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Fターム[4J100BA03]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −OH基 (4,097)

Fターム[4J100BA03]に分類される特許

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【課題】化粧料配合原料として有用な新規共重合体及びこれを配合する化粧料を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシエチルアクリルアミドと、下記構造式(I)および/または(II)で示される不飽和単量体とを共重合して得られることを特徴とする共重合体。
(I)


(II)


式中、R1は水素原子またはメチル基、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1から4の直鎖アルキル基を示す。XはNHを示すかまたは存在しない。Yは酸の共役塩基、ハロゲン原子または炭素数1から4のアルキルサルフェート基を示す。 (もっと読む)


【課題】離型性ベースフィルム等の一般に低濡れ性の表面に形成される層と、その上に形成される別の層とからなる転写層が設けられた転写材において、良好な層間密着性を実現し、しかもその別の層に「はじき」や「ピンホール」等を生じさせないようにする。
【解決手段】離型性ベースフィルムとその上に設けられた転写層とを有する転写材の当該転写層を、光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を少なくとも1層含むものから構成する。ここで、硬化性樹脂組成物は、成分(A)不飽和結合を有する有機カルボン酸の2価または3価の金属とからなる固体状光重合性金属塩、成分(B)光重合性エチレン系不飽和化合物、 および成分(C)光重合開始剤を、特定の配合比率で含有する。 (もっと読む)


【課題】 低誘電率、低吸水性、高耐熱性、耐熱分解性、耐薬品性、および無色透明性な光学特性を兼ね備えたフッ素含有脂環式構造重合体およびその製造方法、並びに該重合体を含有してなる組成物および成形体を提供することを目的とする。
【解決手段】 フッ化アルキル基を含有する化合物で変性された、フッ素含有脂環式構造重合体、好ましくは厚みが1mmである板状成形体における黄色度YI値が10以下であるフッ素含有脂環式構造重合体および製造方法並びに該重合を含有してなる組成物および成形体の提供。 (もっと読む)


【課題】 有機電子写真感光体において、耐摩耗性、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に感光層にクラックや膜剥がれが生じにくく、高耐久性、高性能、低価格な電子写真感光体等を提供する。
【解決手段】 電子写真感光体において、該架橋型電荷輸送層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと下記一般式(1)で表される電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化することにより形成されることを特徴とする。
【化1】
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【課題】化粧料配合原料として有用な新規共重合体及びこれを配合する化粧料を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシエチルアクリルアミドと、下記構造式(I)で示される不飽和単量体とを共重合して得られることを特徴とする共重合体及びこれを含有する化粧料である。


(I)
式中、R1は水素原子またはメチル基、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1から12の直鎖若しくは分枝アルキル基又はフェニル基を示す。 (もっと読む)


本発明にかかる一実施態様は、ノルボルネン型ポリマー及びそれから形成される感光性絶縁性樹脂組成物に関する。他の実施態様は、該組成物から形成されるフィルムに関し、および、そのフィルムを含む電気、電子およびオプトエレクトロデバイス等の装置に関する。 (もっと読む)


【課題】重合開始剤などの有害な化学薬品を用いて重合反応を行わせる化学合成法に代わって、酵素を用いた付加重合反応によって、ポリマー微粒子を製造する技術を提供する。
【解決手段】乳化安定剤の存在下に、酵素を用いて乳化液中の付加重合性モノマーを重合反応させてポリマー微粒子を得る、ポリマー微粒子の製造方法。 (もっと読む)


含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位および/または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体に由来する構造単位を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Yまたは酸反応性基Yに変換可能な基Yを有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体および/または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を式(1):


(式中、R50、R51は同じかまたは異なり炭素数1〜30のエーテル結合を含んでも良い炭化水素基(ただし、結合末端の原子は酸素原子ではない)、p1、p2は同じかまたは異なる0または1、p3は1または2)で示される有機パーオキサイドを用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法および得られた重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該含フッ素重合体は、真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にF2レジスト用として超微細パターンを形成することができる。
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【課題】 LERの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2−1)[式中、Rは水素原子又は低級アルキル基であり;Aは2価の有機基であり;Bは1価の有機基であり;Xは硫黄原子又はヨウ素原子であり;nは1又は2であり;Yは少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。]で表される構成単位(a2)と、極性基含有脂肪族多環式基を含む(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを有する高分子化合物。
【化1】
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【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。式中に示されるカルボキシル基は塩の形態であってもよい)
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 (もっと読む)


本発明は、粒状物およびモノリス、その製造方法、およびその使用、例えば、クロマトグラフィー分離材料を含む多孔性無機/有機の均質な共重合体ハイブリッド材料に関する。 (もっと読む)


【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 (もっと読む)


深紫外線、特に193および248nmでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するArFおよびKrfフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 (もっと読む)


【課題】新規な閉環重合モノマーと、そのようなモノマーから誘導されたポリマーおよびコポリマーの提供。
【解決手段】一般式(I)の化合物:


(式中、XおよびYは、独立に、P(O)(OR およびSO よりなる群から選ばれる;ただし、XおよびYの少なくとも一つはP(O)(ORである。;R,R〜R は種々の基である。)で表わされる閉環重合モノマー及び閉環重合モノマーを重合したポリマーおよびコポリマー。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からPeng−Robinson式を用いて算出した臨界定数の換算温度が0.95以上、換算圧力が0.80以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式(1):
f1・Ix (1)
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも1種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物、および一般式(2):
CH2=CH(CF2nI (2)
で示される化合物を共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法である。 (もっと読む)


本発明は、特定の中和剤で中和された、ポリエチレングリコール(メタ)アクリラートモノマー、カチオン性モノマー、及び場合によっては両性、アニオン性及び/又は親水性の非イオン性モノマーを含有する、新規のエチレン性コポリマーに関する。また本発明は、前記コポリマーを含有する特定の化粧品用又は製薬用組成物、並びに該コポリマーの調製方法、及びそれらを使用する美容処理方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 第1の目的は、低濃度での増粘性に優れた中和粘稠液を与えるカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法を提供すること。第2の目的は、低濃度での増粘性に優れた中和粘稠液を与えると共に、高濃度においても容易に水に分散、溶解が可能なカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明は、α,β−不飽和カルボン酸と、エチレン性不飽和基を2個以上有する化合物とを、ラジカル重合開始剤の存在下に反応させるカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法において、下記一般式(1);
【化1】


(式中、RおよびRは、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を、nは1または2を示す。)で表される(メタ)アクリル酸誘導体の存在下、好ましくは不活性溶媒中で反応させることを特徴とするカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(I)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、R1、R2のうち少なくとも一方は炭化水素基である。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)
で表される少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。Rbは酸脱離性基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 (もっと読む)


本発明は、以下の
A)式(I)及び(II)[式中、Rはそれぞれ互いに無関係に水素又はメチル基であり、Rはそれぞれ互いに無関係に直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族又は脂環式の基又は置換又は非置換の芳香族又は複素芳香族の基であり、かつm及びnはそれぞれ互いに無関係に0以上の整数であるが、m+n>0を意味する]の化合物並びにB)式(I)及び(II)の化合物とは異なる少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー(A)を含有する混合物に関する。また本発明は前記混合物の重合法法、こうして得られる高透明ポリマー並びにその使用に関する。
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