合物を含有する（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムを得て、それを原料として用いて薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造業者らから求められる、ＴＥＰＯ中の砒素の低濃度化を達成する方法が必要とされる。
【解決手段】砒素含有不純物を有する粗製トリエチルホスフェート（ＴＥＰＯ）からの砒素含有不純物の除去方法は以下の方法を含む：トリエチルホスフェートと比べて砒素含有不純物を選択的に吸着する吸着剤を準備すること；砒素含有不純物を有する粗製トリエチルホスフェートを吸着剤と接触させること；及び砒素含有不純物を有する粗製トリエチルホスフェートから砒素含有不純物を吸着して、減少した砒素含有不純物を有する製品トリエチルホスフェートを作ること。 （もっと読む）

本出願は、ハロゲン化有機ホスフィンの製造方法であって、第一級または第二級有機ホスフィンを、（Ａ）式（Ｉ）：（Ｈａｌ）_３Ｃ−Ｃ（Ｏ）−Ｘ（Ｉ）の化合物（式中、Ｘは、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリル、シクロアルキル、ＮＲ^１Ｒ^２、Ｃ（Ｈａｌ）_３、ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ^３’または−Ｙ−Ｚ−Ｙ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｈａｌ）_３から選択され；Ｒ^１およびＲ^２は、各々独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリルまたはシクロアルキルから選択され；Ｒ^３は、Ｈ、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリル、シクロアルキルまたはトリオルガノシリルから選択され；Ｒ^３’は、Ｃ（Ｈａｌ）_３、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリル、シクロアルキルから選択され；Ｙは、独立して、ＯまたはＮＨから選択され；Ｚは、独立して、アルキレン、アリーレン、アラルキレン、アルカリーレンまたはシクロアルキレンから選択され；そしてＨａｌは、ＣｌまたはＢｒから選択される）；あるいは（Ｂ）２つ以上のヒドロキシルおよび／またはアミノ基を含むポリオール、ポリアミンまたはポリアミノアルコールの誘導体であって、ヒドロキシルおよび／またはアミノ基の各々における水素原子が−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｈａｌ）_３基に置き替えられ、ＨａｌがＣｌまたはＢｒから選択される誘導体から選択されるハロゲン化剤と反応させることを包含する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】低粘度であり、沸点が高く、安全性に優れ、各種用途に好適であり、特に不燃剤、電池等の用途に好適に用いられるホスファゼン誘導体の提供。
【解決手段】下記一般式（３）で表されることを特徴とするホスファゼン誘導体。
（ＰＮＸ_２）_ｎ ・・・ 一般式（３）
（式中、Ｘはアルコキシ基、フェノキシ基及びフッ素の少なくとも何れかで、ｎは３を表し、全Ｘのうち少なくとも１つはフッ素であり、少なくとも他の１つはアルコキシ基及びフェノキシ基の何れかである。） （もっと読む）

【課題】有機イリジウム錯体を触媒として使用する有機合成反応において、反応後、有機イリジウム錯体由来のイリジウム化合物を含む反応液から高回収率にイリジウム化合物を回収する方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機イリジウム錯体の回収方法は、有機合成反応に触媒として使用する有機イリジウム錯体を回収する方法であって、反応により有機イリジウム錯体が分解、変質してなるイリジウム化合物を、該イリジウム化合物を含有する反応液をイオン交換樹脂処理に付してイリジウム化合物を吸着させ、その後、脱着用水溶性溶媒を使用してイリジウム化合物を脱着させて回収することによる。 （もっと読む）

本発明は、当該技術において長い間公知であった有機リン化合物、特に９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド（ＤＯＰＯ）及びその誘導体の製造に関する。これらは、ポリマー用の添加剤として好ましく用いられる。特に、ポリマー、例えばポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹脂のための難燃剤としてのＤＯＰＯ及びその誘導体の使用が有利であることが見出された。 （もっと読む）

【課題】（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムは、高温処理することにより（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム類縁構造化合物を形成する。両者は、分子量が近く、化学的及び物理的性質が極めて類似しているため、分離が困難である。その混合物を原料として薄膜の製造に使用した場合、ルテニウム含有薄膜が安定して得られなかった。
【解決手段】（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムと（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム類縁構造化合物とを分離することにより、（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムを得、それを原料としてルテニウム含有薄膜を製造する。 （もっと読む）

ロスバスタチンの製造のための方法及び中間体を提供する。
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【課題】ホスファゼン化合物やホスファゼニウム化合物の合成中間体として極めて重要かつ有用な化合物であるイミノトリス（ジメチルアミノ）ホスホランを、より効率的・経済的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】溶媒の存在下、三塩化りんとジメチルアミンとを反応させる工程（Ａ）、（Ａ）で副生するジメチルアミン塩酸塩を除去する工程（Ｂ）、（Ｂ）で得られた溶液中のトリス（ジメチルアミノ）ホスフィンと塩素とを反応させる工程（Ｃ）、（Ｃ）の反応液中のクロロトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムクロリドとアンモニアとを反応させる工程（Ｄ）、（Ｄ）の反応液中のアミノトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムクロリドをアルカリ金属水酸化物と反応させ、脱水・脱溶媒する工程（Ｅ）、（Ｅ）で得られた反応液スラリーから、イミノトリス（ジメチルアミノ）ホスホランを取り出す工程（Ｆ）、の各工程を備える。 （もっと読む）

【課題】ニオブアルコキシド、特にニオブエトキシド、ニオブ ｎ−プロポキシド、異性体のニオブブトキシド及び異性体のニオブペントキシドを、高純度で、淡色形において、産業において容易に実現可能で、費用がかからず、かつ非常に良好な再現性を有する単純な方法によって提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）
Ｎｂ（ＯＲ）₅ （Ｉ）
［式中、Ｒは、明細書中に示される意味を有する］で示される高純度で淡色のニオブアルコキシドの製造方法において、一般式（Ｉ）の粗製ニオブアルコキシドを、一般式（ＩＩ）
Ｒ¹ＯＨ （ＩＩ）
［式中、Ｒ¹は、明細書中の意味を有する］で示される１種以上のアルコール０．０１〜５質量％、有利には０．１〜２質量％の添加によって、又は空気もしくは他の酸素を含む気体混合物での処理によって、かつ場合により引き続き蒸留することによって精製する。 （もっと読む）

【課題】有機金属化合物を精製する方法の提供。
【解決手段】有機金属化合物をトリアルキルアルミニウム化合物および触媒の存在下で加熱することにより有機金属化合物を精製する方法。 （もっと読む）

【課題】 炭化タンタル膜や炭窒化タンタル膜を化学気相成長法により形成するための原料として、供給しやすく、高い蒸気圧を有する化合物を提供し、さらに、その製造方法およびそれを用いた炭化タンタル膜または炭窒化タンタル膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 ＴａＣｌ₅とＮａ（ＥｔＣｐ）とＮａＢＨ₄とをＴＨＦ中で反応させ、未反応原料を水で失活させた後、溶媒留去し、真空蒸留することにより、蒸気圧が０．１Ｔｏｒｒ／９５℃、融点が３８℃である新規化合物ビス（エチルシクロペンタジエニル）トリヒドロタンタル（Ｔａ（ＥｔＣｐ）₂Ｈ₃）が得られ、この化合物を原料として、化学気相成長法により、炭化タンタル膜または炭窒化タンタル膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 フルベン化合物を含むシクロペンタジエン化合物の混合溶液からフルベンを有利に除去すること。
【解決手段】 水を連続的に蒸発留去させている状態の中に、フルベン化合物を含むシクロペンタジエン化合物の混合溶液を加えて、該フルベン化合物を水と共沸、留去させることによるフルベン化合物の除去方法である。
工業的に有利にフルベン化合物が除去されているシクロペンタジエン化合が得られ、該シクロペンタジエン化合物は、重合触媒成分として有用なメタロセン化合物の工業的製造に有用である。 （もっと読む）

本発明は、毒性不純物の含量の低下した高純度のマラチオンを調製する方法を提供する。更に、本発明の方法により調製されたマラチオンは貯蔵安定性である。マラチオン中の毒性不純物、例えば、イソマラチオン、O,O,S-トリメチルホスホロジチオエート(MeOOSPS)、O,O,S-トリメチルホスホロチオエート(MeOOSPO)、O,S,S-トリメチルホスホロジチオエート(MeOSSPO)、マラオクソン、イソマラチオン、ジエチルフマレート、メチルマラチオン、ジメチルマラチオン、O,O-メチル,エチル-S-(1,2-ジカルボエトキシ)エチル-ホスホロジチオエートの量は、薬品の目的に使用されうるいずれかのその他の市販のマラチオン製剤より低い。 （もっと読む）