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硬化性樹脂組成物、その硬化物、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、及び半導体封止材料
【課題】組成物の流動性に優れると共に、近年の電子部品関連材料に適する耐湿信頼性と、環境調和のためハロゲンフリーで高い難燃性を実現する。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)及びフェノール系樹脂(B)を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物であって、前記フェノール系樹脂(B)が、複数のフェノール性水酸基含有芳香族骨格(ph)が下記一般式1
【化1】
(式中、Arはフェニレン基又はビフェニレン基を表し、Rは独立的に水素原子又はメチル基を表す。)で表される2価のアラルキル基を介して結合した構造を基本骨格とするフェノール樹脂構造を有し、かつ、該構造の芳香核にナフチルメチル基又はアントニルメチル基を有し、かつ、該ナフチルメチル基等の存在割合が、前記フェノール性水酸基含有芳香族骨格(ph)の総数を100とした場合に、前記ナフチルメチル基又はアントニルメチル基の総数が10〜200となる割合である。
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エポキシ樹脂及びその製造方法
【課題】環境負荷を抑え、良好な特性を有するエポキシ樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂が、下記一般式(1)で示される構造を含む化合物に、1分子内に2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を反応させることにより得られる。
【化4】
(式中、R1は(n+l)価の多価アルコール誘導体を表し、R2は置換若しくは無置換芳香族環を表し、R3はCH2,C2H4,C3H6,C4H8置換若しくは無置換芳香族環のいずれかを表し、m及びnは1以上の整数、lは0もしくは1以上の整数を表す)
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積層基板用低誘導電率樹脂ワニス組成物及びその製法
【課題】軽く、薄く、小型で、精密化及び高周波化され、伝送過程においては資料の損失や妨害がないよう使用する樹脂材料は優れた電気特性を持つ積層基板用低誘導電率樹脂ワニス組成物を提供すること。
【解決手段】積層基板用低誘導電率樹脂ワニス組成物が、(A)ジシクロペンタジエン-ノボラック型フェノール樹脂(DCPD-PN)、又は樹脂総量の13〜60重量%を占める(B)一種或いは多種のエポキシ樹脂、又はDCPD成分を持つジシクロペンタジエンエポキシ樹脂(DCPD-PNE)、又は樹脂総量の30〜50重量%を占める(C)ジシクロペンタジエン-ジヒドロベンゾキサジン樹脂(DCPD-BX)、あるいは(B)及び(C)を混合した樹脂と、(D)難燃剤、硬化剤或いは促進剤及び溶剤と一定の比例にて混合することからなる。
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リン含有硬化剤、エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、支持体付き樹脂フィルム、金属箔張積層板、及び多層プリント配線板
【課題】高耐熱性、難燃性、耐水性等の特性が付与されたエポキシ樹脂組成物を提供することが可能なリン含有硬化剤と、それを用いたプリント配線板用のエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、支持体付き樹脂フィルム、金属箔張積層板、及び多層プリント配線板とを提供する。
【解決手段】下記化学式(1)で示される化合物Aとフェノール性水酸基を有する化合物Bとを反応して得られるリン含有硬化剤。(化学式(1)中、R1は炭素数0〜6の炭化水素基を表す。なお、R1は炭素数0の炭化水素基とは、ClがPに直接に結合していることを表す。)このリン含有硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、支持体付き樹脂フィルム、金属箔張積層板、及び多層プリント配線板。
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光硬化性樹脂組成物
【課題】耐熱性及び透明性に優れ、硬化時の黄変を抑えることのできる光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】(1)一般式(I)等で表されるカチオン重合性有機物質100質量部と(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤0.001〜10質量部とを含有し、アクリレート化合物を含有しない光硬化性樹脂組成物及び該光硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
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光硬化性樹脂組成物
【課題】耐熱性及び透明性に優れ、硬化時の黄変を抑えることのできる光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】(1)下記一般式(I)等で表されるカチオン重合性有機物質100質量部と(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤0.001〜10質量部とを含有し、アクリレート化合物を含有しない光硬化性樹脂組成物及び該光硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
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エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物を用いた半導体封止材料及び積層板
【課題】架橋基にビフェニレン構造を有するフェノールノボラック樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物を提供するとともに、前記エポキシ樹脂組成物の硬化物、前記エポキシ樹脂組成物を用いた半導体素子封止材、前記エポキシ樹脂組成物を用いたプリント基板等を提供すること。
【解決手段】架橋基にビフェニレン構造を有するフェノールノボラック樹脂とエポキシ樹脂と硬化促進剤とを含有するエポキシ樹脂組成物とする。前記エポキシ樹脂組成物は、さらに無機充填剤を含有することが好ましい。また、前記エポキシ樹脂組成物を用いて、半導体素子封止材、プリプレグ、プリント基板とすることができる。
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ナノ多孔質積層体
【課題】誘電率の低い電気用積層体やその他の複合材料に好適なナノ多孔質マトリックスを製造するのに適したエポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】(a)エポキシ樹脂、(b)熱不安定性基を含む化合物及び(c)任意的な溶剤を含むエポキシ樹脂組成物。
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樹脂組成物、樹脂ワニス、プリプレグ、金属張積層板、及びプリント配線板
【課題】誘電特性及び硬化物の耐熱性に優れ、さらに、ハロゲン及び鉛を含有させずに、難燃性の高い樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】軟化点が50℃以上であって、平均エポキシ当量が300g/eq以下であって、1分子中に平均2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)と、1分子中に平均2個以上のシアネート基を有するシアネート化合物を含む硬化剤(B)と、ホスファゼン化合物(C)と、金属石鹸(D)とを含有することを特徴とする樹脂組成物を用いる。
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ワニス組成物およびコイル装置
【課題】従来に比べて安価かつ効率的に高い信頼性を有するコイル装置を製造することのできるワニス組成物を提供すること。
【解決方法】マイカテープを巻回したコイルに含浸、硬化させてコイル装置を製造するために用いられるワニス組成物であって、(A)脂環式エポキシ樹脂、(B)脂環式酸無水物、(C)ジアザビシクロアルケンまたはその誘導体を必須成分とし、前記(A)脂環式エポキシ樹脂100質量部に対して、前記(B)脂環式酸無水物が80〜120質量部、前記(C)ジアザビシクロアルケンまたはその誘導体が0.01〜0.3質量部であるもの。
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新規な熱硬化性樹脂組成物及びその利用
【課題】 本発明の課題は、低温(200℃以下)で硬化可能であり、得られる硬化膜が柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、硬化膜からの難燃剤成分のブリードアウトが発生しない熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)分子内にラジカル重合性基を実質的に含有しないカルボキシル基含有樹脂、(B)エポキシ樹脂、及び(C)熱硬化性樹脂組成物中において粒子径が1μm以上、25μm以下で存在しているイミド樹脂を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決しうる。
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アントラセン誘導体、硬化性組成物及びこの硬化物
【課題】一般的なエポキシ樹脂としての優れた特性(高耐熱性、高難燃性、高寸法安定性、高耐湿性)を有する硬化物を得ることができ、さらにアントラセン特有の特性(高炭素密度、高融点、高光屈折性及び紫外線に対する蛍光性能等)を備えたアントラセン誘導体、このアントラセン誘導体を含む硬化性組成物、及び上述のような性質を備える硬化物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式(1)表されるアントラセン誘導体である(式(1)中、Xは、(n1+1)価の芳香族基であり、この芳香族基は置換基を有していてもよい。Yは、(n2+1)価の芳香族基であり、この芳香族基は置換基を有していてもよい。n1及びn2は、それぞれ独立して、1〜3の整数である。)。
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ジオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、及び該組成物
【課題】耐熱性、光学特性に優れる硬化物を与える新規な脂環エポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】下記式(1)
で表されるジオレフィン樹脂、およびこれを酸化して得られるエポキシ樹脂。
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熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ及び積層板
【課題】非ハロゲン系難燃剤を使用しながらも、誘電特性、誘電損失、耐熱性、難燃性、耐湿性、銅箔との接着性に優れた熱硬化性樹脂組成物、並びにそれを使用したプリプレグ及び積層板を提供する。
【解決手段】(1)二置換ホスフィン酸の金属塩、及び(2)1GHz以上の周波数における比誘電率が2.9以下である樹脂を含むことを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、並びにそれを用いたプリプレグ及びプリプレグを用いて積層形成された積層板。
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光硬化性組成物および硬化物
【課題】 本発明の目的は、光硬化性を有しリソグラフィー可能であり、かつ良好な感度を有し、現像工程後のパターン形状不良や、腐食などの問題を生じにくい光硬化性組成物および硬化物を提供することである。
【解決手段】
上記課題は、カチオン重合性化合物(a)と、カチオン重合開始剤(b)、エポキシ基、またはオキセタニル基と、アルコキシシリル基を有する硬化促進剤(c)を含んでなる光硬化性組成物、およびその光硬化組成物に光を照射し、硬化してなる、硬化物により達成される。
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イミダゾール化合物、及び該化合物を含有する硬化性エポキシ樹脂組成物
【課題】40℃以下のような室温下での長期潜在性、100℃以上のような高温において短時間で硬化する速硬化性、各種有機溶剤に対する耐溶剤性、硬化物中に気泡を生じさせにくい低吸湿性を有するイミダゾール化合物、その製造方法、及びイミダゾール化合物とエポキシ樹脂とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるイミダゾール化合物。
【化1】
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エポキシ樹脂用硬化剤、硬化性樹脂組成物、およびその硬化物
【課題】高耐熱性かつ低線膨張性に優れた樹脂硬化物を与えるエポキシ樹脂用硬化剤を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表され、ケトン系溶剤に対して60℃で0.5重量%以上の溶解度を有するビスイミドフェノール化合物(a)を含むエポキシ樹脂用硬化剤。
(R1は水酸基を除く一価の官能基または水素原子。R2〜R5は水素原子、水酸基、または炭素数1〜10の有機基を示すが、隣接する2つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数20以下の環を形成してもよい。R2〜R5のうちの少なくとも一つは水酸基。R6は、特定の有機基。Xは、単結合、−SO2−、−O−、−CO−、−C(CF3)2−、−S−、または炭素数1〜20の二価の有機基。nは0〜3。)
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変性シアネートエステル系樹脂組成物、それを用いる樹脂フィルム、多層プリント配線板およびそれらの製造方法
【課題】耐湿性、耐熱性、耐溶媒性および耐薬品性が良好で、ビルドアップ積層方式に適し、高周波回路の低損失を実現でき、しかも回路充填性などの成形性が良好な樹脂組成物、ならびにそれをを用いた樹脂フィルムおよび多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)シアネートエステル化合物、(B)フェノール類、(C)ポリフェニレンオキシド、(D)金属化合物触媒および(E)エポキシ樹脂を含み;または(A)を(B)で変性した(A′)変性シアネートエステル樹脂、(C)、(D)および(E)を含む変性シアネートエステル系樹脂組成物;それを用いる樹脂フィルムおよび多層プリント配線板、ならびにそれらの製造方法。
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エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、金属箔付き樹脂シート、樹脂シート、積層板、多層板
【課題】有害物質の発生を伴わずに難燃性を確保し、吸湿してもガラス転移温度が低下しにくく、誘電率及び誘電正接を共に低減することができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】リン変性エポキシ樹脂(A)、リン変性硬化剤(B)、及びリン原子を含有しない硬化剤(C)を含有するエポキシ樹脂組成物に関する。前記リン原子を含有しない硬化剤(C)として、4官能フェノール樹脂(C1)と、数平均分子量が500〜3000であり1分子中に平均1.0〜3.0個の水酸基を有するポリフェニレンエーテル(C2)とから選ばれるものが用いられている。リン含有量が前記エポキシ樹脂組成物の樹脂固形分に対して1.5〜4.5質量%である。
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熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ及び積層板
【課題】非ハロゲン系難燃剤を使用しながらも、誘電特性、誘電損失、耐熱性、難燃性、耐湿性、銅箔との接着性のすべてに優れる熱硬化性樹脂組成物、並びにそれを用いたプリプレグ及び積層板を提供する。
【解決手段】(1)二置換ホスフィン酸の金属塩、及び(2)1GHz以上の周波数における比誘電率が2.9以下である樹脂を含むことを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、並びにそれを用いたプリプレグ及びプリプレグを用いて積層形成した積層板。
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